JP2012530814A5 - - Google Patents

Claims (20)

1. キャストフィルムの形態構造を制御する方法であって、押し出し物の流量に従い、ｋｇ／ｈｒ当たり少なくとも０．４ｃｍ³／ｓのガス冷却速度で該フィルム上にガスを吹き付けることにより該キャストフィルムの冷却速度を制御して、該キャストフィルムを押し出す工程を含む、方法。
2. 前記ガスは空気である、請求項１に記載の方法。
3. ６０〜９０の延伸比でフィルムを押し出すことにより前記キャストフィルムを調製する、請求項１に記載の方法。
4. 前記フィルムは、厚さが２０μｍ〜６０μｍである、請求項１に記載の方法。
5. 前記ガス冷却速度は、押し出し物の流量に従い、ｋｇ／ｈｒ当たり０．５ｃｍ³／ｓ〜９ｃｍ³／ｓである、請求項１に記載の方法。
6. 前記ガス冷却速度は、押し出し物の流量に従い、ｋｇ／ｈｒ当たり０．５ｃｍ³／ｓ〜５．５ｃｍ³／ｓである、請求項５に記載の方法。
7. 前記ガス冷却速度は、少なくとも押し出し物の流量の２乗に比例する、請求項１に記載の方法。
8. 前記ガス冷却速度は、少なくとも押し出したフィルムの幅の逆数に比例する、請求項１に記載の方法。
9. 前記フィルムは、ダイを用いて押し出され、少なくとも一つの冷却ドラム上に巻かれる、請求項１に記載の方法。
10. 前記少なくとも一つの冷却ドラムは、温度が８０℃〜１３０℃である、請求項９に記載の方法。
11. 前記少なくとも一つの冷却ドラムは、温度が９０℃〜１２０℃である、請求項９に記載の方法。
12. 前記フィルムは、ポリプロピレン、直鎖ポリプロピレン、ポリエチレン、及び高密度ポリエチレンから選択されたポリマーを含む、請求項１に記載の方法。
13. 請求項１に記載の方法を用いて前記キャストフィルムの形態構造を制御して該キャストフィルムを調製する工程と、該フィルムをアニールする工程と、該フィルムを延伸させる工程とを含む、微孔膜を調製する方法。
14. 前記フィルムは、その融点よりも低い温度でアニールする、請求項１３に記載の方法。
15. 前記フィルムは、１２０℃〜１４０℃でアニールする、請求項１４に記載の方法。
16. 前記フィルムは、第一の温度で延伸し、前記フィルムは、第二の温度で延伸する、請求項１３に記載の方法。
17. 前記第一の温度は１５℃〜４０℃であり、前記第二の温度が１００℃〜１４０℃である、請求項１６に記載の方法。
18. 前記フィルムは、前記第一の温度で３０％〜４０％延伸し、前記フィルムは、前記第二の温度で５０〜６０％延伸するか、または
    前記フィルムは、前記第一の温度で５０％〜６０％延伸し、前記フィルムは、前記第二の温度で７０〜８０％延伸する、請求項１７に記載の方法。
19. 請求項１に記載の方法で、前記キャストフィルムの形態構造を制御することにより調製された、少なくとも二枚のキャストフィルムを含む、多層微孔膜。
20. 多層キャストフィルムを調製する工程と、該フィルムをアニールする工程と、該フィルムを延伸させる工程とを含み、該多層キャストフィルムは、第一ポリプロピレン層、ポリエチレン層、及び第二ポリプロピレン層をこの順序で含む、微孔膜を調製する方法。