JP2014534643A5 - - Google Patents
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Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102011086345.1 | 2011-11-15 | ||
| DE102011086345A DE102011086345A1 (de) | 2011-11-15 | 2011-11-15 | Spiegel |
| PCT/EP2012/072637 WO2013072377A2 (de) | 2011-11-15 | 2012-11-14 | Anordnung eines spiegels |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014534643A JP2014534643A (ja) | 2014-12-18 |
| JP2014534643A5 true JP2014534643A5 (OSRAM) | 2017-04-06 |
| JP6221160B2 JP6221160B2 (ja) | 2017-11-01 |
Family
ID=47297145
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014541649A Expired - Fee Related JP6221160B2 (ja) | 2011-11-15 | 2012-11-14 | ミラーの配置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9658533B2 (OSRAM) |
| JP (1) | JP6221160B2 (OSRAM) |
| CN (1) | CN104011568B (OSRAM) |
| DE (1) | DE102011086345A1 (OSRAM) |
| WO (1) | WO2013072377A2 (OSRAM) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102010041623A1 (de) * | 2010-09-29 | 2012-03-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel |
| DE102012216502A1 (de) | 2012-09-17 | 2014-03-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel |
| DE102013219583A1 (de) * | 2013-09-27 | 2015-04-02 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102014204818A1 (de) | 2014-03-14 | 2015-09-17 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Bauelement |
| DE102016205695A1 (de) | 2015-04-09 | 2016-10-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Maske für die Projektionslithographie |
| DE102015209175A1 (de) * | 2015-05-20 | 2016-11-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Pupillenfacettenspiegel |
| DE102015216443A1 (de) | 2015-08-27 | 2017-03-02 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung einer Vorrichtung zum Schutz eines in einer Objektebene anzuordnenden Retikels gegen Verschmutzung |
| DE102018201170A1 (de) | 2018-01-25 | 2019-07-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik für die EUV-Mikrolithographie |
| DE102018201169A1 (de) | 2018-01-25 | 2018-03-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Beleuchtung eines Retikels in einer Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102018207107A1 (de) | 2018-05-08 | 2018-06-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel |
| DE102021113780B9 (de) | 2021-05-27 | 2024-08-01 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Charakterisierung einer Maske für die Mikrolithographie |
| DE102022100591B9 (de) | 2022-01-12 | 2023-10-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System, insbesondere zur Charakterisierung einer Maske für die Mikrolithographie, und Strahlteiler zur Verwendung in einem solchen optischen System |
Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6859515B2 (en) | 1998-05-05 | 2005-02-22 | Carl-Zeiss-Stiftung Trading | Illumination system, particularly for EUV lithography |
| DE10329141B4 (de) * | 2003-06-27 | 2008-10-23 | Carl Zeiss Smt Ag | Faltungsgeometrien für EUV-Beleuchtungssysteme |
| DE10136507A1 (de) | 2001-07-17 | 2003-04-03 | Zeiss Carl | Geometrischer Strahlteiler und Verfahren zu seiner Herstellung |
| DE10205425A1 (de) * | 2001-11-09 | 2003-05-22 | Zeiss Carl Smt Ag | Facettenspiegel mit mehreren Spiegelfacetten |
| DE50214375D1 (de) | 2002-02-09 | 2010-05-27 | Zeiss Carl Smt Ag | Facettenspiegel mit mehreren spiegelfacetten |
| DE10261137A1 (de) * | 2002-12-21 | 2004-07-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsoptik für die Lithographie und Spiegel für eine solche |
| US7246909B2 (en) * | 2003-01-24 | 2007-07-24 | Carl Zeiss Smt Ag | Method for the production of a facetted mirror |
| JP2004247484A (ja) * | 2003-02-13 | 2004-09-02 | Canon Inc | ミラー保持装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
| US7548302B2 (en) * | 2005-03-29 | 2009-06-16 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| DE102006014380A1 (de) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage mit negativer Schnittweite der Eintrittspupille |
| DE102007034447A1 (de) * | 2006-07-20 | 2008-01-24 | Carl Zeiss Smt Ag | Kollektor für ein Beleuchtungssystem |
| DE102006056035A1 (de) | 2006-11-28 | 2008-05-29 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektions-Mikrolithographie, Beleuchtungssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem, Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils sowie durch das Verfahren hergestelltes mikrostrukturiertes Bauteil |
| JP5269079B2 (ja) | 2007-08-20 | 2013-08-21 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 反射コーティングを備えたミラー要素を有する投影対物系 |
| DE102008009600A1 (de) | 2008-02-15 | 2009-08-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Facettenspiegel zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikro-Lithographie |
| DE102009034502A1 (de) | 2009-07-24 | 2011-01-27 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische Baugruppe zur Führung eines EUV-Strahlungsbündels |
| WO2010049076A2 (de) | 2008-10-20 | 2010-05-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische baugruppe zur führung eines strahlungsbündels |
| DE102008054844B4 (de) * | 2008-12-17 | 2010-09-23 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie mikrolithographisches Projektionsbelichtungsverfahren |
| DE102009014701A1 (de) * | 2009-03-27 | 2010-09-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische Baugruppe |
| DE102010038748A1 (de) * | 2009-08-07 | 2011-03-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Spiegels mit wenigstens zwei Spiegelflächen, Spiegel einer Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie und Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102009054888A1 (de) * | 2009-12-17 | 2011-06-22 | Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 | Optisches Element mit einer Mehrzahl von refletiven Facettenelementen |
| DE102010001336B3 (de) | 2010-01-28 | 2011-07-28 | Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 | Anordnung und Verfahren zur Charakterisierung der Polarisationseigenschaften eines optischen Systems |
| WO2012000528A1 (en) | 2010-07-01 | 2012-01-05 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical system and multi facet mirror |
| DE102010041623A1 (de) * | 2010-09-29 | 2012-03-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel |
| DE102012216502A1 (de) * | 2012-09-17 | 2014-03-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel |
-
2011
- 2011-11-15 DE DE102011086345A patent/DE102011086345A1/de not_active Ceased
-
2012
- 2012-11-14 WO PCT/EP2012/072637 patent/WO2013072377A2/de not_active Ceased
- 2012-11-14 JP JP2014541649A patent/JP6221160B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2012-11-14 CN CN201280064971.1A patent/CN104011568B/zh not_active Expired - Fee Related
-
2014
- 2014-05-05 US US14/269,276 patent/US9658533B2/en not_active Expired - Fee Related
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