JP2012529631A - 流体内の汚染物質を検出する検出方法及び検出デバイス - Google Patents

Abstract

本発明は、流体（１）内の汚染物質を検出する検出方法及び検出デバイスに関する。粒子によって汚染された流体（２）は、第１の測量ポンプ（３）によって、汚染された流体（２）における汚染状態又は粒子密度を測定する測定デバイス（４）まで移送される。この検出方法及び検出デバイスは、汚染状態を測定する測定デバイス（４）に進入する前に、流体が浄化された流体（５）と所定の混合比で混合され、混合された流体（６）の粒子密度又は汚染状態が測定され、汚染された流体（２）の粒子密度又は汚染状態が演算ユニット（７）によって決定されることをそれぞれ特徴とする。

Description

本発明は、特許請求の範囲の請求項１の前段に記載される流体内の汚染物質を検出する検出方法に関し、また、該検出方法を実行するための同請求項４に記載される検出デバイスに関する。

流体、特に潤滑油などは、システム又はデバイスの動作に際して、強磁性体粒子又は他の金属粒子その他汚染物質の粒子の形態を有する汚染物質の連続的な侵入にさらされる。ここで、用途に応じて定まる汚染物質の或る最大濃度が、システム又はデバイスの動作において許容され得る。特に、鉄鋼業又は重工業において使用されるような圧延油においては、特定の状況下で大量の汚染物質が導入されるものの、それらの含有物は、従来技術に係るセンサによってはほとんど特定されない。

このようなデバイスは、例えば特許文献１に開示されている。流体内の強磁性体粒子の含有物を検出するセンサは、永久磁石によって形成される一次磁気回路を有している。一次磁気回路には、流体に露出され得る空隙が形成されていて、粒子が空隙近傍において収集されるようになっている。センサは、収集される汚染物質に応じて定まる磁束の変化を検出するホール素子をさらに有している。比例検出信号は、流体内の汚染物質の粒子の含有物においてもたらされる。誘導コイルを備える二次磁気回路は、空隙における磁界が完全に消磁されるまで、永久磁石の一次磁気回路を打ち消すように形成される。このようにして、空隙内に収集された粒子の分離が可能になる。しかしながら、流体の汚染状態を決定するための公知のセンサ及び測定方法は、汚染物質の実質的な侵入又は金属粒子の侵入に対して本質的に不適切である。

欧州特許第２９０３９７号明細書

したがって、本発明の目的は、流体内の非常に高濃度の汚染物質を決定するデバイス及び該デバイスを動作させる方法を特定することである。

この目的は、請求項１に記載される検出方法及び請求項４に記載される検出デバイスによって達成される。
このデバイスにおいて、汚染された流体は、センサ又は汚染状態を測定するための測定デバイスに送られる前に、清浄化されていて粒子を含まない所定量の非汚染流体を追加することによって、測定デバイスによって測定可能な粒子密度になる程度まで希釈され、流体の汚染状態の程度が公知の測定方法によって決定され得るようになる。そして、希釈されていない流体の粒子密度又は汚染状態の程度が、制御手段及び調整手段のうちの少なくとも一方又は演算ユニットによって計算される。それら２つの流体の基本構成は同一であるのが好ましい。

第１の例示的な実施形態において、汚染された流体及び清浄化された流体は、タンクによって、かつ混合弁の両方によっても表され得る混合手段において互いに混合される。

前記検出方法を実行するためのデバイスにおいて、測量回路、すなわち流体圧システムが位置しており、それにより、汚染された流体が第１のポンプ又は測量ポンプによって汚染物質を測定する測定デバイスに送られる。

未処理の汚染された流体、例えば圧延油を輸送するように形成される測量ポンプは、流れ方向から見て第１の弁Ｖ₁の上流に位置している。第１の弁Ｖ₁は３／２方制御弁として形成されるのが好ましい。この第１の弁Ｖ₁の動作位置に応じて、汚染された流体は測量回路内をタンクまで移動可能であるか、又は主流体圧システムの連通部位の方向において中継可能である。

さらに、このデバイスは、汚染された流体及び清浄化された流体のうちの少なくとも一方をセンサまで送達する第２の測量ポンプを備える主要回路を有している。第３の弁Ｖ₃及び第４の弁Ｖ₄は、測量回路の弁とともに、清浄化された流体及び汚染された流体のための清浄化モード又は混合モードを実施するように形成される。さらに、それとともに、２つの回路のための測定モード又は排出モードが表され得る。

測量回路及び主要回路の機能的組合せは、制御手段及び調整手段のうちの少なくとも一方によって影響を被り得る。それにより、測量回路が準備モード又は待機モードに留まるとともに、主要回路がセンサの上流における汚染状態を排除する清浄化モードに移行されるようになる。

流体内の汚染物質を検出するための示唆された本発明に係る検出方法は、好ましくは以下の動作モードによって動作され得る。タンク内に位置する油を清浄化するために、第１の弁Ｖ₁が使用可能位置に在り、それにより圧延油の形態を有する高度に汚染された流体が、第１の測量ポンプによって、連通部位の方向において主流体圧システムまで移送されることが提供される。第１の測量ポンプは、単位時間当りに大量の流体を移送し続け、それにより主流体圧システム内のラインが洗い流され得るとともに、沈殿が防止され得るようになる。したがって、その時点の汚染状態の範囲の圧延油は、主流体圧システムまで戻るように移送される。

この目的のためにバルブＶ₂に対して測量回路から分離されていた主要回路は、測量デバイスが迂回されるような動作可能位置を有している。弁Ｖ₃，Ｖ₄は切替えられ、それにより、閉回路において、タンクからの流体が弁Ｖ₄に隣接するフィルタを通って移送され、清浄化されてタンクに戻るようになる。また、このようにして、単位時間当りの他の測量ポンプの送達量が高くなる。

「測定」動作モードにおいて、タンク内に収容される混合油の清浄度を確認する目的で、測量回路が前述したように主要回路から再び分離され、このようにして流体を測量デバイスに通して送るために、バイパス弁としての弁Ｖ₂は閉塞位置に維持される。さらに、弁Ｖ₄は、清浄化フィルタが迂回されるように切替えられる。この測定動作において、主要回路の第２の測量ポンプの送達量は小さくなるように選定される。

「混合」及び「測量」動作モードにおいて、混合タンクにつながる測量回路が動作状態にあり、すなわち弁Ｖ₁が切替えられて、それにより主流体圧システムの汚染された流体がタンク内に移動するようになる。

弁Ｖ₁の循環作用を介して、又は第１の測量ポンプを通じて単位時間当りの流体送達量を対応して低下させることによって、測量される追加が行われる。次いで、主要回路の他の測量ポンプは、単位時間当りの流体送達量が多く、汚染センサＣＳの形態を有する測量デバイスが、切替えられる弁Ｖ₂を介して再び迂回される。弁Ｖ₃，Ｖ₄は、フィルタが再び迂回されるように切替えられ、このようにして、流体が弁Ｖ₄からタンク内に直接戻される。

また、主要回路に対するこの動作位置は、主要回路における流体の「混合作用」に対応する。そして、測量回路は、弁Ｖ₁を切替えることによってタンクから分離され、次いで汚染された流体は、第１の測量ポンプによって、多量の流体送達量で主流体圧システム内に送達され続ける。また、測量ポンプが主要回路から分離される後者の動作位置は、実際の測定プロセス、すなわち実行されるべき測定解析に対応している。しかしながら、この測定プロセスにおいては弁Ｖ₂が閉塞されており、それにより流体が、他の測量ポンプによって少量の流体送達量で、汚染センサの形態を有する測定デバイスを通って送られるようになる。

タンク内における所望の液体高さを超えると、デバイスは排出プロセスにおいて動作され得る。このプロセスにおいて、タンクの流体は、使用可能な弁Ｖ₃によって測定デバイスを迂回して、切替えられた弁Ｖ₂を介して連通部内を主流体圧システムまで直接移動し、そして弁Ｖ₄が閉塞位置になる。この排出動作は、次いでタンク内の最低液体高さに対応し得る所望の液体高さが達成されるまで行われ得る。

別の実施形態において、センサ要素は収集部位に設置されるホール素子である。この収集部位は、特に強磁性体粒子の形態を有する或る量の汚染物質のために意図される。センサ要素は、混合された流体における汚染物質の量を決定し、出力信号を制御手段及び調整手段のうちの少なくとも一方に送信する。数値表を制御手段及び調整手段のうちの少なくとも一方に記憶するのが有利であり得る。この数値表は、或る量の汚染物質の希釈度と、これに関連して高度に非線形であってもよいセンサ要素の出力信号との間の関係を確立する。この数値表は経験的に決定される数値に基づいていてもよい。或いは、制御手段及び調整手段のうちの少なくとも一方において、例えばシミュレーションによって決定された関数が記憶されてもよい。この関数は、流体の希釈度に応じて定まる、収集された汚染物質の量とセンサの出力信号との間の関係を表している。

測定される値に応じて、制御手段及び調整手段のうちの少なくとも一方は、前述した動作モデルを組み合わせて測量回路及び主要回路を制御する。これに関連して、特に金属若しくは強磁性体の粒子或いは汚染物質が検出されるべきである場合に、汚染物質を測定する測定デバイスにおいて、永久磁石の形態を有していて流体の汚染物質を収集する収集部位が位置しているのが有利であり得る。永久磁石は、収集部位において磁界を発生させるのに使用される。コイルがアーマチュアの態様を有する要素を移動させるために形成され得る。それにより、その要素を移動させることによって、収集部位における磁界の強さが変化させられ得るし、収集される汚染物質の少なくとも一部が収集部位から分離される程度、特に測量回路の流体から洗い流され得る程度まで特に低減され得る。

汚染物質を検出する検出方法を実行するデバイスに関連する機能図の形態を有する流体圧図である。 図１に示されるデバイスによって流体内の汚染物質を検出する検出方法のフローチャートである。 異なる動作モードにおいて、図１に係るデバイスの異なる機能図を示す図である。 異なる動作モードにおいて、図１に係るデバイスの異なる機能図を示す図である。 異なる動作モードにおいて、図１に係るデバイスの異なる機能図を示す図である。

本発明の他の利点、特徴及び詳細は、従属請求項と、図面を参照して本発明の例示的な実施形態が詳述される以下の記載とから明らかになるであろう。
図面は概略的であって縮尺通りではない。

図１によると、流体１内の汚染物質を検出するための測定方法を実行するデバイスは、全体として符号１４が付されていて、概略図において示される。図示される例示的な実施形態における流体１は、他の汚染物質、例えばスラグに加えて金属粒子、特に強磁性体粒子からなる非常に多くの含有物を有するとともにそれに対応して高度に汚染されている、詳述されないミルトレイン（ｍｉｌｌ ｔｒａｉｎ）又は圧延手段の圧延油である。
デバイス１４は測量回路１１及び主要回路１２から本質的に構成される。

測量回路１１は、ステッピングモータ駆動部を有する第１の測量ポンプ３を有している。第１の測量ポンプ３は、粒子を含む汚染された流体２を移送する。第１の弁Ｖ₁は３／２方制御弁として形成されていて、使用可能位置において図１に示されている。この使用可能位置において、シェービングセンサ（ｓｈａｖｉｎｇｓ ｓｅｎｓｏｒ）１５を介して送られる汚染された流体２は、主流体圧システムの連通部１８に送られ、したがって、示されたミルトレインまで還流により供給される。示されたシェービングセンサ１５は任意であって、測定手段及び希釈手段の実際の機能のために決定的に必要ではないものの、なお詳述されるべきである。第３の弁Ｖ₃は、第１の弁Ｖ₁のように３／２方制御弁として同様に形成される。第３の弁Ｖ₃は、図１に示される動作位置において第４の弁Ｖ₄への通路位置に在る。第１の弁Ｖ₁は、他の動作位置において、汚染された流体２を混合手段８の一部であるタンク９まで送達するのをさらに可能にする。混合手段８は、タンク９と、この場合には第２の弁Ｖ₂とを備えている。しかしながら、この第２の弁は、このデバイスの基本機能のために決定的に必要ではない。

主要回路１２は、タンク８と、測量回路１１のための排出部位１６と、第２の測量ポンプ１３とを、流体１の汚染状態を測定する測定デバイス４とともに本質的に備えている。測定デバイス４には、汚染された流体２と、タンク８内の清浄化された流体５とからなる所定の混合物、すなわち或るタイプの混合された流体６が供給され得る。

流体１の汚染状態を測定する測定デバイス４は、例えばドイツ国特許出願１０ ２００６ ００５ ９５６．５号明細書に記載される、いわゆる汚染センサＣＳであり得る。これら汚染センサＣＳは光に基づく粒子センサの態様により作動する。すなわち、粒子は、光電バリアなどを通過した後に寸法及び数に従って決定され、それにより、以下に詳述される測定流体を希釈する態様が重要性を増すようになる。確定可能でかつ調整可能な枠組みの範囲内において本発明に従って示される流体媒体の希釈化又は分散化のみによって、検出されるべき粒子が統計的分布により流体内に個別に存在しており、それにより、光に基づくセンサがまさに応答できるようになる。希釈化によるこの分離なしでは、特に一般的な粒子汚染に対する計数的大きさが存在しないことに起因して、汚染の程度がどのように実際に表されるのか全く示されることなく、粒子によって不透明化された流体のみが規定され得る。実行されるべき希釈化は、使用されるべき各光センサの測定の品質に主として向けられる。

汚染物質を測定する測定デバイス４の下流に配置される圧力制御弁１７は、泡立せることのない予め組込まれた測定デバイス４の動作を提供する。さらに、第２の測量ポンプ１３と汚染センサＣＳとの間において、長さが任意に形成され得る流体の流入部分がループの形態で表されている。２／２方制御弁として形成される第２の弁Ｖ₂はバイパス弁又は混合弁１０として使用され、これに関連して、測定デバイス４及び圧力制御弁１７がバイパスされ得る。３／２方制御弁として同様に形成される第３の弁Ｖ₃及び第４の弁Ｖ₄の、図１に示される動作位置に関連して、混合された流体６はタンク８内に還流でき、第４の弁Ｖ₂の動作位置に応じて、追加のフィルタ１９を通る流れが発生され得るか、又は発生され得なくなる。しかしながら、図１に示される回路図において、いかなる場合においてもフィルタ１９を通る流れが存在する。第２の弁Ｖ₂は必ずしも必要ではなく、第２の弁Ｖ₂が省略されるときのそれぞれの場合において、汚染センサＣＳ及び圧力制御弁１７を通る流れが存在する。

第１の弁Ｖ₁、第３の弁Ｖ₃及び第４の弁Ｖ₄は３／２方制御弁として形成されており、それによりこれに関連して使用される弁モジュールが同一の構成要素として形成されるようになる。このことはハードウェアコストの削減を補助し、それにより、全体のデバイスが経済的に生産され得るようになる。すべての弁は電磁的に作動され得るのが好ましいが、このことは簡潔さのために詳述されない。

制御手段及び調整手段（詳述されない）のうちの少なくとも一方の一部であり得る、又は流体内の汚染状態を測定する測定デバイス４の一部であり得る演算ユニット７は、測定デバイス４によって決定される汚染物質の粒子の含有量を、主流体圧システムからの粒子汚染状態とともに、未混合の流体２内の汚染物質の粒子の実際の含有量まで遡って計算する。この実施例における流体圧システムはミルトレインから圧延油を輸送する。当然ながら、示される圧延油に代えて、およそ高度に汚染されていて粒子が侵入した他の任意の形態の流体が前述した方法及びデバイスを介して処置されてもよい。

図２は、図１に示されるデバイス１４によって汚染物質を検出する多数の動作モード又は検出方法のうちの１つをフローチャートの形態で記している。第１の動作モード（モード１）の範囲内において、測量回路１１は待機モードであり、主要回路１２は清浄化モードＲである。

別の動作状態「油の清浄化動作」が図３及び破線で示されるライン部分に表されている。好ましくは、大量の流体がステッピングモータ駆動部及び測量ポンプ３によって動作回路を通って移動し、例えば接続されたラインを洗い流す。このことによって沈殿が防止され、その時点での汚染状態を伴う流体が、流入側から連通部１８を介して主流体圧システムまで供給され続ける。ここで、弁Ｖ₁は図示される使用可能位置に在る。

主要回路１２（太線により示される）には、フィルタ１９を介して適宜送られる清浄化された流体が供給される。ここで、第２の弁Ｖ₂、第３の弁Ｖ₃及び第４の弁Ｖ₄は図示される動作位置に在り、それにより第２の測量ポンプ１３によって発生される流体流が、第３の弁Ｖ₃及び第４の弁Ｖ₄によって、汚染センサＣＳ又は測定デバイス４を通過して送られるとともに、これに関連して閉塞された循環によってタンク９に戻され得るようになる。この循環は、流体５が所定の純度に達するまで繰返される。フィルタ１９を介するこの油の清浄化プロセスにおいて、ステッピングモータ駆動部は、主要回路１２における単位時間当り大量の流体の範囲内において第２の測量ポンプ１３とともに動作する。

清浄化された流体５と汚染された流体２とを混合させる純粋な混合動作において、弁Ｖ₄が切替えられ、それによりフィルタ１９が次いでバイパスされるようになる。さらに、汚染された流体２と所定の態様で混合される清浄化された流体５によって、モード２又は混合モードＭに変更できる。このことは図４に概ね対応している。図４は「混合及び測量処理」を示している。測量回路１１（破線により示される）は用意された供給モードＶにシフトし、この供給モードＶにおいて、汚染された流体２が混合手段８に供給される。混合手段８は、ここではタンク９の形態を有している。特に好適に方法を進行させるためには、タンク９と弁Ｖ₁との間の接続ラインが特に短く、例えば１０ｃｍよりも短いライン長を有するように選定されるように寸法決めされるべきであることが分かっている。この変更プロセス又は混合プロセスにおいて、測量ポンプ３は単位時間当り少量の汚染された流体２のみを送達する。測量ポンプ３を介する低充填作用の代わりに、弁Ｖ₁が循環動作に対応してしてもよい。この循環動作において、圧延油を伴う主ラインからの或る部分量は、段階的に測量回路１１に入れられる。この場合、演算ユニット７が弁Ｖ₁のための循環動作を引き継ぐ。

第３の弁Ｖ₃及び第４の弁Ｖ₄は、図４に示されるように図示された動作位置に在る。この動作位置において、フィルタ１９はこのモードに移行し、それにより第２の測量ポンプ１３からの流体が、次いで単位時間当りに大きい流量で混合手段８まで送られるようになる。

確定可能な待機時間又は休止時間の後、モード３への変更がなされる。このモード３において、測量回路１１は汚染された流体２の混合手段８への供給モードＺになっており、主要回路１２（次いで太線により示される）は混合モードＭに留まる。ここでの第１の弁Ｖ₁の動作位置においては、汚染された流体２が混合手段８まで移送されるようになっている。次いで図４に示されるように、第２の弁Ｖ₂の動作位置並びに第３の弁Ｖ₃の動作位置及び第４の弁Ｖ₄の動作位置においては、混合された流体６が汚染物質を測定する測定デバイス４を通過して混合手段８まで閉回路を移動するようになっている。

所望の純度レベルに応じて、汚染された流体２と清浄化された流体５との間の好適な混合比は、１：１０と約１：１５０との間、すなわち、例えば１０ミリリットルの清浄化された流体５に対して１ミリリットルの汚染された流体２が存在するように設定されるのが好ましい。測量回路１１を介する汚染された流体のこの混合処理の前に、確定可能な量の清浄化された流体５が予めタンク９内に在る必要がある。説明目的のために、図面におけるタンク９内の液体高さは、タンク９の最低液体高さに関連することに留意されたい。

確定可能な待機時間が再び経過した後、主要回路１２（次いで太線により示される）における方法は、いわゆる測定モードＭＭ（モード５）にシフトする。図５に示される動作を表すものに対応するこの測定動作において、測量回路１１は動作モードになっている。この動作モードにおいては、図２に表わされるものに類似しており、汚染された流体が流入側から連通部１８を介して主流体圧システムまで直接送られる。この主要回路がどのように稼働するかは、次いで破線により示されている。第２の弁Ｖ₂は図示される閉塞位置に在り、第４の弁Ｖ₄及び第３の弁Ｖ₃は、混合された流体６が汚染物質を測定する測定デバイス４を通って送られる図示される動作位置に在るものの、フィルタ１９は依然として省略される。次いで、測量ポンプ３が単位時間当りに大量の流体を送達するとともに、測量ポンプ１３は少量を送達する。要求される測定値は、偏差量が在る境界範囲を超えないと直ちに個別に決定される。

図２がさらに示すように、別の動作モード（モード４）がモード５とモード３との間において切替えられる。この動作モードにおいて、測量回路１１は供給部Ｖの用意にシフトされるとともに、主要回路１２は混合モードＭにシフトされる。モード６において、測量回路１１は待機モードになっている。追加して付与される排出部において、タンク９内における所望の液体高さが試みられるとともに、弁Ｖ₃の使用可能な動作位置において、主要回路１２の流体の量が還流として連通部１８を介して主流体圧システム内に戻される。そして、動作モードとしてのモード１への変更が再びなされ得る。

本発明に係る方法の簡略化される実施形態（図示せず）において、デバイスに加えて、タンク９が（排出部位１６に加えて）省略されてもよい。流出側における弁Ｖ₁は、測量回路１１を介して第２の測量ポンプ１３の流入側に直接切替えられる。この場合、弁Ｖ₁と測量ポンプ１３との間の接続ラインは、次いで、第２の測量ポンプ１３の流入部と汚染センサＣＳの流入部との間において短い接続部が意図されるのと同様に短く選定される。対応して簡略化される実施形態において、バイパス弁又は混合弁Ｖ₂が、圧力制御弁１７とともにさらに省略されてもよい。既に述べたように、シェービングセンサ１５が省略されてもよい。既に述べたように測量ポンプ３の連通部を介して、好ましくは弁Ｖ₁の循環動作によって、要求される混合処理が行われる。そして、弁Ｖ₁は、汚染された流体２を測量回路１１内にまとめて移送できる。

図示されないさらに簡略化される実施形態において、粒子汚染状態である汚染された流体、例えば圧延油は、定量的に制御されて、測量ポンプ３を介して第２の測量ポンプ１３の流入部まで直接送られる。そして、第２の測量ポンプ１３は、汚染物質を測定する測定デバイス４を流出側に有しており、第２の測量ポンプ１３の分岐上流において、第２の測量ポンプ１３は、新たな油を供給源、例えば樽から移送する。この極めて単純な解決手段においては、弁制御部ひいては作動される必要のある弁が全くなくてもよい。そして、この手法により汚染センサＣＳを介して測定された流体は、次いで例えばミルトレインの形態を有する主流体圧システムまで戻される。

タンク９又は測量ポンプ３と測量ポンプ１３との間における示された分岐部の代わりに、詳細には確定されないものの、次いで演算ユニット７を介して作動されるとともに混合処理を担う混合弁が位置していてもよい。さらに、詳述されない実施形態の測定混合デバイスにおいて、弁Ｖ₁から直接延びる供給ラインを備えた測量回路１１が汚染センサＣＳの上流に切替えられ得る。このことは、デバイスが可能な全ての弁ブロックに一体化するのを補助する。したがって、供給ラインは、汚染センサＣＳへの流体部分において、他方の測量ポンプ１３の下流において終端する。

Claims (17)

1. 流体（１）内の汚染物質を検出する検出方法であって、
   粒子により汚染された流体（２）は、第１の測量ポンプ（３）によって、汚染された流体内の汚染状態又は粒子密度を測定する測定デバイス（４）まで移送される、検出方法において、
   汚染状態を測定する前記測定デバイス（４）に進入する前の粒子により汚染された流体（２）を清浄化された流体（５）と所定の混合比で混合し、混合された流体（６）の粒子密度又は汚染状態を測定するとともに、汚染された流体（２）の粒子密度又は汚染状態を演算ユニット（７）によって決定することを特徴とする、検出方法。
2. 汚染された流体（２）と清浄化された流体（５）とを混合手段（８）において互いに混合することを特徴とする、請求項１に記載の流体（１）内の汚染物質を検出する検出方法。
3. 前記混合手段（８）がタンク（９）及び混合弁のうちの少なくとも一方であることを特徴とする、請求項２に記載の流体（１）内の汚染物質を検出する検出方法。
4. 請求項１から３のいずれか１項に記載の検出方法を実行するための検出デバイスであって、
   測量回路（１１）が位置しており、該測量回路（１１）とともに、前記第１の測量ポンプ（３）によって、汚染された流体（２）が汚染物質を測定する前記測定デバイス（４）まで移送され、
   第１の弁（Ｖ₁）が前記第１の測量ポンプ（３）の下流に位置しており、前記測量回路（１１）は、前記第１の弁（Ｖ₁）の動作位置に応じて、汚染された流体（２）をタンク（９）内に、又は連通部（１８）の方向において主流体圧システムまで移送することを特徴とする、検出デバイス。
5. 主要回路（１２）が、汚染された流体（２）及び清浄化された流体（５）を、汚染状態を測定する前記測定デバイス（４）まで移送する第２の測量ポンプ（１３）を備えており、第３の弁（Ｖ₃）及び第４の弁（Ｖ₄）が形成されており、前記主要回路（１２）の前記第３の弁（Ｖ₃）及び第４の弁（Ｖ₄）の動作位置に応じて、洗浄化モード（Ｒ）と、洗浄化された流体（５）及び汚染された流体（２）のための混合モード（Ｍ）と、測定モード（ＭＭ）と、前記測量回路（１１）及び前記主要回路（１２）のうちの少なくとも一方のための排出モードとのうちのいずれかが動作され得ることを特徴とする、請求項４に記載の検出デバイス。
6. 前記測量回路（１１）及び前記主要回路（１２）の組合体が位置しており、それにより、前記測量回路（１１）が待機モードにおいて動作されるとともに、前記主要回路（１２）が清浄化モード（Ｒ）において動作されるようになることを特徴とする、請求項５に記載の検出デバイス。
7. 前記第１の測量ポンプ（３）が動作状態にあり、前記第１の弁（Ｖ₁）は、流体を前記主流体圧システムに通す連通部が確立される動作位置に在り、前記第２の弁（Ｖ₂）、前記第３の弁（Ｖ₃）及び前記第４の弁（Ｖ₄）が動作位置を有しており、それにより、清浄化された流体（５）を含む流体流が前記タンク（９）から前記第２の測量ポンプ（１３）を介して前記第２の弁（Ｖ₂）まで移動して、前記第３の弁（Ｖ₃）及び前記第４の弁（Ｖ₄）を介してフィルタ（１９）まで送られるとともに、前記タンク（９）まで再び戻るようになることを特徴とする、請求項６に記載の検出デバイス。
8. 前記測量回路（１１）及び前記主要回路（１２）の組合体が位置しており、それにより、前記測量回路（１１）が、汚染された流体（２）を前記混合手段（８）まで供給するための準備モード（Ｖ）において動作されるとともに、前記主要回路（１２）が汚染された流体（２）及び清浄化された流体（５）のための混合モード（Ｍ）になることを特徴とする、請求項５に記載の検出デバイス。
9. 前記第１の測量ポンプ（３）が動作状態にあり、前記第１の弁（Ｖ₁）が、汚染された流体（２）を前記タンク（９）まで送る動作位置に在り、前記第２の弁（Ｖ₂）が、前記第３の弁（Ｖ₃）及び前記第４の弁（Ｖ₄）とともに１つの動作位置に在り、
   流体流が、前記流体（１）の汚染状態を測定する前記測定デバイス（４）を迂回するとともに前記フィルタ（１９）を迂回して、前記第２の測量ポンプ（１３）から前記混合手段（８）に送られることを特徴とする、請求項８に記載の検出デバイス。
10. 前記測量回路（１１）及び前記主要回路（１２）の組合体が位置しており、それにより、前記測量回路（１１）が汚染された流体（２）のための供給モード（Ｚ）になるとともに、前記主要回路（１２）が汚染された流体（２）及び清浄化された流体（５）のための混合モード（Ｍ）になることを特徴とする、請求項５に記載のデバイス。
11. 前記第１の測量ポンプ（３）が動作状態にあり、前記第１の弁（Ｖ₁）が汚染された流体（２）を混合手段（８）内に移送し、前記第２の弁（Ｖ₂）、前記第３の弁（Ｖ₃）及び前記第４の弁（Ｖ₄）の動作位置は、汚染状態を測定する前記測定デバイス（４）における混合された流体（６）が前記混合手段（８）を通過して該混合手段（８）に再び送られるようになることを特徴とする、請求項１０に記載の検出デバイス。
12. 前記測量回路（１１）及び前記主要回路の組合体が位置しており、それにより、前記測量回路（１１）が汚染された流体（２）を供給する準備モード（Ｖ）になるとともに、前記主要回路（１２）が測定モード（ＭＭ）になることを特徴とする、請求項５に記載の検出デバイス。
13. 前記第１の測量ポンプ（３）が動作状態にあり、前記第１の弁（Ｖ₁）が汚染された流体（２）を前記主流体圧システムまで送り、前記第２の弁（Ｖ₂）が閉塞位置に在り、それにより、混合された流体（６）が汚染状態を測定する前記測定デバイス（４）を通って送られるとともに、前記第３の弁（Ｖ₃）及び前記第４の弁（Ｖ₄）が１つの動作位置に在り、測定された流体が前記タンク（９）まで戻ることを特徴とする、請求項１２に記載の検出デバイス。
14. 前記測量回路（１１）及び前記主要回路（１２）の組合体が位置しており、それにより、前記測量回路（１１）における汚染された流体（２）が移動せず、清浄化された流体（５）及び混合された流体（６）のうちの少なくとも一方が、前記混合手段（８）から前記主要回路（１２）まで排出され得るようになることを特徴とする、請求項５に記載のデバイス。
15. 前記第２の弁（Ｖ₂）が動作位置を呈しており、それにより汚染された流体（２）が前記第３の弁（Ｖ₃）まで送られ、該第３の弁（Ｖ₃）から、汚染された流体（２）が連通部（１８）を介して前記主流体圧システムまで送られ、前記第４の弁（Ｖ₄）が閉塞動作位置を呈しており、該第４の弁（Ｖ₄）が前記測量回路（１１）及び前記主要回路（１２）の排出を可能にするとともに、前記第１の弁（Ｖ₁）が汚染された流体を前記主流体圧システムの前記連通部（１８）まで同様に通過させることを特徴とする、請求項１４に記載の検出デバイス。
16. デバイス（１４）がセンサ要素（ＣＳ）、例えば光センサ又はホールセンサを備えており、該センサ要素（ＣＳ）が汚染粒子の数量を決定し、前記弁（Ｖ₁，Ｖ₂，Ｖ₃，Ｖ₄）及び前記測量ポンプ（３，１３）によって、前記測量回路（１１）及び前記主要回路（１２）を制御する制御手段及び調整手段のうちの少なくとも一方に前記数量を送信することを特徴とする、請求項４から請求項１５のいずれか１項に記載の検出デバイス。
17. デバイス（１４）が汚染物質を収集する収集部位を有するとともに、磁界を生成する永久磁石とコイルとを前記収集部位において備えており、エネルギが前記コイルに付与されると、前記デバイス（１４）の要素が移動可能になり、該要素が移動されると、前記収集部位における前記磁界の強さが変更可能になることを特徴とする、請求項７から請求項１６のいずれか１項に記載の検出デバイス。

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