JP2010539716A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2010539716A5
JP2010539716A5 JP2010525245A JP2010525245A JP2010539716A5 JP 2010539716 A5 JP2010539716 A5 JP 2010539716A5 JP 2010525245 A JP2010525245 A JP 2010525245A JP 2010525245 A JP2010525245 A JP 2010525245A JP 2010539716 A5 JP2010539716 A5 JP 2010539716A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
facets
concentrator
plane
reflective surface
downstream
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010525245A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP5654348B2 (ja
JP2010539716A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE102007045396A external-priority patent/DE102007045396A1/de
Application filed filed Critical
Publication of JP2010539716A publication Critical patent/JP2010539716A/ja
Publication of JP2010539716A5 publication Critical patent/JP2010539716A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5654348B2 publication Critical patent/JP5654348B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2010525245A 2007-09-21 2008-09-17 放射線源の放射光を集めるための光束誘導光学集光器 Active JP5654348B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US97412007P 2007-09-21 2007-09-21
DE102007045396A DE102007045396A1 (de) 2007-09-21 2007-09-21 Bündelführender optischer Kollektor zur Erfassung der Emission einer Strahlungsquelle
US60/974,120 2007-09-21
DE102007045396.7 2007-09-21
PCT/EP2008/007756 WO2009036957A1 (en) 2007-09-21 2008-09-17 Bundle-guiding optical collector for collecting the emission of a radiation source

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2010539716A JP2010539716A (ja) 2010-12-16
JP2010539716A5 true JP2010539716A5 (OSRAM) 2011-11-04
JP5654348B2 JP5654348B2 (ja) 2015-01-14

Family

ID=40458599

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010525245A Active JP5654348B2 (ja) 2007-09-21 2008-09-17 放射線源の放射光を集めるための光束誘導光学集光器

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8934085B2 (OSRAM)
JP (1) JP5654348B2 (OSRAM)
DE (1) DE102007045396A1 (OSRAM)
WO (1) WO2009036957A1 (OSRAM)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009007487A1 (de) * 2009-02-05 2010-08-12 Zumtobel Lighting Gmbh Verfahren zum Versehen einer Oberfläche, insbesondere einer optischen Oberfläche mit Facetten
DE102009013812A1 (de) 2009-03-18 2010-09-23 Osram Gesellschaft mit beschränkter Haftung Reflektor, Lichtquellenanordnung sowie Projektorgerät
DE102009047316A1 (de) 2009-11-30 2010-12-23 Carl Zeiss Smt Ag Optische reflektierende Komponente zum Einsatz in einer Beleuchtungsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage der EUV-Mikrolithographie
DE102011076460A1 (de) * 2011-05-25 2012-11-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik
US20130079629A1 (en) * 2011-09-23 2013-03-28 James U. Lemke Passive, noninvasive tomography
US9448343B2 (en) * 2013-03-15 2016-09-20 Kla-Tencor Corporation Segmented mirror apparatus for imaging and method of using the same
US9314980B2 (en) * 2013-03-19 2016-04-19 Goodrich Corporation High correctability deformable mirror
DE102013206981A1 (de) * 2013-04-18 2013-12-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Facettenspiegel mit im Krümmungsradius einstellbaren Spiegel-Facetten und Verfahren hierzu
DE102013218131A1 (de) 2013-09-11 2015-03-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik sowie Beleuchtungssystem für die EUV-Projektionslithographie
DE102014216801A1 (de) * 2014-08-25 2016-02-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Facettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
DE102014217608A1 (de) 2014-09-03 2014-11-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Zuordnen einer zweiten Facette eines im Strahlengang zweiten facettierten Elements einer Beleuchtungsoptik
DE102014217610A1 (de) * 2014-09-03 2016-03-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie
CN104483815B (zh) * 2014-12-08 2016-05-11 上海核电装备焊接及检测工程技术研究中心（筹） 一种射线源对中支撑装置及其固定射线源装置的方法
DE102015201138A1 (de) 2015-01-23 2016-01-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie
DE102015203469A1 (de) 2015-02-26 2015-04-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Erzeugung einer gekrümmten optischen Spiegelfläche
DE102016215235A1 (de) 2016-08-16 2017-06-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Kollektor-Einrichtung und Strahlungsquellen-Modul
DE102019212017A1 (de) 2019-08-09 2021-02-11 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Beleuchtungssystem zur Führung von EUV-Strahlung
DE102020208665A1 (de) 2020-07-10 2022-01-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Beleuchtungssystem zur Führung von EUV-Strahlung
US12346029B2 (en) 2021-05-05 2025-07-01 Nikon Corporation Curved reticle by mechanical and phase bending along orthogonal axes
DE102022207374A1 (de) 2022-07-19 2024-01-25 Carl Zeiss Smt Gmbh EUV-Kollektor für eine EUV-Projektionsbelichtungsvorrichtung
WO2024002672A1 (en) 2022-06-28 2024-01-04 Carl Zeiss Smt Gmbh Euv collector for an euv projection exposure apparatus
DE102022209573A1 (de) 2022-09-13 2023-11-23 Carl Zeiss Smt Gmbh EUV-Kollektor zur Verwendung in einer EUV-Projektionsbelichtungsvorrichtung
DE102023206346A1 (de) 2023-07-04 2024-05-02 Carl Zeiss Smt Gmbh EUV-Kollektor zur Verwendung in einer EUV-Projektionsbelichtungsvorrichtung
US20250258436A1 (en) * 2024-02-09 2025-08-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Euv collector for use in an euv projection exposure apparatus

Family Cites Families (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5339346A (en) 1993-05-20 1994-08-16 At&T Bell Laboratories Device fabrication entailing plasma-derived x-ray delineation
US6229595B1 (en) 1995-05-12 2001-05-08 The B. F. Goodrich Company Lithography system and method with mask image enlargement
JPH1051020A (ja) 1996-08-01 1998-02-20 Hitachi Ltd 集光集積型光発電装置
JP3499089B2 (ja) * 1996-08-06 2004-02-23 シャープ株式会社 集光リフレクタ
JP4238390B2 (ja) 1998-02-27 2009-03-18 株式会社ニコン 照明装置、該照明装置を備えた露光装置および該露光装置を用いて半導体デバイスを製造する方法
EP0955641B1 (de) * 1998-05-05 2004-04-28 Carl Zeiss Beleuchtungssystem insbesondere für die EUV-Lithographie
DE10100265A1 (de) * 2001-01-08 2002-07-11 Zeiss Carl Beleuchtungssystem mit Rasterelementen unterschiedlicher Größe
US6438199B1 (en) 1998-05-05 2002-08-20 Carl-Zeiss-Stiftung Illumination system particularly for microlithography
US7186983B2 (en) 1998-05-05 2007-03-06 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
JP2000098230A (ja) 1998-09-22 2000-04-07 Nikon Corp 反射縮小結像光学系、該光学系を備えた露光装置および、該光学系を用いた露光方法
JP2000098228A (ja) 1998-09-21 2000-04-07 Nikon Corp 投影露光装置及び露光方法、並びに反射縮小投影光学系
DE59914179D1 (de) 1999-02-15 2007-03-22 Zeiss Carl Smt Ag Mikrolithographie-Reduktionsobjektiveinrichtung sowie Projektionsbelichtungsanlage
US6600552B2 (en) 1999-02-15 2003-07-29 Carl-Zeiss Smt Ag Microlithography reduction objective and projection exposure apparatus
DE19931848A1 (de) 1999-07-09 2001-01-11 Zeiss Carl Fa Astigmatische Komponenten zur Reduzierung des Wabenaspektverhältnisses bei EUV-Beleuchtungssystemen
WO2001009684A1 (de) * 1999-07-30 2001-02-08 Carl Zeiss Steuerung der beleuchtungsverteilung in der austrittspupille eines euv-beleuchtungssystems
JP2001185480A (ja) 1999-10-15 2001-07-06 Nikon Corp 投影光学系及び該光学系を備える投影露光装置
TWI283798B (en) * 2000-01-20 2007-07-11 Asml Netherlands Bv A microlithography projection apparatus
JP2002015979A (ja) 2000-06-29 2002-01-18 Nikon Corp 投影光学系、露光装置及び露光方法
DE10052289A1 (de) 2000-10-20 2002-04-25 Zeiss Carl 8-Spiegel-Mikrolithographie-Projektionsobjektiv
EP1327172A1 (de) 2000-10-20 2003-07-16 Carl Zeiss 8-spiegel-mikrolithographie-projektionsobjektiv
KR20040024536A (ko) 2000-12-12 2004-03-20 칼 짜이스 에스엠티 에이지 극한 자외선 리소그래피를 위한 투영 시스템
KR100831706B1 (ko) 2001-01-09 2008-05-22 칼 짜이스 에스엠티 에이지 극자외선 리소그라피를 위한 투영시스템
US6387723B1 (en) 2001-01-19 2002-05-14 Silicon Light Machines Reduced surface charging in silicon-based devices
JP4349550B2 (ja) 2001-03-29 2009-10-21 フジノン株式会社 反射型投映用光学系
TW594043B (en) 2001-04-11 2004-06-21 Matsushita Electric Industrial Co Ltd Reflection type optical apparatus and photographing apparatus using the same, multi-wavelength photographing apparatus, monitoring apparatus for vehicle
JP2003045782A (ja) 2001-07-31 2003-02-14 Canon Inc 反射型縮小投影光学系及びそれを用いた露光装置
EP1321822A1 (en) 2001-12-21 2003-06-25 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP3581689B2 (ja) 2002-01-31 2004-10-27 キヤノン株式会社 位相測定装置
EP1333260A3 (en) 2002-01-31 2004-02-25 Canon Kabushiki Kaisha Phase measuring method and apparatus
US20050207039A1 (en) * 2002-02-01 2005-09-22 Carl Zeiss Smt Ag Optical element for forming an arc-shaped illumination field
JP2003233002A (ja) 2002-02-07 2003-08-22 Canon Inc 反射型投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
JP2004029625A (ja) 2002-06-28 2004-01-29 Nikon Corp 投影光学系、露光装置及び露光方法
JP3938040B2 (ja) 2002-12-27 2007-06-27 キヤノン株式会社 反射型投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
JP2004252358A (ja) 2003-02-21 2004-09-09 Canon Inc 反射型投影光学系及び露光装置
JP2004252363A (ja) 2003-02-21 2004-09-09 Canon Inc 反射型投影光学系
DE10317667A1 (de) * 2003-04-17 2004-11-18 Carl Zeiss Smt Ag Optisches Element für ein Beleuchtungssystem
JP2005055553A (ja) 2003-08-08 2005-03-03 Nikon Corp ミラー、温度調整機構付きミラー及び露光装置
JP2005172988A (ja) 2003-12-09 2005-06-30 Nikon Corp 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置
DE10359576A1 (de) 2003-12-18 2005-07-28 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Herstellung einer optischen Einheit
US7114818B2 (en) 2004-05-06 2006-10-03 Olympus Corporation Optical system, and electronic equipment that incorporates the same
EP1812935A2 (en) * 2004-11-09 2007-08-01 Carl Zeiss SMT AG High-precision optical surface prepared by sagging from a masterpiece
JP2008524662A (ja) * 2004-12-22 2008-07-10 カール・ツアイス・レーザー・オプティクス・ゲーエムベーハー 線ビームを生成するための光学照射系
KR101148589B1 (ko) 2004-12-23 2012-05-22 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 마이크로리소그래피 투사 대물렌즈
DE102005042005A1 (de) 2004-12-23 2006-07-06 Carl Zeiss Smt Ag Hochaperturiges Objektiv mit obskurierter Pupille
TWI308644B (en) 2004-12-23 2009-04-11 Zeiss Carl Smt Ag Hochaperturiges objektiv mlt obskurierter pupille
US7405809B2 (en) * 2005-03-21 2008-07-29 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system particularly for microlithography
KR101127346B1 (ko) 2005-09-13 2012-03-29 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 마이크로리소그라피 투영 광학 시스템, 디바이스 제작 방법 및 광학 표면을 설계하기 위한 방법
WO2007045434A2 (de) 2005-10-18 2007-04-26 Carl Zeiss Smt Ag Kollektor für beleuchtungssysteme mit einer wellenlänge ≤ 193 nm
JP2007234717A (ja) * 2006-02-28 2007-09-13 Nikon Corp 露光装置
JP5479889B2 (ja) 2006-04-07 2014-04-23 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー デバイス製造用のマイクロリソグラフィ投影光学システム及び方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2010539716A5 (OSRAM)
JP5654348B2 (ja) 放射線源の放射光を集めるための光束誘導光学集光器
JP5077724B2 (ja) マイクロリソグラフィツール用の反射照明システム
JP2007525027A5 (OSRAM)
CN102483516A (zh) 在像场中成像物场的成像光学系统和照明物场的照明光学系统
JP2006514441A5 (OSRAM)
US9658533B2 (en) Arrangement of a mirror
JP2011501448A5 (OSRAM)
TW201104333A (en) Imaging optical system and projection exposure installation for microlithography with an imaging optical system of this type
JP2014534643A5 (OSRAM)
CN102422225A (zh) 用于微光刻的照明光学系统与光学系统
JP2018101150A (ja) Ｅｕｖ投影リソグラフィのための照明光学ユニット
JP2011511435A5 (OSRAM)
US9810992B2 (en) Illumination system
JP2011064717A5 (OSRAM)
JP2010217877A5 (OSRAM)
JP2012522358A5 (OSRAM)
US9810890B2 (en) Collector
KR20110120872A (ko) 레이저 노광 장치
JP6423419B2 (ja) 投影露光装置のためのファセットミラー
TWI676060B (zh) 用於投射微影之照明光學單元的琢面反射鏡
KR101720798B1 (ko) 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 래스터 소자, 광학 적분기 및 조명 시스템
TWI761304B (zh) 光瞳琢面反射鏡、用以決定光瞳琢面反射鏡之設計的方法以及用以產生微結構或奈米結構組件的方法
KR102413001B1 (ko) 투영 리소그래피용 조명 광학 유닛
TWI680355B (zh) 用於投影曝光裝置的照明光學總成