JP2012506618A - 基板からテンプレートを分離する際の応力の低減 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 97
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 8
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000007373 indentation Methods 0.000 claims description 4
- 238000013459 approach Methods 0.000 claims 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- -1 but not limited to Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/42—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the shape of the moulding surface, e.g. ribs or grooves
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
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- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/38—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the material or the manufacturing process
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
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- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
本出願は、米国特許法第119条(e)(1)項の下、2008年10月21日に出願された米国仮特許出願第61/107,238号と2009年10月19日に出願された米国特許出願第12/581,236号の利益を主張し、これらの出願は、引用によりその全体が本明細書に組み込まれる。
51 稠密フィーチャ領域51; 53 空領域53。
Claims (17)
- インプリント・リソグラフィ・テンプレートであって、
複数のクラスタを有し、各クラスタが、少なくとも1つの稠密フィーチャ領域を有し、前記稠密フィーチャ領域が、約0.5〜3の縦横比を有する複数のフィーチャを有し、各クラスタが、長さを有する空領域によって分離され、前記長さの大きさが、約200ミクロン以下であるインプリント・リソグラフィ・テンプレート。 - 前記長さの大きさが、約100ミクロン以下である、請求項1に記載のテンプレート。
- 前記長さの大きさが、分離前線の伝搬速度を減少させるように適応された、請求項1または2に記載のテンプレート。
- 前記空領域が、少なくとも1組のダミー・フィーチャを含む、請求項1から3のいずれか1項に記載のテンプレート。
- 前記ダミー・フィーチャが、前記空領域内に周期的間隔で位置決めされ、前記周期的間隔が、分離前線の伝搬速度を減少させるように適応された、請求項4に記載のテンプレート。
- 各稠密フィーチャ領域が、複数の突出部と複数のくぼみを有する、請求項1から5のいずれか1項に記載のテンプレート。
- 前記突出部が、約100nm以下である、請求項6に記載のテンプレート。
- 前記突出部が、前記テンプレート上に分離前線に対してある一定角度で位置決めされた、請求項6または7に記載のテンプレート。
- 前記ある一定角度の前記位置が、前記テンプレートをパターン層から分離する際の破壊エネルギーを減少させるように適応された、請求項8に記載のテンプレート。
- 前記突出部の少なくとも一部分が、分離前線に対して90度未満の角度で位置決めされ、前記突出部の少なくとも一部分が、前記分離前線に対して実質的に垂直に位置決めされた、請求項6または9に記載のテンプレート。
- 前記角度付き突出部が、放射状パターンである、請求項10に記載のテンプレート。
- 前記垂直の突出部が、放射状パターンである、請求項10または11に記載のテンプレート。
- 前記稠密フィーチャ領域内の前記フィーチャが、各フィーチャの中心が前記分離前線の方に湾曲するように凹形状を有する、請求項10、11または12に記載のテンプレート。
- 第1の稠密フィーチャ領域が、分離前線に対して実質的に平行に位置決めされたフィーチャを有し、第2の稠密フィーチャ領域が、前記分離前線に対して実質的に垂直に位置決めされたフィーチャを有する、請求項1から13のいずれか1項に記載のテンプレート。
- 前記稠密フィーチャ領域が、可変格子幅を有する少なくとも1つのフィーチャを有し、前記格子幅が、分離前線に近づくほど増大する、請求項1から14のいずれか1項に記載のテンプレート。
- 前記稠密フィーチャ領域が、可変格子長を有する少なくとも1つのフィーチャを含み、前記格子長が、各フィーチャの中心に近づくほど増大する、請求項1から15のいずれか1項に記載のテンプレート。
- 基板上に位置決めされた重合性材料をパターン形成する段階であって、パターン形成された前記重合性材料が、テンプレートを使用し
前記テンプレートを前記パターン層から分離する段階とを含み、前記テンプレート上に前記稠密フィーチャ領域と前記空領域を位置決めすることにより、分離前線の伝搬が減少する、
請求項1に記載のテンプレートの使用方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10723808P | 2008-10-21 | 2008-10-21 | |
US61/107,238 | 2008-10-21 | ||
US12/581,236 | 2009-10-19 | ||
US12/581,236 US8075299B2 (en) | 2008-10-21 | 2009-10-19 | Reduction of stress during template separation |
PCT/US2009/005692 WO2010047769A1 (en) | 2008-10-21 | 2009-10-20 | Reduction of stress during template separation |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012506618A true JP2012506618A (ja) | 2012-03-15 |
JP2012506618A5 JP2012506618A5 (ja) | 2012-04-26 |
JP5180381B2 JP5180381B2 (ja) | 2013-04-10 |
Family
ID=42108007
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011532095A Active JP5180381B2 (ja) | 2008-10-21 | 2009-10-20 | 基板からテンプレートを分離する際の応力の低減 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8075299B2 (ja) |
JP (1) | JP5180381B2 (ja) |
KR (2) | KR101782904B1 (ja) |
TW (1) | TWI402159B (ja) |
WO (1) | WO2010047769A1 (ja) |
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- 2009-10-20 JP JP2011532095A patent/JP5180381B2/ja active Active
- 2009-10-20 KR KR1020177026771A patent/KR101886066B1/ko active IP Right Grant
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Publication number | Publication date |
---|---|
US20100096776A1 (en) | 2010-04-22 |
KR101782904B1 (ko) | 2017-09-28 |
KR20170113688A (ko) | 2017-10-12 |
KR101886066B1 (ko) | 2018-08-07 |
TW201024074A (en) | 2010-07-01 |
KR20110074572A (ko) | 2011-06-30 |
TWI402159B (zh) | 2013-07-21 |
JP5180381B2 (ja) | 2013-04-10 |
US8075299B2 (en) | 2011-12-13 |
WO2010047769A1 (en) | 2010-04-29 |
WO2010047769A8 (en) | 2010-12-09 |
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