JP2013026436A - インプリント方法及びインプリントシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】インプリント方法は、被加工膜上に光硬化性有機材料を塗布する工程と、テンプレートの凹凸パターンを前記光硬化性有機材料に接触させる工程と、前記テンプレートを前記光硬化性有機材料に接触させた状態で、前記テンプレートに力を加える工程と、前記テンプレートを前記光硬化性有機材料に接触させた状態で、前記光硬化性材料に光を照射し、前記光硬化性材料を硬化させる工程と、前記光の照射後に、前記テンプレートを前記光硬化性材料から離型する工程と、を備える。前記テンプレートに加える力は、前記被加工膜の表面と前記テンプレートとの間隔に対応した大きさである。
【選択図】図4
Description
12 インプリント材料
13 テンプレート
14 残膜
100 インプリントシステム
110 インプリント装置
120 合わせずれ測定装置
130 残膜厚測定装置
140 補正量算出装置
Claims (5)
- 被加工膜上に光硬化性有機材料を塗布する工程と、
テンプレートの凹凸パターンを前記光硬化性有機材料に接触させる工程と、
前記テンプレートを前記光硬化性有機材料に接触させた状態で、前記被加工膜の表面と前記テンプレートとの間隔に対応した残膜厚に基づく力を前記テンプレートに加える工程と、
前記テンプレートを前記光硬化性有機材料に接触させた状態で、前記光硬化性材料に光を照射し、前記光硬化性材料を硬化させる工程と、
前記光の照射後に、前記テンプレートを前記光硬化性材料から離型する工程と、
を備えることを特徴とするインプリント方法。 - 前記残膜厚が薄いほど、前記テンプレートに加える力を大きくすることを特徴とする請求項1に記載のインプリント方法。
- 前記テンプレートを前記光硬化性有機材料に接触させた後、前記テンプレートに力を加える前に、前記テンプレートに形成されたアライメントマークと、前記被加工膜に形成されたアライメントマークとを用いて、前記テンプレートと前記被加工膜の位置合わせを行うことを特徴とする請求項1に記載のインプリント方法。
- 被加工膜上に光硬化性有機材料を塗布する塗布部、凹凸パターンが形成されたテンプレートを移動させる移動部、前記光硬化性有機材料を硬化させるための光を照射する光照射部、及び前記テンプレートに力を加えて形状を補正する加圧部を有し、インプリント処理により前記被加工膜上に転写パターンを形成するインプリント装置と、
前記転写パターンと、前記被加工膜に形成されている下地パターンとの合わせずれを測定する合わせずれ測定装置と、
前記転写パターンの複数箇所における残膜厚を測定する残膜厚測定装置と、
前記転写パターンの合わせずれが所定値以下であり、かつ前記残膜厚のばらつきが所定範囲内であった場合に、前記転写パターンの形成時に前記テンプレートに加えた力と、この転写パターンの残膜厚との組み合わせを記憶する記憶部を有する補正量算出装置と、
を備えるインプリントシステム。 - 前記補正量算出装置は、前記インプリント装置に設定される加工条件に含まれる残膜厚を取得し、前記記憶部を検索し、この残膜厚に対応した前記テンプレートに加える力を抽出して、前記インプリント装置に指示し、
前記インプリント装置が前記加工条件でインプリント処理を行う際に、前記加圧部は前記補正量算出装置に指示された力を前記テンプレートに加えることを特徴とする請求項4に記載のインプリントシステム。
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