JP2013023407A - 金属酸化物膜形成用組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、[A]原子番号23〜78の金属元素からなる群より選ばれる少なくとも1種の金属元素(a)と、−O−O−、−O−S−、−O−O−SO2−O−、−O−SO2−O−O−SO2−O−及び−O−C(=O)−O−O−からなる群より選ばれる少なくとも1種の配位子(b)とを含む化合物、[B]界面活性剤、並びに[C]溶媒を含有する金属酸化物膜形成用組成物である。
【選択図】なし
Description
[A]原子番号23〜78の金属元素からなる群より選ばれる少なくとも1種の金属元素(a)と、−O−O−、−O−S−、−O−O−SO2−O−、−O−SO2−O−O−SO2−O−及び−O−C(=O)−O−O−からなる群より選ばれる少なくとも1種の配位子(b)とを含む化合物(以下、「[A]化合物」とも称する)、
[B]界面活性剤、並びに
[C]溶媒
を含有する金属酸化物膜形成用組成物である。
金属元素(a)の金属単体、金属オキソ酸、金属オキソ酸塩、金属酸化物、金属水酸化物、金属アルコキシド、金属ハロゲン化物及び金属オキシハロゲン化物からなる群より選ばれる少なくとも1種と、
過酸化水素、チオ過酸化水素、過硫酸、ペルオキソ二硫酸及び過炭酸からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物
との反応生成物であることが好ましい。
本発明の金属酸化物膜形成用組成物は、[A]化合物、[B]界面活性剤及び[C]溶媒を含有する。また、当該金属酸化物膜形成用組成物は、本発明の効果を損なわない限り、その他の任意成分を含有してもよい。以下、各成分を詳述する。
[A]化合物は、原子番号23〜78の金属元素からなる群より選ばれる少なくとも1種の金属元素(a)と、−O−O−、−O−S−、−O−O−SO2−O−、−O−SO2−O−O−SO2−O−及び−O−C(=O)−O−O−からなる群より選ばれる少なくとも1種の配位子(b)とを含む化合物である。なお、[A]化合物は2種以上を併用してもよい。
酢酸イオン、プロピオン酸イオン等のカルボン酸イオン;
アセチルアセトネートイオン、メチルアセチルアセトネートイオン、ベンゾイルアセトネートイオン等のβ−ジケトネートイオン;
メチラートイオン、エチラートイオン等のアルコラートイオン;
フェノラートイオン、メチルフェノラートイオン等のフェノラートイオン;
F−、Cl−、Br−、I−等のハロゲン化物アニオン;
O2−、NO3 −、CN−、ClO4 −、HSO4 −、H2PO4 −、BF4 −、PF6 −、SbF6 −、脂肪族スルホネートアニオン、芳香族スルホネートアニオン、フッ素化アルカンスルホネートアニオン;
アンモニアメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、ピリジン等の含窒素中性配位子;
トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスファイト等の含リン中性配位子等が挙げられる。
[A]化合物の合成方法について、金属元素(a)として好ましいタングステンを使用し、過酸化水素と反応させる場合を例に説明する。
[B]界面活性剤としては、例えばノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤等が挙げられる。なお、[B]界面活性剤は2種以上を併用してもよい。
アセチレン基含有界面活性剤;
ポリオキシエチレン(POE)オクチルエーテル、POE(2−エチル−ヘキシル)エーテル、POEラウリルエーテル、POEミリスチルエーテル、POEセチルエーテル、POEステアリルエーテル、POEオレイルエーテル、POEイソステアリルエーテル、POEベヘニルエーテル、POEセチルステアリルジエーテル等のPOEアルキルエーテル;
POE・ポリオキシプロピレン(POP)ブチルエーテル、POE・POPラウリルエーテル、POE・POPセチルエーテル、POE・POPグリコール等のPOEポリオキシプロピレンアルキルエーテル型;
POEオクチルフェニルエーテル、POEノニルフェニルエーテル、POEクロロフェニルエーテル、POEナフチルエーテル等のPOEアリールエーテル;
POE硬化ひまし油エーテル、POEひまし油エーテル;
その他POEラノリンアルコールエーテル、POEフィトステロール等のPOE高級アルコールエーテル;
モノステアリン酸POEグリセリル、オレイン酸POEグリセリル等のPOEグリセリン脂肪酸エステル;
モノラウリン酸POEソルビタン、モノステアリン酸POEソルビタン、トリステアリン酸POEソルビタン、モノイソステアリン酸POEソルビタン等のPOEソルビタン脂肪酸エステル;
ヘキサステアリン酸POEソルビトール、テトラステアリン酸POEソルビトール、テトラオレイン酸POEソルビトール、モノラウリン酸POEソルビトール等のPOEソルビトール脂肪酸エステル;
ポリエチレングリコールモノラウリン酸、ポリエチレングリコールモノステアリン酸、ポリエチレングリコールモノオレイン酸、ポリエチレングリコールジステアリン酸、ポリエチレングリコールジオレイン酸、ポリエチレングリコールジイソステアリン酸等のポリエチレングリコール脂肪酸エステル;
ポリエチレングリコールラノリン脂肪酸エステル等のエーテルエステル系;
モノステアリン酸グリセリル、自己乳化型モノステアリン酸グリセリル、モノヒドロキシステアリン酸グリセリル、ジステアリン酸グリセリル等のグリセリン脂肪酸エステル;
モノステアリン酸ジグリセリル、モノオレイン酸ジグリセリル、ジオレイン酸ジグリセリル、モノイソステアリン酸ジグリセリル、モノステアリン酸テトラグリセリル、トリステアリン酸テトラグリセリル、ペンタステアリン酸テトラグリセリル、モノラウリン酸ヘキサグリセリル、モノミリスチン酸ヘキサグリセリル、ジステアリン酸デカグリセリル、ジイソステアリン酸デカグリセリル等のポリグリセリン脂肪酸エステル;
モノラウリン酸ソルビタン、モノステアリン酸ソルビタン、モノオレイン酸ソルビタン、トリオレイン酸ソルビタン、トリステアリン酸ソルビタン、モノイソステアリン酸ソルビタン等のソルビタン脂肪酸エステル;
モノラウリン酸エチレングリコール、ジステアリン酸エチレングリコール等のエチレングリコール脂肪酸エステル;
モノステアリン酸プロピレングリコール、自己乳化型モノステアリン酸プロピレングリコール等のプロピレングリコール脂肪酸エステル;
モノステアリン酸ペンタエリスリトール、モノオレイン酸ペンタエリスリトール等のペンタエリスリトール脂肪酸エステル;
マルチトールヒドロキシ脂肪酸エーテル、アルキル化多糖、アルキル(ポリ)グルコシド、シュガーエステル等の糖誘導体;
α−モノイソステアリルグリセリルエーテル等のアルキルグリセリルエーテル;
アセチル−モノグリセリド、乳酸モノグリセリド、クエン酸モノグリセリド等の有機酸モノグリセリド;
ヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド、ラウロイルモノエタノールアミド、ミリストイルモノエタノールアミド、ラウロイルジエタノールアミド、ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド、ラウロイルイソプロパノールアミド、ミリストイルイソプロパノールアミド、ヤシ油脂肪酸イソプロパノールアミド、POEラウロイルモノエタノールアミド、ヤシ油脂肪酸メチルモノエタノールアミド、ヤシ油脂肪酸メチルジエタノールアミド等の脂肪酸アルカノールアミド;
POEラウリルアミン、POEステアリルアミン等のPOEアルキルアミン;
ラウリルジメチルアミンオキサイド、ココジメチルアミンオキサイド、ココアミドプロピルジメチルアミンオキサイド等のアミンオキサイド等が挙げられる。
ポリアリールアルカンスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ジアルキルスルホコハク酸、アルキルベンゼンスルホン酸、α−オレフィンスルホン酸、POEアルキルフェニルエーテルスルホン酸、POEアルキルエーテルスルホコハク酸ハーフエステル等のスルホン酸型界面活性剤;
ポリアクリル酸、ポリメタアクリル酸、ポリマレイン酸、マレイン酸とオレフィンとの共重合物、アクリル酸とイタコン酸との共重合物、メタアクリル酸とイタコン酸との共重合物、マレイン酸とスチレンとの共重合物、アクリル酸とメタアクリル酸との共重合物、アクリル酸とアクリル酸メチルエステルとの共重合物、アクリル酸と酢酸ビニルとの共重合物、アクリル酸とマレイン酸との共重合物等のカルボン酸型界面活性剤;
POEアルキルエーテル硫酸エステル、POEアルキルフェニルエーテル硫酸エステル、POEベンジルフェニルエーテル硫酸エステル、POEスチリルフェニルエーテル硫酸エステル、POEスチリルフェニルエーテルのポリマーの硫酸エステル、POEポリオキシプロピレンブロックポリマーの硫酸エステル、硫酸化オレフィン等の硫酸エステル型界面活性剤等が挙げられる。
ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ミリスチルトリメチルアンモニウムクロライド、パルミチルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、オレイルトリメチルアンモニウムクロライド、セチルトリメチルアンモニウムクロライド、ベヘニルトリメチルアンモニウムクロライド、ヤシ油アルキルトリメチルアンモニウムクロライド、牛脂アルキルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロミド、ヤシ油アルキルトリメチルアンモニウムブロミド、セチルトリメチルアンモニウムメチル硫酸等のモノアルキル第四級アンモニウム塩;
ジオクチルジメチルアンモニウムクロライド、ジラウリルジメチルアンモニウムクロライド、ジステアリルジメチルアンモニウムクロライド等のジアルキル第四級アンモニウム塩;
ラノリン脂肪酸アミノプロピルエチルジメチルアンモニウムエチル硫酸、ラウロイルアミノエチルメチルジエチルアンモニウムメチル硫酸等のアシルアミノアルキル第四級アンモニウム塩;
ジパルミチルポリエテノキシエチルアンモニウムクロライド、ジステアリルポリエテノキシメチルアンモニウムクロライド等のアルキルエテノキシ第四級アンモニウム塩;
ラウリルイソキノリニウムクロライド等のアルキルイソキノリニウム塩;
ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、ステアリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド等のベンザルコニウム塩;
ベンジルジメチル{2−[2−(p−1,1,3,3、−テトラメチルブチルフェノキシ)エトキシ]エチル}アンモニウムクロライド等のベンゼトニウム塩;
セチルピリジニウムクロライド等のピリジニウム塩;
イミダゾリニウム塩;
N−ココイルアルギニンエチルエステルピロリドンカルボン酸塩、N−ラウロイルリジンエチルエチルエステル塩酸塩等のアシル塩基性アミノ酸アルキルエステル塩;
ラウリルアミン塩酸塩等の第一級アミン塩;ジラウリルアミン酢酸塩等の第二級アミン塩;第三級アミン塩;
脂肪酸アミドグアニジニウム塩;
ラウリルトリエチレングリコールアンモニウムハイドロオキサイド等のアルキルトリアルキレングリコールアンモニウム塩等が挙げられる。
[C]溶媒としては、特に限定されないが、各成分を均一に溶解又は分散し、各成分と反応しないものが用いられる。このような[C]溶媒としては、純水が好ましい。また、[C]溶媒は、有機溶媒を80質量%以上含有することが好ましい。
当該金属酸化物膜形成用組成物は、[A]化合物、[B]界面活性剤及び[C]溶媒に加え、所期の効果を損なわない範囲において、接着助剤、保存安定剤等のその他の任意成分を含有してもよい。これらのその他の任意成分は、それぞれを2種以上併用してもよい。以下、各成分を詳述する。
接着助剤は、当該金属酸化物膜形成用組成物から形成される金属酸化物膜と基板、又は無機膜との接着性をより向上させることができる成分である。接着助剤としては、例えばカルボキシル基、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、オキシラニル基等の反応性官能基を有する官能性シランカップリング剤が挙げられる。具体的には、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等が挙げられる。
保存安定剤としては、例えば硫黄、キノン類、ヒドロキノン類、ポリオキシ化合物、アミン、ニトロニトロソ化合物等が挙げられる。具体的には、4−メトキシフェノール、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム等が挙げられる。
本発明の金属酸化物膜形成用組成物は、[A]化合物及び[B]界面活性剤に加え、所期の効果を損なわない範囲で、その他の任意成分を所定の割合で[C]溶媒に混合することで調製される。
多層レジストプロセスは、例えば
(1)無機膜形成用組成物を用い、被加工基板上に無機膜を形成する工程、
(2)当該金属酸化物膜形成用組成物を用い、上記無機膜上に金属酸化物膜を形成する工程、
(3)レジスト組成物を用い、上記金属酸化物膜上にレジスト膜を形成する工程、
(4)フォトマスクを介して放射線の照射により、上記レジスト膜を露光する工程、
(5)上記露光されたレジスト膜を現像し、レジストパターンを形成する工程、及び
(6)上記レジストパターンをマスクとした1又は複数回のドライエッチングにより、被加工基板にパターンを形成する工程
を有する。以下、各工程を詳述する。
本工程では、無機膜形成用組成物を用い、被加工基板上に無機膜を形成する。上記被加工基板としては、例えばシリコンウェハ、アルミニウムで被覆されたウェハ等の従来公知の基板等が挙げられる。無機膜形成用組成物としては例えば特公平6−12452号公報や特開昭59−93448号公報等に開示されている従来公知の組成物等が挙げられる。
本工程では、当該金属酸化物膜形成用組成物を用い、上記無機膜上に金属酸化物膜を形成する。当該金属酸化物膜の形成方法としては、上述の無機膜の形成方法と同様の方法が適用できる。
工程(3)〜(5)では、金属酸化物膜上にレジスト組成物を塗布し、露光、加熱及び現像し、レジストパターンを形成する。レジスト組成物としては、例えば光酸発生剤を含有するポジ型又はネガ型の化学増幅型レジスト組成物、アルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド系感光剤とからなるポジ型レジスト組成物、アルカリ可溶性樹脂と架橋剤とからなるネガ型レジスト組成物等が挙げられる。なお、本発明のパターン形成方法においては、このようなレジスト組成物として、市販品のレジスト組成物を使用することもできる。レジスト組成物の塗布方法としては、例えばスピンコート法等の従来の方法によって塗布することができる。なお、レジスト組成物を塗布する際には、得られるレジスト塗膜が所望の膜厚となるように、塗布するレジスト組成物の量を調整する。
本工程では、上記レジストパターンをマスクとした1又は複数回のドライエッチングにより、被加工基板にパターンを形成する。ドライエッチングは、公知のドライエッチング装置を用いて行うことができる。また、ドライエッチング時のソースガスとしては、被エッチング物の元素組成にもよるが、O2、CO、CO2等の酸素原子を含むガス、He、N2、Ar等の不活性ガス、Cl2、BCl4等の塩素系ガス、CHF3、CF4等のフッ素系ガス、H2、NH3のガス等を使用することができる。なお、これらのガスは混合して用いることもできる。
[実施例1]
メタタングステン酸アンモニウム(日本無機化学工業製、WO3換算で90.8質量%)8.58gをイオン交換水112.1gに溶解させ、メタタングステン酸アンモニウム水溶液を調製した。内径30mmのカラムに200cm3のプロトン型陽イオン交換樹脂(Amberlite 200CT、ロームアンドハース製)を充填した。調製したメタタングステン酸アンモニウム水溶液を上記陽イオン交換樹脂に約10cm3/分〜20cm3/分の速度で通過させ、溶出後のpHが酸性を呈した時点で回収を開始し、メタタングステン酸アンモニウム水溶液の供給完了後、さらにイオン交換水を供給し、溶出液が再び中性に戻った時点で回収を終了した。さらに、水溶液中のタングステン酸濃度が4質量%になるように調製した。回収したタングステン酸水溶液は約200gであった。得られた溶出液100gに過酸化水素水10g(31質量%)を添加し室温で1時間攪拌した。その後、溶液を95℃まで加熱し1.5時間攪拌した。室温まで冷却した後に、[A]化合物としての透明溶液に、[C]溶媒としての純水を加えてペルオキシタングステン酸溶液を得た。このペルオキシタングステン酸溶液100gに[B]界面活性剤としてのノニオン系アセチレン基含有界面活性剤(日信化学製、サーフィノール465)1gを添加し、金属酸化物膜形成用組成物を調製した。
界面活性剤を含有しなかったこと以外は、実施例1と同様に操作して、金属酸化物膜形成用組成物を調製した。
調製した各金属酸化物膜形成用組成物を5cm角のシリコンウェハー(基板A)及びポリジメチルシロキサン樹脂を塗布した5cm角のシリコンウェハー(基板B)に塗布し、均一塗布性を評価した。塗布方法としては、上記基板A及びBに、各金属酸化物膜形成用組成物を約1cc滴下した後、基板をスピンコーター(ミカサ製、MS−A100)で1,000回転/分で回転した。塗布後の均一塗布性を目視で確認した。塗膜が均一に形成されていた場合を均一塗布性が良好と判断し、塗膜が均一に形成されていなかった場合を均一塗布性が不良と判断した。
Claims (7)
- [A]原子番号23〜78の金属元素からなる群より選ばれる少なくとも1種の金属元素(a)と、−O−O−、−O−S−、−O−O−SO2−O−、−O−SO2−O−O−SO2−O−及び−O−C(=O)−O−O−からなる群より選ばれる少なくとも1種の配位子(b)とを含む化合物、
[B]界面活性剤、並びに
[C]溶媒
を含有する金属酸化物膜形成用組成物。 - 金属元素(a)が、ジルコニウム、モリブデン、ハフニウム及びタングステンからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属元素である請求項1に記載の金属酸化物膜形成用組成物。
- [A]化合物が、
金属元素(a)の金属単体、金属オキソ酸、金属オキソ酸塩、金属酸化物、金属水酸化物、金属アルコキシド、金属ハロゲン化物及び金属オキシハロゲン化物からなる群より選ばれる少なくとも1種と、
過酸化水素、チオ過酸化水素、過硫酸、ペルオキソ二硫酸及び過炭酸からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物
との反応生成物である請求項1又は請求項2に記載の金属酸化物膜形成用組成物。 - [B]界面活性剤が、ノニオン系界面活性剤である請求項1、請求項2又は請求項3に記載の金属酸化物膜形成用組成物。
- [B]界面活性剤の含有量が、0.01質量%以上10質量%以下である請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の金属酸化物膜形成用組成物。
- [C]溶媒が、有機溶媒を80質量%以上含有する請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の金属酸化物膜形成用組成物。
- 多層レジストプロセスに用いられる請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の金属酸化物膜形成用組成物。
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