JP2013011816A - レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法 - Google Patents
レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013011816A JP2013011816A JP2011145779A JP2011145779A JP2013011816A JP 2013011816 A JP2013011816 A JP 2013011816A JP 2011145779 A JP2011145779 A JP 2011145779A JP 2011145779 A JP2011145779 A JP 2011145779A JP 2013011816 A JP2013011816 A JP 2013011816A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- methylated
- piperazine
- ether
- hydroxyethyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
【解決手段】 モルホリン・ギ酸塩を含むレジスト剥離剤を用いて銅配線用レジスト又はアルミ配線用レジストを剥離する。
【選択図】 なし
Description
MO:モルホリン、
PMEDA:エチレンジアミンのメチル化体、
HEM:N−(2−ヒドロキシエチル)モルホリン、
NMF:N−メチルホルムアミド、
NMP:N−メチル−2−ピロリドン、
MDG:ジエチレングリコールモノメチルエーテル
DMAc:N,N−ジメチルアセトアミド。
○:剥離性良好(120秒以内に除去可能)、
×:120秒間処理後、大部分残存していた。
シリコン基板上に銅が成膜された基板、及びシリコン基板上にアルミが成膜された基板を用い、パターニングされたポジ型フォトレジストをマスクとして、その腐食評価を行った。すなわち、これらの基板を表1に示す剥離剤に60℃で120秒間、若しくは90秒間浸漬し、その後、水洗いし、乾燥した。基板上のレジストの有無を光学顕微鏡及び走査型電子顕微鏡で観察して、レジストの剥離性を評価した。また、これらの基板を表1に示す剥離剤に50℃で30分間浸漬し、腐食速度を測定して、銅、アルミの腐食を評価した。
Claims (8)
- モルホリン・ギ酸塩を含むことを特徴とするレジスト剥離剤。
- レジスト剥離剤中のモルホリン・ギ酸塩の量が0.1重量%以上10重量%以下であることを特徴とする請求項1に記載のレジスト剥離剤。
- さらに水及び/又は水溶性有機溶媒を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のレジスト剥離剤。
- 水溶性有機溶媒が、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−2−ピロリドン、N−プロピル−2−ピロリドン、N−ヒドロキシエチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、及びジプロピレングリコールモノブチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項3に記載のレジスト剥離剤。
- さらにアミン類を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のレジスト剥離剤。
- アミン類が、モノエタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミンなどのモノエタノールアミンのN−メチル化体、モノエタノールアミンのN−エチル化体、2−アミノエトキシエタノール、2−アミノエトキシエタノールのN−メチル化体、N−エチル化体、N−(2−アミノエチル)エタノールアミン、N−(2−アミノエチル)エタノールアミンのメチル化体、N−(2−アミノエチル)エタノールアミンのエチル化体、N−(2−ヒドロキシエチル)ピペラジン、N−(2−ヒドロキシエチル)ピペラジンのメチル化体、N−(2−ヒドロキシエチル)ピペラジンのエチル化体、エチレンジアミン、エチレンジアミンのメチル化体、ジエチレントリアミン、ジエチレントリアミンのメチル化体、トリエチレンテトラミン、トリエチレンテトラミンのメチル化体、テトラエチレンペンタミン、テトラエチレンペンタミンのメチル化体、ピペラジン、ピペラジンのメチル化体、N−(2−アミノエチル)ピペラジン、N−(2−アミノエチル)ピペラジンのメチル化体、N−(2−ヒドロキシエチル)モルホリン及びモルホリンからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項5に記載のレジスト剥離剤。
- レジスト剥離剤の水溶液がアルカリ性を示すことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のレジスト剥離剤。
- 請求項1〜7のいずれかに記載のレジスト剥離剤を用いて銅配線用レジスト又はアルミ配線用レジストを剥離することを特徴とするレジスト剥離方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011145779A JP2013011816A (ja) | 2011-06-30 | 2011-06-30 | レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011145779A JP2013011816A (ja) | 2011-06-30 | 2011-06-30 | レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013011816A true JP2013011816A (ja) | 2013-01-17 |
Family
ID=47685726
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011145779A Ceased JP2013011816A (ja) | 2011-06-30 | 2011-06-30 | レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013011816A (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4215005A (en) * | 1978-01-30 | 1980-07-29 | Allied Chemical Corporation | Organic stripping compositions and method for using same |
JPH08502367A (ja) * | 1992-09-28 | 1996-03-12 | デユコーア・エル・ピー | N,n−ジメチル−ビス(2−ヒドロキシエチル)第4アンモニウムヒドロオキサイドを使用するフォトレジストの剥離方法 |
WO2005043610A1 (ja) * | 2003-10-30 | 2005-05-12 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 不飽和ジカルボン酸およびエチレン尿素を含む半導体用洗浄液組成物および洗浄方法 |
JP2006011297A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Kanto Chem Co Inc | フォトレジスト残渣及びポリマー残渣除去組成物 |
WO2006129538A1 (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-07 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | ホスホン酸を含む半導体ウェハ洗浄用組成物及び洗浄方法 |
-
2011
- 2011-06-30 JP JP2011145779A patent/JP2013011816A/ja not_active Ceased
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4215005A (en) * | 1978-01-30 | 1980-07-29 | Allied Chemical Corporation | Organic stripping compositions and method for using same |
JPH08502367A (ja) * | 1992-09-28 | 1996-03-12 | デユコーア・エル・ピー | N,n−ジメチル−ビス(2−ヒドロキシエチル)第4アンモニウムヒドロオキサイドを使用するフォトレジストの剥離方法 |
WO2005043610A1 (ja) * | 2003-10-30 | 2005-05-12 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 不飽和ジカルボン酸およびエチレン尿素を含む半導体用洗浄液組成物および洗浄方法 |
JP2006011297A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Kanto Chem Co Inc | フォトレジスト残渣及びポリマー残渣除去組成物 |
WO2006129538A1 (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-07 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | ホスホン酸を含む半導体ウェハ洗浄用組成物及び洗浄方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6277511B2 (ja) | レジスト剥離液 | |
CN101454872B (zh) | 光刻胶剥离剂组合物和用该光刻胶剥离剂组合物剥离光刻胶的方法 | |
JP4628209B2 (ja) | 剥離剤組成物 | |
KR101668126B1 (ko) | 포토레지스트 박리제 조성물 및 포토레지스트 박리 방법 | |
TW201504775A (zh) | 用於移除光阻之剝離劑組成物及使用其之光阻剝離方法 | |
TW201413402A (zh) | 光阻劑剝離液組成物 | |
JP2012032757A (ja) | レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法 | |
JP2012018982A (ja) | レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離法 | |
JP5678616B2 (ja) | レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法 | |
JP2001022095A (ja) | ポジ型レジスト用剥離液 | |
KR101511736B1 (ko) | 포토레지스트용 스트리퍼 조성물 | |
JP5504692B2 (ja) | 防食剤及びその用途 | |
JP2006169553A (ja) | 防食用組成物 | |
JP5533383B2 (ja) | レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法 | |
JP4474776B2 (ja) | レジスト剥離剤 | |
KR20140044482A (ko) | 전자소자용 세정액 조성물 | |
JP4165209B2 (ja) | レジスト剥離剤 | |
JP2013011816A (ja) | レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法 | |
JP2012255909A (ja) | レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法 | |
JP4470328B2 (ja) | レジスト剥離剤 | |
KR101733729B1 (ko) | 포토레지스트 박리액 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 박리 방법 | |
JP2004205674A (ja) | レジスト剥離剤 | |
JP2015230333A (ja) | レジスト剥離剤及びそれを用いたレジスト剥離方法 | |
JP5321389B2 (ja) | レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法 | |
JP4501248B2 (ja) | レジスト剥離剤 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140520 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150130 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150203 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150312 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150721 |
|
A045 | Written measure of dismissal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20151124 |