JP2012522358A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012522358A5 JP2012522358A5 JP2012501137A JP2012501137A JP2012522358A5 JP 2012522358 A5 JP2012522358 A5 JP 2012522358A5 JP 2012501137 A JP2012501137 A JP 2012501137A JP 2012501137 A JP2012501137 A JP 2012501137A JP 2012522358 A5 JP2012522358 A5 JP 2012522358A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- attenuator
- euv
- optical system
- illumination optical
- illumination
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/EP2009/002247 WO2010108516A1 (en) | 2009-03-27 | 2009-03-27 | Illumination optical system for euv microlithography and euv attenuator for an illumination optical system of this kind, illumination system and projection exposure installation having an illumination optical system of this kind |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012522358A JP2012522358A (ja) | 2012-09-20 |
| JP2012522358A5 true JP2012522358A5 (OSRAM) | 2016-09-15 |
| JP6041304B2 JP6041304B2 (ja) | 2016-12-07 |
Family
ID=41403048
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012501137A Expired - Fee Related JP6041304B2 (ja) | 2009-03-27 | 2009-03-27 | Euvマイクロリソグラフィ用の照明光学系、この種の照明光学系用のeuv減衰器、及びこの種の照明光学系を有する照明系及び投影露光装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9482959B2 (OSRAM) |
| JP (1) | JP6041304B2 (OSRAM) |
| CN (1) | CN102365587B (OSRAM) |
| WO (1) | WO2010108516A1 (OSRAM) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102012207377A1 (de) * | 2012-05-03 | 2013-11-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik sowie optisches System für die EUV-Projektionslithographie |
| DE102012210174A1 (de) * | 2012-06-18 | 2013-06-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Bauelement |
| EP3514630B1 (en) | 2013-06-18 | 2022-06-22 | ASML Netherlands B.V. | Free electron laser and method of generating an euv radiation beam using the same |
| DE102013218131A1 (de) * | 2013-09-11 | 2015-03-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik sowie Beleuchtungssystem für die EUV-Projektionslithographie |
| DE102013218749A1 (de) * | 2013-09-18 | 2015-03-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungssystem sowie Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie |
| US9575412B2 (en) * | 2014-03-31 | 2017-02-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method and system for reducing pole imbalance by adjusting exposure intensity |
| DE102017211443A1 (de) * | 2017-07-05 | 2019-01-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Metrologiesystem mit einer EUV-Optik |
| DE102019202868A1 (de) * | 2019-03-04 | 2020-09-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Aktuatoreinrichtung und Verfahren zur Ausrichtung eines optischen Elements, optische Baugruppe sowie Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102019206868A1 (de) | 2019-05-13 | 2019-07-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Feldfacettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102019206867A1 (de) | 2019-05-13 | 2019-07-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Element für eine Projektionsbelichtungsanlage |
| CN118151351A (zh) * | 2024-03-25 | 2024-06-07 | 上海镭望光学科技有限公司 | 一种照明系统远心度补偿方法及补偿装置 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10138313A1 (de) | 2001-01-23 | 2002-07-25 | Zeiss Carl | Kollektor für Beleuchtugnssysteme mit einer Wellenlänge < 193 nm |
| DE19955984A1 (de) | 1999-11-20 | 2001-05-23 | Zeiss Carl | Optische Abbildungsvorrichtung, insbesondere Objektiv mit wenigstens einer Systemblende |
| US6771352B2 (en) * | 2002-03-18 | 2004-08-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7333178B2 (en) * | 2002-03-18 | 2008-02-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP3809817B2 (ja) | 2002-12-19 | 2006-08-16 | 株式会社村田製作所 | 誘電体フィルタ、誘電体デュプレクサおよび通信装置 |
| WO2004068564A1 (ja) * | 2002-12-26 | 2004-08-12 | Nikon Corporation | 照明光学系、照明装置、投影露光装置、及び露光方法 |
| JP4356695B2 (ja) * | 2003-05-09 | 2009-11-04 | 株式会社ニコン | 照明光学系、投影露光装置、マイクロデバイスの製造方法 |
| JP5026788B2 (ja) * | 2003-07-30 | 2012-09-19 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィの照明システム |
| US7023524B2 (en) | 2003-12-18 | 2006-04-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP2006128321A (ja) * | 2004-10-27 | 2006-05-18 | Nikon Corp | 照明光学系、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
| JP2008544531A (ja) * | 2005-06-21 | 2008-12-04 | カール ツァイス エスエムテー アーゲー | 瞳ファセットミラー上に減衰素子を備えた二重ファセット照明光学系 |
| JP5068271B2 (ja) * | 2006-02-17 | 2012-11-07 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ照明システム、及びこの種の照明システムを含む投影露光装置 |
| EP2020679A4 (en) | 2006-05-25 | 2011-04-13 | Nikon Corp | OPTICAL LIGHTING DEVICE, EXPOSURE DEVICE AND DEVICE MANUFACTURING METHOD |
| DE102007061194A1 (de) * | 2006-12-18 | 2008-06-19 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungssystem für die EUV-Mikro-Lithografie, Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Mikro-Lithografie, Verfahren zur Korrektur der Elliptizität und/oder der Uniformität innerhalb einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage, Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils sowie mit dem Herstellungsverfahren hergestelltes Bauteil |
| US7990520B2 (en) * | 2006-12-18 | 2011-08-02 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Microlithography illumination systems, components and methods |
| JP4962203B2 (ja) | 2007-08-08 | 2012-06-27 | 株式会社ニコン | Euv露光装置、露光方法およびデバイス製造方法 |
-
2009
- 2009-03-27 WO PCT/EP2009/002247 patent/WO2010108516A1/en not_active Ceased
- 2009-03-27 JP JP2012501137A patent/JP6041304B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-03-27 CN CN200980158506.2A patent/CN102365587B/zh active Active
-
2011
- 2011-09-01 US US13/223,458 patent/US9482959B2/en not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2012522358A5 (OSRAM) | ||
| CN104335096B (zh) | 分面反射镜 | |
| JP5319789B2 (ja) | 結像光学系及びこの種の結像光学系を有するマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 | |
| JP6041304B2 (ja) | Euvマイクロリソグラフィ用の照明光学系、この種の照明光学系用のeuv減衰器、及びこの種の照明光学系を有する照明系及び投影露光装置 | |
| JP6221160B2 (ja) | ミラーの配置 | |
| JP2014534643A5 (OSRAM) | ||
| JP6010032B2 (ja) | Euv投影露光系のためのミラー、光学系、及び構成要素を生成する方法 | |
| JP6222594B2 (ja) | マイクロリソグラフィ投影露光装置 | |
| JP2017509918A5 (OSRAM) | ||
| JP2010539716A5 (OSRAM) | ||
| JP7573369B2 (ja) | 投影露光装置用の光学系 | |
| JP2011501448A5 (OSRAM) | ||
| JP2010217877A5 (OSRAM) | ||
| JP2011517786A5 (OSRAM) | ||
| JP2010020017A5 (OSRAM) | ||
| TWI539231B (zh) | 成像光學系統、具有此類型成像光學系統之用於微影的投射曝光設備以及用於製造結構化組件的方法 | |
| JP7071436B2 (ja) | Euv投影リソグラフィのための照明光学系及び照明系 | |
| CN106605175B (zh) | 投射光刻的照明光学单元的分面反射镜 | |
| JP6453251B2 (ja) | 投影リソグラフィのための照明光学ユニット | |
| JP2015052797A (ja) | 結像光学系及びこの種の結像光学系を備えたマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 | |
| TW201435515A (zh) | 微影投影曝光設備的光學系統 | |
| WO2017046136A1 (en) | Illumination optical unit for projection lithography | |
| TWI747806B (zh) | 用於投影曝光系統的照明光學單元 | |
| JP4933110B2 (ja) | 投影光学系及びこれを適用した極紫外線リソグラフィ装置 | |
| JP2017526969A (ja) | Euv投影リソグラフィのための照明光学ユニット |