JP2012250792A - ステージ装置、処理装置及び処理方法 - Google Patents
ステージ装置、処理装置及び処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012250792A JP2012250792A JP2011123481A JP2011123481A JP2012250792A JP 2012250792 A JP2012250792 A JP 2012250792A JP 2011123481 A JP2011123481 A JP 2011123481A JP 2011123481 A JP2011123481 A JP 2011123481A JP 2012250792 A JP2012250792 A JP 2012250792A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- guide portion
- detection device
- work
- respect
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
【課題】従来のステージ装置では、処理効率を向上させることが困難である。
【解決手段】ワークＷを支持するワークテーブル２５と、ワークテーブル２５の移動を案内する第１ガイド部８１と、第１ガイド部８１につなぎ合わされており、ワークテーブル２５の移動経路を延長する第２ガイド部８２と、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との継ぎ目７７よりも第１ガイド部８１側に設けられ、ワークテーブル２５が継ぎ目７７よりも第１ガイド部８１側に位置している状態で、ワークＷのワークテーブル２５に対する位置精度を検出する第１検出装置１４と、継ぎ目７７よりも第２ガイド部８２側に設けられ、ワークテーブル２５が継ぎ目７７よりも第２ガイド部８２側に位置している状態で、ワークＷのワークテーブル２５に対する位置精度を検出する第２検出装置１５と、を有する、ことを特徴とするステージ装置。
【選択図】図１
【解決手段】ワークＷを支持するワークテーブル２５と、ワークテーブル２５の移動を案内する第１ガイド部８１と、第１ガイド部８１につなぎ合わされており、ワークテーブル２５の移動経路を延長する第２ガイド部８２と、第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との継ぎ目７７よりも第１ガイド部８１側に設けられ、ワークテーブル２５が継ぎ目７７よりも第１ガイド部８１側に位置している状態で、ワークＷのワークテーブル２５に対する位置精度を検出する第１検出装置１４と、継ぎ目７７よりも第２ガイド部８２側に設けられ、ワークテーブル２５が継ぎ目７７よりも第２ガイド部８２側に位置している状態で、ワークＷのワークテーブル２５に対する位置精度を検出する第２検出装置１５と、を有する、ことを特徴とするステージ装置。
【選択図】図１
Description
本発明は、ステージ装置、処理装置及び処理方法等に関する。
基板などのワークに種々の処理を施す処理装置において、ワークを支持したり保持したりするためのステージ装置を有するものがある。
このようなステージ装置では、従来、複数の構成体に分割されているものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
このようなステージ装置では、従来、複数の構成体に分割されているものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
上記特許文献１によれば、複数の構成体をつなぎ合わせ（結合させ）ることによって、１つのステージ装置が組み立てられている。このような分割構造を採用するステージ装置では、複数の構成体に分割できるので、同じ大きさのステージ装置を一体で構成（以下、一体構造と呼ぶ）する場合に比較して、ステージ装置を輸送しやすくすることができる。
ところで、ステージ装置には、ワークを支持したり保持したりするテーブルが移動可能に構成されているものがある。そして、このようなステージ装置を有する処理装置では、テーブルにワークを供給したり、テーブルからワークを除材したりするエリアである給除材エリアと、ワークに対して処理を施すエリアである処理エリアとの間でテーブルを移動可能に構成することができる。さらに、複数のテーブルを設ければ、処理エリアと給除材エリアとの間で、複数のテーブルを交互に往復移動させることによって、処理エリア内にあるワークに対して処理を施す間に、給除材エリアで他のワークを給除材することが可能になる。この構成により、この処理装置では、処理効率を向上させやすくすることができる。
テーブルが移動可能に構成されている（以下、可動テーブル構成と呼ぶ）ステージ装置では、処理効率の観点から、給除材エリアでテーブルにワークを供給するときに、ワークのアライメント処理も実施しておくことが好ましい。
ワークのアライメント処理とは、ステージ装置に対するワークの位置や姿勢を所定の精度内に整える処理である。アライメント処理によって、ステージ装置に対するワークの位置精度や姿勢精度が把握され、ワークに施すべき処理の精度が確保され得る。
ワークのアライメント処理とは、ステージ装置に対するワークの位置や姿勢を所定の精度内に整える処理である。アライメント処理によって、ステージ装置に対するワークの位置精度や姿勢精度が把握され、ワークに施すべき処理の精度が確保され得る。
ところで、可動テーブル構成のステージ装置に対して、前述した分割構造を適用する場合、給除材エリアと処理エリアとの間で分割可能に構成することが考えられる。この場合、アライメント処理が実施されたワークを給除材エリアから処理エリアに移動させるときに、テーブルが構成体同士の継ぎ目を乗り越えることになる。そして、テーブルが継ぎ目を乗り越えるときに、ステージ装置に対するワークの位置や姿勢がずれてしまうことがある。このため、処理エリアにおいてワークのアライメント処理を実施しなければならない。この結果、処理装置における処理効率を向上させることが困難となる。
つまり、従来のステージ装置では、処理効率を向上させることが困難であるという課題がある。
つまり、従来のステージ装置では、処理効率を向上させることが困難であるという課題がある。
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。
［適用例１］ワークを支持するテーブルと、前記テーブルの移動を案内する第１ガイド部と、前記第１ガイド部につなぎ合わされており、前記テーブルの移動経路を延長する第２ガイド部と、つなぎ合わされた前記第１ガイド部と前記第２ガイド部との継ぎ目よりも前記第１ガイド部側に設けられ、前記テーブルが前記継ぎ目よりも前記第１ガイド部側に位置している状態で、前記ワークの前記テーブルに対する位置精度を検出する第１検出装置と、前記継ぎ目よりも前記第２ガイド部側に設けられ、前記テーブルが前記継ぎ目よりも前記第２ガイド部側に位置している状態で、前記ワークの前記テーブルに対する位置精度を検出する第２検出装置と、を有する、ことを特徴とするステージ装置。
この適用例のステージ装置は、テーブルと、第１ガイド部と、第２ガイド部と、第１検出装置と、第２検出装置と、を有する。
テーブルは、ワークを支持する。
第１ガイド部は、テーブルの移動を案内する。
第２ガイド部は、第１ガイド部につなぎ合わされている。第２ガイド部は、テーブルの移動経路を延長する。
このステージ装置では、第１ガイド部と第２ガイド部との継ぎ目よりも第１ガイド部側に第１検出装置が設けられており、且つ第１ガイド部と第２ガイド部との継ぎ目よりも第２ガイド部側に第２検出装置が設けられている。これにより、継ぎ目よりも第１ガイド部側におけるワークのテーブルに対する位置精度と、継ぎ目よりも第２ガイド部側におけるワークのテーブルに対する位置精度との差異を把握することができる。このため、例えば、テーブルが継ぎ目を乗り越えたときに、ワークの位置精度が許容範囲を超えてずれてしまったときだけ、ワークのテーブルに対する位置を調整すればよい。この結果、ワークの処理効率を向上させやすくすることができる。
テーブルは、ワークを支持する。
第１ガイド部は、テーブルの移動を案内する。
第２ガイド部は、第１ガイド部につなぎ合わされている。第２ガイド部は、テーブルの移動経路を延長する。
このステージ装置では、第１ガイド部と第２ガイド部との継ぎ目よりも第１ガイド部側に第１検出装置が設けられており、且つ第１ガイド部と第２ガイド部との継ぎ目よりも第２ガイド部側に第２検出装置が設けられている。これにより、継ぎ目よりも第１ガイド部側におけるワークのテーブルに対する位置精度と、継ぎ目よりも第２ガイド部側におけるワークのテーブルに対する位置精度との差異を把握することができる。このため、例えば、テーブルが継ぎ目を乗り越えたときに、ワークの位置精度が許容範囲を超えてずれてしまったときだけ、ワークのテーブルに対する位置を調整すればよい。この結果、ワークの処理効率を向上させやすくすることができる。
［適用例２］上記のステージ装置であって、ワークを支持する第２テーブルと、前記第２ガイド部の前記第１ガイド部側とは反対側で前記第２ガイド部につなぎ合わされており、前記第２ガイド部の前記第１ガイド部側とは反対側から前記第２ガイド部に前記第２テーブルを案内する第３ガイド部と、つなぎ合わされた前記第３ガイド部と前記第２ガイド部との継ぎ目よりも前記第３ガイド部側に設けられ、前記第２テーブルが前記継ぎ目よりも前記第３ガイド部側に位置している状態で、前記ワークの前記第２テーブルに対する位置精度を検出する第３検出装置と、を有する、ことを特徴とするステージ装置。
この適用例のステージ装置は、第２テーブルと、第３ガイド部と、第３検出装置と、を有する。
第２テーブルは、ワークを支持する。
第３ガイド部は、第２ガイド部の第１ガイド部側とは反対側で第２ガイド部につなぎ合わされている。第３ガイド部は、第２ガイド部の第１ガイド部側とは反対側から第２ガイド部に第２テーブルを案内する。
第３検出装置は、つなぎ合わされた第３ガイド部と第２ガイド部との継ぎ目よりも第３ガイド部側に設けられている。第３検出装置は、第２テーブルが継ぎ目よりも第３ガイド部側に位置している状態で、ワークの第２テーブルに対する位置精度を検出する。
このステージ装置では、第３ガイド部と第２ガイド部との継ぎ目よりも第３ガイド部側に第３検出装置が設けられており、且つ第３ガイド部と第２ガイド部との継ぎ目よりも第２ガイド部側に第２検出装置が設けられている。これにより、継ぎ目よりも第３ガイド部側におけるワークの第２テーブルに対する位置精度と、継ぎ目よりも第２ガイド部側におけるワークの第２テーブルに対する位置精度との差異を把握することができる。このため、例えば、第２テーブルが継ぎ目を乗り越えたときに、ワークの位置精度が許容範囲を超えてずれてしまったときだけ、ワークの第２テーブルに対する位置を調整すればよい。この結果、ワークの処理効率を向上させやすくすることができる。
さらに、このステージ装置では、テーブルと第２テーブルとが設けられているので、例えば、これらを交互に往復移動させることによって、テーブル及び第２テーブルの一方が第２ガイド部側に位置しているときに、テーブル及び第２テーブルの他方に対してワークを給除材することが可能となる。これにより、このステージ装置では、ワークの処理効率を一層向上させやすくすることができる。
第２テーブルは、ワークを支持する。
第３ガイド部は、第２ガイド部の第１ガイド部側とは反対側で第２ガイド部につなぎ合わされている。第３ガイド部は、第２ガイド部の第１ガイド部側とは反対側から第２ガイド部に第２テーブルを案内する。
第３検出装置は、つなぎ合わされた第３ガイド部と第２ガイド部との継ぎ目よりも第３ガイド部側に設けられている。第３検出装置は、第２テーブルが継ぎ目よりも第３ガイド部側に位置している状態で、ワークの第２テーブルに対する位置精度を検出する。
このステージ装置では、第３ガイド部と第２ガイド部との継ぎ目よりも第３ガイド部側に第３検出装置が設けられており、且つ第３ガイド部と第２ガイド部との継ぎ目よりも第２ガイド部側に第２検出装置が設けられている。これにより、継ぎ目よりも第３ガイド部側におけるワークの第２テーブルに対する位置精度と、継ぎ目よりも第２ガイド部側におけるワークの第２テーブルに対する位置精度との差異を把握することができる。このため、例えば、第２テーブルが継ぎ目を乗り越えたときに、ワークの位置精度が許容範囲を超えてずれてしまったときだけ、ワークの第２テーブルに対する位置を調整すればよい。この結果、ワークの処理効率を向上させやすくすることができる。
さらに、このステージ装置では、テーブルと第２テーブルとが設けられているので、例えば、これらを交互に往復移動させることによって、テーブル及び第２テーブルの一方が第２ガイド部側に位置しているときに、テーブル及び第２テーブルの他方に対してワークを給除材することが可能となる。これにより、このステージ装置では、ワークの処理効率を一層向上させやすくすることができる。
［適用例３］上記のステージ装置であって、前記テーブル及び前記第２テーブルには、それぞれ、基準マークが設けられており、前記第１検出装置及び前記第２検出装置は、それぞれ、前記基準マークに対する前記ワークの位置を検出することによって、前記ワークの前記テーブルに対する位置精度を検出し、前記第３検出装置及び前記第２検出装置は、それぞれ、前記基準マークに対する前記ワークの位置を検出することによって、前記ワークの前記第２テーブルに対する位置精度を検出する、ことを特徴とするステージ装置。
この適用例では、テーブル及び第２テーブルのそれぞれに、基準マークが設けられている。そして、第１検出装置及び第２検出装置は、それぞれ、基準マークに対するワークの位置を検出することによって、ワークのテーブルに対する位置精度を検出する。また、第３検出装置及び第２検出装置は、それぞれ、基準マークに対するワークの位置を検出することによって、ワークの第２テーブルに対する位置精度を検出する。
上記により、第１検出装置及び第２検出装置のそれぞれによって、ワークのテーブルに対する位置精度を検出することができる。また、第３検出装置及び第２検出装置のそれぞれによって、ワークの第２テーブルに対する位置精度を検出することができる。
上記により、第１検出装置及び第２検出装置のそれぞれによって、ワークのテーブルに対する位置精度を検出することができる。また、第３検出装置及び第２検出装置のそれぞれによって、ワークの第２テーブルに対する位置精度を検出することができる。
［適用例４］上記のステージ装置であって、前記テーブルには、基準マークが設けられており、前記第１検出装置及び前記第２検出装置は、それぞれ、前記基準マークに対する前記ワークの位置を検出することによって、前記ワークの前記テーブルに対する位置精度を検出する、ことを特徴とするステージ装置。
この適用例では、テーブルに、基準マークが設けられている。そして、第１検出装置及び第２検出装置は、それぞれ、基準マークに対するワークの位置を検出することによって、ワークのテーブルに対する位置精度を検出する。
上記により、第１検出装置及び第２検出装置のそれぞれによって、ワークのテーブルに対する位置精度を検出することができる。
上記により、第１検出装置及び第２検出装置のそれぞれによって、ワークのテーブルに対する位置精度を検出することができる。
［適用例５］上記のステージ装置と、前記テーブルに支持された前記ワークと前記第２テーブルに支持された前記ワークとに対して処理を施す処理部と、を有する、ことを特徴とする処理装置。
この適用例の処理装置は、上記のステージ装置と、処理部と、を有する。処理部は、テーブルに支持されたワークと第２テーブルに支持されたワークとに対して処理を施す。
この処理装置では、ワークの処理効率を向上させやすくすることができる。
この処理装置では、ワークの処理効率を向上させやすくすることができる。
［適用例６］上記のステージ装置と、前記テーブルに支持された前記ワークに対して処理を施す処理部と、を有する、ことを特徴とする処理装置。
この適用例の処理装置は、上記のステージ装置と、処理部と、を有する。処理部は、テーブルに支持されたワークに対して処理を施す。
この処理装置では、ワークの処理効率を向上させやすくすることができる。
この処理装置では、ワークの処理効率を向上させやすくすることができる。
［適用例７］ワークを支持するテーブルの移動を案内する第１ガイド部と、前記第１ガイド部に継ぎ目を介してつなぎ合わされた第２ガイド部と、を有するステージ装置の前記第１ガイド部の領域において、前記テーブルに前記ワークを給材する給材工程と、前記給材工程の後に、前記第１ガイド部の領域において、前記テーブルに対する前記ワークの位置精度を検出する第１検出工程と、前記第１検出工程の後に、前記テーブルを前記第１ガイド部から前記継ぎ目を越えて前記第２ガイド部に移動させることによって、前記ワークを前記第２ガイド部の領域に搬送する搬送工程と、前記搬送工程の後に、前記第２ガイド部の領域において、前記テーブルに対する前記ワークの位置精度を検出する第２検出工程と、を有する、ことを特徴とする処理方法。
この適用例の処理方法は、給材工程と、第１検出工程と、搬送工程と、第２検出工程と、を有する。
給材工程では、ワークを支持するテーブルの移動を案内する第１ガイド部と、第１ガイド部に継ぎ目を介してつなぎ合わされた第２ガイド部と、を有するステージ装置の第１ガイド部の領域において、テーブルにワークを給材する。
給材工程の後に、第１検出工程では、第１ガイド部の領域において、テーブルに対するワークの位置精度を検出する。
第１検出工程の後に、搬送工程では、テーブルを第１ガイド部から継ぎ目を越えて第２ガイド部に移動させることによって、ワークを第２ガイド部の領域に搬送する。
搬送工程の後に、第２検出工程では、第２ガイド部の領域において、テーブルに対するワークの位置精度を検出する。
この処理方法では、ステージ装置の第１ガイド部の領域及び第２ガイド部の領域の双方において、テーブルに対するワークの位置精度を検出するので、継ぎ目よりも第１ガイド部側におけるワークのテーブルに対する位置精度と、継ぎ目よりも第２ガイド部側におけるワークのテーブルに対する位置精度との差異を把握することができる。このため、例えば、テーブルが継ぎ目を乗り越えたときに、ワークの位置精度が許容範囲を超えてずれてしまったときだけ、ワークのテーブルに対する位置を調整すればよい。この結果、ワークの処理効率を向上させやすくすることができる。
給材工程では、ワークを支持するテーブルの移動を案内する第１ガイド部と、第１ガイド部に継ぎ目を介してつなぎ合わされた第２ガイド部と、を有するステージ装置の第１ガイド部の領域において、テーブルにワークを給材する。
給材工程の後に、第１検出工程では、第１ガイド部の領域において、テーブルに対するワークの位置精度を検出する。
第１検出工程の後に、搬送工程では、テーブルを第１ガイド部から継ぎ目を越えて第２ガイド部に移動させることによって、ワークを第２ガイド部の領域に搬送する。
搬送工程の後に、第２検出工程では、第２ガイド部の領域において、テーブルに対するワークの位置精度を検出する。
この処理方法では、ステージ装置の第１ガイド部の領域及び第２ガイド部の領域の双方において、テーブルに対するワークの位置精度を検出するので、継ぎ目よりも第１ガイド部側におけるワークのテーブルに対する位置精度と、継ぎ目よりも第２ガイド部側におけるワークのテーブルに対する位置精度との差異を把握することができる。このため、例えば、テーブルが継ぎ目を乗り越えたときに、ワークの位置精度が許容範囲を超えてずれてしまったときだけ、ワークのテーブルに対する位置を調整すればよい。この結果、ワークの処理効率を向上させやすくすることができる。
図面を参照しながら、液滴吐出装置を例に、実施形態について説明する。なお、各図面において、それぞれの構成を認識可能な程度の大きさにするために、構成や部材の縮尺が異なっていることがある。
本実施形態における液滴吐出装置１は、概略の構成を示す斜視図である図１に示すように、ワーク搬送装置３と、キャリッジ７と、キャリッジ搬送装置１１と、第１検出装置１４と、第２検出装置１５と、第３検出装置１６と、を有している。
キャリッジ７には、ヘッドユニット１８が設けられている。
液滴吐出装置１では、ヘッドユニット１８と基板などのワークＷとの平面視での相対位置を変化させつつ、ヘッドユニット１８から液状体を液滴として吐出させることによって、ワークＷに液状体で所望のパターンを描画（記録）することができる。つまり、液滴吐出装置１は、ワークＷに描画（記録）処理を施す処理装置の１つである。なお、図中のＹ方向はワークＷの移動方向を示し、Ｘ方向は平面視でＹ方向とは直交する方向を示している。また、Ｘ方向及びＹ方向によって規定されるＸＹ平面と直交する方向は、Ｚ方向として規定される。さらに、Ｚ方向に沿った軸を中心に回転する方向は、θ方向として規定される。
キャリッジ７には、ヘッドユニット１８が設けられている。
液滴吐出装置１では、ヘッドユニット１８と基板などのワークＷとの平面視での相対位置を変化させつつ、ヘッドユニット１８から液状体を液滴として吐出させることによって、ワークＷに液状体で所望のパターンを描画（記録）することができる。つまり、液滴吐出装置１は、ワークＷに描画（記録）処理を施す処理装置の１つである。なお、図中のＹ方向はワークＷの移動方向を示し、Ｘ方向は平面視でＹ方向とは直交する方向を示している。また、Ｘ方向及びＹ方向によって規定されるＸＹ平面と直交する方向は、Ｚ方向として規定される。さらに、Ｚ方向に沿った軸を中心に回転する方向は、θ方向として規定される。
このような液滴吐出装置１は、種々のワークＷへの描画（記録）処理に適用され得る。
液滴吐出装置１は、例えば、液晶表示パネル等に用いられるカラーフィルターの製造や、有機ＥＬ（Electro Luminescence）装置の製造などにも適用され得る。
赤、緑及び青の３色のフィルターエレメントを有するカラーフィルターの場合、液滴吐出装置１は、例えば、基板に赤、緑及び青の各着色層を形成する工程で好適に使用され得る。この場合、ヘッドユニット１８から各着色層に対応する各液体を、ワークＷに液滴として吐出させることによって、ワークＷに赤、緑及び青のそれぞれのフィルターエレメントのパターンが描画される。
また、有機ＥＬ装置の製造では、例えば、赤、緑及び青の画素ごとに、各色に対応する機能層（有機層）を形成する工程で好適に使用され得る。この場合、ヘッドユニット１８から各色の機能層に対応する各液状体を、ワークＷに液滴として吐出されることによって、ワークＷに赤、緑及び青のそれぞれの機能層のパターンが描画される。
液滴吐出装置１は、例えば、液晶表示パネル等に用いられるカラーフィルターの製造や、有機ＥＬ（Electro Luminescence）装置の製造などにも適用され得る。
赤、緑及び青の３色のフィルターエレメントを有するカラーフィルターの場合、液滴吐出装置１は、例えば、基板に赤、緑及び青の各着色層を形成する工程で好適に使用され得る。この場合、ヘッドユニット１８から各着色層に対応する各液体を、ワークＷに液滴として吐出させることによって、ワークＷに赤、緑及び青のそれぞれのフィルターエレメントのパターンが描画される。
また、有機ＥＬ装置の製造では、例えば、赤、緑及び青の画素ごとに、各色に対応する機能層（有機層）を形成する工程で好適に使用され得る。この場合、ヘッドユニット１８から各色の機能層に対応する各液状体を、ワークＷに液滴として吐出されることによって、ワークＷに赤、緑及び青のそれぞれの機能層のパターンが描画される。
ここで、液滴吐出装置１の各構成について、詳細を説明する。
ワーク搬送装置３は、図１に示すように、ベース部２１と、ガイドレール２３と、ガイドレール２４と、ワークテーブル２５と、ワークテーブル２７と、を有している。
ベース部２１は、例えば石などの経時変化の少ない材料で構成されており、Ｙ方向に沿って延びるように据えられている。
ガイドレール２３及びガイドレール２４は、それぞれ、例えば石などの経時変化の少ない材料で構成されており、ベース部２１の上面２２上に配設されている。ガイドレール２３及びガイドレール２４は、それぞれ、Ｙ方向に沿って延在している。ガイドレール２３とガイドレール２４とは、互いにＸ方向に隙間をあけた状態で並んでいる。
ワーク搬送装置３は、図１に示すように、ベース部２１と、ガイドレール２３と、ガイドレール２４と、ワークテーブル２５と、ワークテーブル２７と、を有している。
ベース部２１は、例えば石などの経時変化の少ない材料で構成されており、Ｙ方向に沿って延びるように据えられている。
ガイドレール２３及びガイドレール２４は、それぞれ、例えば石などの経時変化の少ない材料で構成されており、ベース部２１の上面２２上に配設されている。ガイドレール２３及びガイドレール２４は、それぞれ、Ｙ方向に沿って延在している。ガイドレール２３とガイドレール２４とは、互いにＸ方向に隙間をあけた状態で並んでいる。
ワークテーブル２５及びワークテーブル２７は、それぞれ、ガイドレール２３及びガイドレール２４を挟んでベース部２１の上面２２に対向した状態で設けられている。ワークテーブル２５及びワークテーブル２７は、それぞれ、ベース部２１から浮いた状態でガイドレール２３及びガイドレール２４上に載置されている。つまり、ガイドレール２３及びガイドレール２４上には、ワークテーブル２５とワークテーブル２７とが並存している。ワークテーブル２５とワークテーブル２７とは、Ｙ方向において、互いに対峙している。
ワークテーブル２５は、ワークＷが載置される面である載置面２５ａを有している。ワークテーブル２７は、ワークＷが載置される面である載置面２７ａを有している。以下において、ワークテーブル２５に載置されているワークＷと、ワークテーブル２７に載置されているワークＷとを、互いに識別する場合に、ワークテーブル２５に載置されているワークＷがワークＷ１と表記され、ワークテーブル２７に載置されているワークＷがワークＷ２と表記される。
載置面２５ａ及び載置面２７ａは、それぞれ、ベース部２１側とは反対側（上側）に向けられている。ワークテーブル２５及びワークテーブル２７は、それぞれ、ガイドレール２３及びガイドレール２４によってＹ方向に沿って案内され、ベース部２１上をＹ方向に沿って往復移動可能に構成されている。
載置面２５ａ及び載置面２７ａは、それぞれ、ベース部２１側とは反対側（上側）に向けられている。ワークテーブル２５及びワークテーブル２７は、それぞれ、ガイドレール２３及びガイドレール２４によってＹ方向に沿って案内され、ベース部２１上をＹ方向に沿って往復移動可能に構成されている。
ワークテーブル２５及びワークテーブル２７は、それぞれ、図示しない移動機構及び動力源によって、互いに独立して（個別に）Ｙ方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアモーター機構などが採用され得る。また、本実施形態では、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれをＹ方向に沿って移動させるための動力源として、ワーク搬送モーターが採用されている。ワーク搬送モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。
ワーク搬送モーターからの動力は、移動機構を介してワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれに伝達される。これにより、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７は、それぞれ、ガイドレール２３及びガイドレール２４に沿って、すなわちＹ方向に沿って個別に往復移動することができる。つまり、ワーク搬送装置３は、ワークテーブル２５の載置面２５ａに載置されたワークＷを、Ｙ方向に沿って往復移動させることができる。また、ワーク搬送装置３は、ワークテーブル２７の載置面２７ａに載置されたワークＷを、Ｙ方向に沿って往復移動させることができる。
ワーク搬送モーターからの動力は、移動機構を介してワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれに伝達される。これにより、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７は、それぞれ、ガイドレール２３及びガイドレール２４に沿って、すなわちＹ方向に沿って個別に往復移動することができる。つまり、ワーク搬送装置３は、ワークテーブル２５の載置面２５ａに載置されたワークＷを、Ｙ方向に沿って往復移動させることができる。また、ワーク搬送装置３は、ワークテーブル２７の載置面２７ａに載置されたワークＷを、Ｙ方向に沿って往復移動させることができる。
また、本実施形態では、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７は、それぞれ、図示しない移動機構及び動力源によって、互いに独立して（個別に）Ｘ方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアモーター機構などが採用され得る。ワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれをＸ方向に沿って移動させるための動力源としては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。
また、本実施形態では、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７は、それぞれ、図示しない回転機構及び動力源によって、互いに独立して（個別に）θ方向に往復回動可能に構成されている。回転機構としては、例えば、回転リングなどが採用され得る。ワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれをθ方向に沿って回動させるための動力源としては、ステッピングモーター、サーボモーターなどの種々のモーターが採用され得る。
上記の構成により、液滴吐出装置１では、ワークテーブル２５をＸ方向、Ｙ方向及びθ方向のそれぞれに駆動することによって、ワークＷ１のアライメントが行われ得る。同様に、液滴吐出装置１では、ワークテーブル２７をＸ方向、Ｙ方向及びθ方向のそれぞれに駆動することによって、ワークＷ２のアライメントが行われ得る。
また、本実施形態では、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７は、それぞれ、図示しない回転機構及び動力源によって、互いに独立して（個別に）θ方向に往復回動可能に構成されている。回転機構としては、例えば、回転リングなどが採用され得る。ワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれをθ方向に沿って回動させるための動力源としては、ステッピングモーター、サーボモーターなどの種々のモーターが採用され得る。
上記の構成により、液滴吐出装置１では、ワークテーブル２５をＸ方向、Ｙ方向及びθ方向のそれぞれに駆動することによって、ワークＷ１のアライメントが行われ得る。同様に、液滴吐出装置１では、ワークテーブル２７をＸ方向、Ｙ方向及びθ方向のそれぞれに駆動することによって、ワークＷ２のアライメントが行われ得る。
ヘッドユニット１８は、キャリッジ７を図１中のＡ視方向に見たときの正面図である図２に示すように、ヘッドプレート３１と、吐出ヘッド３３と、を有している。
吐出ヘッド３３は、底面図である図３に示すように、ノズル面３５を有している。ノズル面３５には、複数のノズル３７が形成されている。なお、図３では、ノズル３７をわかりやすく示すため、ノズル３７が誇張され、且つノズル３７の個数が減じられている。
吐出ヘッド３３において、複数のノズル３７は、Ｙ方向に沿って配列するノズル列３９を構成している。ノズル列３９において、複数のノズル３７は、Ｙ方向に沿って所定のノズル間隔Ｐで形成されている。
吐出ヘッド３３は、底面図である図３に示すように、ノズル面３５を有している。ノズル面３５には、複数のノズル３７が形成されている。なお、図３では、ノズル３７をわかりやすく示すため、ノズル３７が誇張され、且つノズル３７の個数が減じられている。
吐出ヘッド３３において、複数のノズル３７は、Ｙ方向に沿って配列するノズル列３９を構成している。ノズル列３９において、複数のノズル３７は、Ｙ方向に沿って所定のノズル間隔Ｐで形成されている。
吐出ヘッド３３は、図２中のＢ−Ｂ線における断面図である図４に示すように、ノズルプレート４６と、キャビティープレート４７と、振動板４８と、複数の駆動素子４９と、を有している。本実施形態では駆動素子４９として、縦振動型の圧電素子が採用されている。
ノズルプレート４６は、ノズル面３５を有している。複数のノズル３７は、ノズルプレート４６に設けられている。
キャビティープレート４７は、ノズルプレート４６のノズル面３５とは反対側の面に設けられている。キャビティープレート４７には、複数のキャビティー５１が形成されている。各キャビティー５１は、各ノズル３７に対応して設けられており、対応する各ノズル３７に連通している。各キャビティー５１には、図示しないタンクから機能液５３が供給される。
ノズルプレート４６は、ノズル面３５を有している。複数のノズル３７は、ノズルプレート４６に設けられている。
キャビティープレート４７は、ノズルプレート４６のノズル面３５とは反対側の面に設けられている。キャビティープレート４７には、複数のキャビティー５１が形成されている。各キャビティー５１は、各ノズル３７に対応して設けられており、対応する各ノズル３７に連通している。各キャビティー５１には、図示しないタンクから機能液５３が供給される。
振動板４８は、キャビティープレート４７のノズルプレート４６側とは反対側の面に設けられている。振動板４８は、Ｚ方向に振動（縦振動）することによって、キャビティー５１内の容積を拡大したり、縮小したりする。
複数の駆動素子４９は、それぞれ、振動板４８のキャビティープレート４７側とは反対側の面に設けられている。各駆動素子４９は、各キャビティー５１に対応して設けられており、振動板４８を挟んで各キャビティー５１に対向している。各駆動素子４９は、駆動信号に基づいて、伸長する。これにより、振動板４８がキャビティー５１内の容積を縮小させる。このとき、キャビティー５１内の機能液５３に圧力が付与される。その結果、ノズル３７から、機能液５３が液滴５５として吐出される。吐出ヘッド３３による液滴５５の吐出法は、インクジェット法の１つである。インクジェット法は、塗布法の１つである。
複数の駆動素子４９は、それぞれ、振動板４８のキャビティープレート４７側とは反対側の面に設けられている。各駆動素子４９は、各キャビティー５１に対応して設けられており、振動板４８を挟んで各キャビティー５１に対向している。各駆動素子４９は、駆動信号に基づいて、伸長する。これにより、振動板４８がキャビティー５１内の容積を縮小させる。このとき、キャビティー５１内の機能液５３に圧力が付与される。その結果、ノズル３７から、機能液５３が液滴５５として吐出される。吐出ヘッド３３による液滴５５の吐出法は、インクジェット法の１つである。インクジェット法は、塗布法の１つである。
上記の構成を有する吐出ヘッド３３は、図２に示すように、ノズル面３５がヘッドプレート３１から突出した状態で、ヘッドプレート３１に支持されている。
キャリッジ７は、図２に示すように、ヘッドユニット１８を支持している。ここで、ヘッドユニット１８は、ノズル面３５がＺ方向の下方に向けられた状態でキャリッジ７に支持されている。
上記により、ワークＷには、吐出ヘッド３３から機能液５３が塗布され得る。
なお、本実施形態では、駆動素子４９として、縦振動型の圧電素子が採用されているが、機能液５３に圧力を付与するための駆動素子４９は、これに限定されず、例えば、下電極と圧電体層と上電極とを積層形成した撓み変形型の圧電素子も採用され得る。また、駆動素子４９としては、振動板と電極との間に静電気を発生させて、静電気力によって振動板を変形させてノズルから液滴を吐出させるいわゆる静電式アクチュエーターなども採用され得る。さらに、発熱体を用いてノズル内に泡を発生させ、その泡によって機能液に圧力を付与する構成も採用され得る。
キャリッジ７は、図２に示すように、ヘッドユニット１８を支持している。ここで、ヘッドユニット１８は、ノズル面３５がＺ方向の下方に向けられた状態でキャリッジ７に支持されている。
上記により、ワークＷには、吐出ヘッド３３から機能液５３が塗布され得る。
なお、本実施形態では、駆動素子４９として、縦振動型の圧電素子が採用されているが、機能液５３に圧力を付与するための駆動素子４９は、これに限定されず、例えば、下電極と圧電体層と上電極とを積層形成した撓み変形型の圧電素子も採用され得る。また、駆動素子４９としては、振動板と電極との間に静電気を発生させて、静電気力によって振動板を変形させてノズルから液滴を吐出させるいわゆる静電式アクチュエーターなども採用され得る。さらに、発熱体を用いてノズル内に泡を発生させ、その泡によって機能液に圧力を付与する構成も採用され得る。
キャリッジ搬送装置１１は、図１に示すように、架台６１と、ガイドレール６３と、を有している。
架台６１は、Ｘ方向に延在しており、ワーク搬送装置３をＸ方向にまたいでいる。架台６１は、ワークテーブル２５のベース部２１側とは反対側で、ワーク搬送装置３に対向している。架台６１は、一対の支柱６７によって支持されている。一対の支柱６７は、ベース部２１を挟んでＸ方向に互いに対峙する位置に設けられている。
なお、以下においては、一対の支柱６７のそれぞれを識別する場合に、支柱６７ａ及び支柱６７ｂという表記が用いられる。支柱６７ａ及び支柱６７ｂは、それぞれ、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれよりもＺ方向の上方に突出している。これにより、架台６１とワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれとの間には、隙間が保たれている。
架台６１は、Ｘ方向に延在しており、ワーク搬送装置３をＸ方向にまたいでいる。架台６１は、ワークテーブル２５のベース部２１側とは反対側で、ワーク搬送装置３に対向している。架台６１は、一対の支柱６７によって支持されている。一対の支柱６７は、ベース部２１を挟んでＸ方向に互いに対峙する位置に設けられている。
なお、以下においては、一対の支柱６７のそれぞれを識別する場合に、支柱６７ａ及び支柱６７ｂという表記が用いられる。支柱６７ａ及び支柱６７ｂは、それぞれ、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれよりもＺ方向の上方に突出している。これにより、架台６１とワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれとの間には、隙間が保たれている。
ガイドレール６３は、架台６１のベース部２１側に設けられている。ガイドレール６３は、Ｘ方向に沿って延在しており、架台６１のＸ方向における幅にわたって設けられている。
前述したキャリッジ７は、ガイドレール６３に支持されている。キャリッジ７がガイドレール６３に支持された状態において、吐出ヘッド３３のノズル面３５は、Ｚ方向においてワークテーブル２５及びワークテーブル２７側に向いている。キャリッジ７は、ガイドレール６３によってＸ方向に沿って案内され、Ｘ方向に往復動可能な状態でガイドレール６３に支持されている。なお、平面視で、キャリッジ７がワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれに重なっている状態において、ノズル面３５と載置面２５ａ及び載置面２７ａのそれぞれとは、互いに隙間を保った状態で対向する。
前述したキャリッジ７は、ガイドレール６３に支持されている。キャリッジ７がガイドレール６３に支持された状態において、吐出ヘッド３３のノズル面３５は、Ｚ方向においてワークテーブル２５及びワークテーブル２７側に向いている。キャリッジ７は、ガイドレール６３によってＸ方向に沿って案内され、Ｘ方向に往復動可能な状態でガイドレール６３に支持されている。なお、平面視で、キャリッジ７がワークテーブル２５及びワークテーブル２７のそれぞれに重なっている状態において、ノズル面３５と載置面２５ａ及び載置面２７ａのそれぞれとは、互いに隙間を保った状態で対向する。
キャリッジ７は、図示しない移動機構及び動力源によって、Ｘ方向に往復動可能に構成されている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアモーター機構などが採用され得る。また、本実施形態では、キャリッジ７をＸ方向に沿って移動させるための動力源として、図示しないキャリッジ搬送モーターが採用されている。キャリッジ搬送モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。
キャリッジ搬送モーターからの動力は、移動機構を介してキャリッジ７に伝達される。これにより、キャリッジ７は、ガイドレール６３に沿って、すなわちＸ方向に沿って往復移動することができる。つまり、キャリッジ搬送装置１１は、キャリッジ７に支持されたヘッドユニット１８を、Ｘ方向に沿って往復移動させることができる。
キャリッジ搬送モーターからの動力は、移動機構を介してキャリッジ７に伝達される。これにより、キャリッジ７は、ガイドレール６３に沿って、すなわちＸ方向に沿って往復移動することができる。つまり、キャリッジ搬送装置１１は、キャリッジ７に支持されたヘッドユニット１８を、Ｘ方向に沿って往復移動させることができる。
ワーク搬送装置３について、詳細を説明する。
本実施形態では、ワーク搬送装置３は、図５に示すように、Ｙ方向に沿って、第１待機領域７１と、処理領域７３と、第２待機領域７５と、に区分される。
ベース部２１並びにガイドレール２３及びガイドレール２４は、それぞれ、継ぎ目７７及び継ぎ目７９を介して分割可能に構成されている。第１待機領域７１と処理領域７３とは、継ぎ目７７を境に区分される。また、処理領域７３と第２待機領域７５とは、継ぎ目７９を境に区分される。
ベース部２１は、第１ベース部２１ａと、第２ベース部２１ｂと、第３ベース部２１ｃと、に分割可能に構成されている。
本実施形態では、ワーク搬送装置３は、図５に示すように、Ｙ方向に沿って、第１待機領域７１と、処理領域７３と、第２待機領域７５と、に区分される。
ベース部２１並びにガイドレール２３及びガイドレール２４は、それぞれ、継ぎ目７７及び継ぎ目７９を介して分割可能に構成されている。第１待機領域７１と処理領域７３とは、継ぎ目７７を境に区分される。また、処理領域７３と第２待機領域７５とは、継ぎ目７９を境に区分される。
ベース部２１は、第１ベース部２１ａと、第２ベース部２１ｂと、第３ベース部２１ｃと、に分割可能に構成されている。
第１ベース部２１ａと第２ベース部２１ｂとは、継ぎ目７７を境に互いに分割され得る。また、第２ベース部２１ｂと第３ベース部２１ｃとは、継ぎ目７９を境に互いに分割され得る。つまり、第１ベース部２１ａと第２ベース部２１ｂとは、継ぎ目７７を介して互いにつなぎ合わされている。また、第２ベース部２１ｂと第３ベース部２１ｃとは、継ぎ目７９を介して互いにつなぎ合わされている。
本実施形態では、第２ベース部２１ｂが、第１ベース部２１ａと第３ベース部２１ｃとによってＹ方向に挟持されている。なお、第１ベース部２１ａが第１待機領域７１に対応し、第２ベース部２１ｂが処理領域７３に対応し、第３ベース部２１ｃが第２待機領域７５に対応している。
ここで、キャリッジ搬送装置１１の架台６１は、図１に示すように、第２ベース部２１ｂをＸ方向にまたいでいる。つまり、吐出ヘッド３３は、処理領域７３において、ワークテーブル２５の載置面２５ａや、ワークテーブル２７の載置面２７ａに対向し得る。
本実施形態では、第２ベース部２１ｂが、第１ベース部２１ａと第３ベース部２１ｃとによってＹ方向に挟持されている。なお、第１ベース部２１ａが第１待機領域７１に対応し、第２ベース部２１ｂが処理領域７３に対応し、第３ベース部２１ｃが第２待機領域７５に対応している。
ここで、キャリッジ搬送装置１１の架台６１は、図１に示すように、第２ベース部２１ｂをＸ方向にまたいでいる。つまり、吐出ヘッド３３は、処理領域７３において、ワークテーブル２５の載置面２５ａや、ワークテーブル２７の載置面２７ａに対向し得る。
ガイドレール２３は、図５に示すように、第１ガイドレール２３ａと、第２ガイドレール２３ｂと、第３ガイドレール２３ｃと、に分割可能に構成されている。ガイドレール２４も、第１ガイドレール２４ａと、第２ガイドレール２４ｂと、第３ガイドレール２４ｃと、に分割可能に構成されている。
本実施形態では、第１ガイドレール２３ａ及び第１ガイドレール２４ａが、第１待機領域７１に対応している。第２ガイドレール２３ｂ及び第２ガイドレール２４ｂが、処理領域７３に対応し、第３ガイドレール２３ｃ及び第３ガイドレール２４ｃが、第２待機領域７５に対応している。
第１ガイドレール２３ａと第２ガイドレール２３ｂとは、継ぎ目７７を介して互いにつなぎ合わされている。第２ガイドレール２３ｂと第３ガイドレール２３ｃとは、継ぎ目７９を介して互いにつなぎ合わされている。
また、第１ガイドレール２４ａと第２ガイドレール２４ｂとは、継ぎ目７７を介して互いにつなぎ合わされている。第２ガイドレール２４ｂと第３ガイドレール２４ｃとは、継ぎ目７９を介して互いにつなぎ合わされている。
本実施形態では、第１ガイドレール２３ａ及び第１ガイドレール２４ａが、第１待機領域７１に対応している。第２ガイドレール２３ｂ及び第２ガイドレール２４ｂが、処理領域７３に対応し、第３ガイドレール２３ｃ及び第３ガイドレール２４ｃが、第２待機領域７５に対応している。
第１ガイドレール２３ａと第２ガイドレール２３ｂとは、継ぎ目７７を介して互いにつなぎ合わされている。第２ガイドレール２３ｂと第３ガイドレール２３ｃとは、継ぎ目７９を介して互いにつなぎ合わされている。
また、第１ガイドレール２４ａと第２ガイドレール２４ｂとは、継ぎ目７７を介して互いにつなぎ合わされている。第２ガイドレール２４ｂと第３ガイドレール２４ｃとは、継ぎ目７９を介して互いにつなぎ合わされている。
本実施形態では、第１ベース部２１ａ並びに第１ガイドレール２３ａ及び第１ガイドレール２４ａが、第１ガイド部８１を構成する。第２ベース部２１ｂ並びに第２ガイドレール２３ｂ及び第２ガイドレール２４ｂが、第２ガイド部８２を構成する。また、第３ベース部２１ｃ並びに第３ガイドレール２３ｃ及び第３ガイドレール２４ｃが、第３ガイド部８３を構成する。なお、第１ガイド部８１が第１待機領域７１に対応し、第２ガイド部８２が処理領域７３に対応し、第３ガイド部８３が第２待機領域７５に対応している。
本実施形態では、ワークテーブル２５は、第１待機領域７１と処理領域７３とを含めた領域にわたって移動することができる。つまり、第１待機領域７１と処理領域７３とを含めた領域が、ワークテーブル２５の可動領域として設定されている。
また、ワークテーブル２７は、第２待機領域７５と処理領域７３とを含めた領域にわたって移動することができる。つまり、第２待機領域７５と処理領域７３とを含めた領域が、ワークテーブル２７の可動領域として設定されている。
本実施形態では、ワークテーブル２５は、第１待機領域７１と処理領域７３とを含めた領域にわたって移動することができる。つまり、第１待機領域７１と処理領域７３とを含めた領域が、ワークテーブル２５の可動領域として設定されている。
また、ワークテーブル２７は、第２待機領域７５と処理領域７３とを含めた領域にわたって移動することができる。つまり、第２待機領域７５と処理領域７３とを含めた領域が、ワークテーブル２７の可動領域として設定されている。
第１待機領域７１では、ワークテーブル２５に対するワークＷ１の給除材と、ワークＷ１のアライメント処理とが行われる。
ワークテーブル２５にワークＷ１が給材（供給）される（給材工程）と、第１待機領域７１において、このワークＷ１に対するアライメント処理が行われる。
アライメント処理とは、ワーク搬送装置３に対するワークＷの位置や姿勢を所定の精度内に整える処理である。アライメント処理によって、ワーク搬送装置３に対するワークＷの位置精度や姿勢精度が把握され、ワークＷに施すべき処理の精度が確保され得る。
ワークＷ１に対するアライメント処理は、第１検出装置１４を介してワーク搬送装置３に対するワークＷ１の位置や姿勢を検出する（第１検出工程）ことによって行われる。
ワークテーブル２５は、第１待機領域７１（図５）でワークＷ１に対するアライメント処理が行われてから、ワークＷ１を処理領域７３に搬送する（搬送工程）。
ワークテーブル２５にワークＷ１が給材（供給）される（給材工程）と、第１待機領域７１において、このワークＷ１に対するアライメント処理が行われる。
アライメント処理とは、ワーク搬送装置３に対するワークＷの位置や姿勢を所定の精度内に整える処理である。アライメント処理によって、ワーク搬送装置３に対するワークＷの位置精度や姿勢精度が把握され、ワークＷに施すべき処理の精度が確保され得る。
ワークＷ１に対するアライメント処理は、第１検出装置１４を介してワーク搬送装置３に対するワークＷ１の位置や姿勢を検出する（第１検出工程）ことによって行われる。
ワークテーブル２５は、第１待機領域７１（図５）でワークＷ１に対するアライメント処理が行われてから、ワークＷ１を処理領域７３に搬送する（搬送工程）。
処理領域７３では、ワークテーブル２５に載置されたワークＷ１に対して描画処理が施される（処理工程）。液滴吐出装置１では、描画処理によって、ワークＷへのパターンの描画が行われる。
なお、本実施形態では、ワークＷ１を処理領域７３に搬送した後、且つワークＷ１へのパターンの描画が行われる前に、処理領域７３において、ワーク搬送装置３に対するワークＷ１の位置や姿勢を検出する工程（第２検出工程）が実施される。この第２検出工程については、後述する。
液滴吐出装置１では、吐出ヘッド３３をワークＷに対向させた状態で、吐出ヘッド３３とワークＷとを相対的に往復移動させながら、吐出ヘッド３３から液滴５５を吐出させることによって、ワークＷへのパターンの描画が行われる。
描画処理が施されたワークＷ１は、ワークテーブル２５によって、処理領域７３から第１待機領域７１に搬送される。
ワークテーブル２５によって第１待機領域７１に搬送されたワークＷ１は、第１待機領域７１において、ワークテーブル２５から除材される。そして、ワークテーブル２５には、新たなワークＷ１が給材される。
なお、本実施形態では、ワークＷ１を処理領域７３に搬送した後、且つワークＷ１へのパターンの描画が行われる前に、処理領域７３において、ワーク搬送装置３に対するワークＷ１の位置や姿勢を検出する工程（第２検出工程）が実施される。この第２検出工程については、後述する。
液滴吐出装置１では、吐出ヘッド３３をワークＷに対向させた状態で、吐出ヘッド３３とワークＷとを相対的に往復移動させながら、吐出ヘッド３３から液滴５５を吐出させることによって、ワークＷへのパターンの描画が行われる。
描画処理が施されたワークＷ１は、ワークテーブル２５によって、処理領域７３から第１待機領域７１に搬送される。
ワークテーブル２５によって第１待機領域７１に搬送されたワークＷ１は、第１待機領域７１において、ワークテーブル２５から除材される。そして、ワークテーブル２５には、新たなワークＷ１が給材される。
他方で、第２待機領域７５では、ワークテーブル２７に対するワークＷ２の給除材と、ワークＷ２のアライメント処理とが行われる。
ワークテーブル２７にワークＷ２が給材（供給）される（給材工程）と、第２待機領域７５において、このワークＷ２に対するアライメント処理が行われる。ワークＷ２に対するアライメント処理は、第３検出装置１６（図１）を介してワーク搬送装置３に対するワークＷ２の位置や姿勢を検出する（第１検出工程）ことによって行われる。
ワークテーブル２７は、第２待機領域７５（図５）でワークＷ２に対するアライメント処理が行われてから、ワークＷ２を処理領域７３に搬送する（搬送工程）。
処理領域７３では、ワークテーブル２７に載置されたワークＷ２に対して描画処理が施される（処理工程）。
ワークテーブル２７にワークＷ２が給材（供給）される（給材工程）と、第２待機領域７５において、このワークＷ２に対するアライメント処理が行われる。ワークＷ２に対するアライメント処理は、第３検出装置１６（図１）を介してワーク搬送装置３に対するワークＷ２の位置や姿勢を検出する（第１検出工程）ことによって行われる。
ワークテーブル２７は、第２待機領域７５（図５）でワークＷ２に対するアライメント処理が行われてから、ワークＷ２を処理領域７３に搬送する（搬送工程）。
処理領域７３では、ワークテーブル２７に載置されたワークＷ２に対して描画処理が施される（処理工程）。
なお、本実施形態では、ワークＷ２を処理領域７３に搬送した後、且つワークＷ２へのパターンの描画が行われる前に、処理領域７３において、ワーク搬送装置３に対するワークＷ２の位置や姿勢を検出する工程（第２検出工程）が実施される。この第２検出工程については、後述する。
描画処理が施されたワークＷ２は、ワークテーブル２７によって、処理領域７３から第２待機領域７５に搬送される。
ワークテーブル２７によって第２待機領域７５に搬送されたワークＷ２は、第２待機領域７５において、ワークテーブル２７から除材される。そして、ワークテーブル２７には、新たなワークＷ２が給材される。
描画処理が施されたワークＷ２は、ワークテーブル２７によって、処理領域７３から第２待機領域７５に搬送される。
ワークテーブル２７によって第２待機領域７５に搬送されたワークＷ２は、第２待機領域７５において、ワークテーブル２７から除材される。そして、ワークテーブル２７には、新たなワークＷ２が給材される。
第１検出装置１４は、図１に示すように、第１待機領域７１に設けられている。本実施形態では、第１検出装置１４は、第１待機領域７１の処理領域７３側とは反対寄りに設けられている。
第１検出装置１４は、第１待機領域７１において、ワークテーブル２５の載置面２５ａに載置されたワークＷ１の少なくとも２つのアライメントマーク（図示せず）と、載置面２５ａに設けられた基準マーク（図示せず）とを検出する。第１検出装置１４は、アライメントマークと基準マークとを撮像するカメラ９１と、図示しない同軸落射照明と、を有している。カメラ９１は、図示しない撮像素子を有している。撮像素子としては、例えば、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）などが採用され得る。
同軸落射照明は、カメラ９１の光軸に対して同軸でワークＷ側を照明する。カメラ９１によるアライメントマークと基準マークとの撮像は、同軸落射照明を点灯させた状態で行われる。
第１検出装置１４は、第１待機領域７１において、ワークテーブル２５の載置面２５ａに載置されたワークＷ１の少なくとも２つのアライメントマーク（図示せず）と、載置面２５ａに設けられた基準マーク（図示せず）とを検出する。第１検出装置１４は、アライメントマークと基準マークとを撮像するカメラ９１と、図示しない同軸落射照明と、を有している。カメラ９１は、図示しない撮像素子を有している。撮像素子としては、例えば、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）などが採用され得る。
同軸落射照明は、カメラ９１の光軸に対して同軸でワークＷ側を照明する。カメラ９１によるアライメントマークと基準マークとの撮像は、同軸落射照明を点灯させた状態で行われる。
カメラ９１は、支柱９３の梁部９３ａからＺ方向の下方に向かって吊り下げられている。
支柱９３は、第１待機領域７１に設けられており、平面視で第１ベース部２１ａをＸ方向にまたいでいる。
カメラ９１は、平面視で、第１待機領域７１において第１ベース部２１ａに重なる位置に設けられている。なお、ワークテーブル２５とカメラ９１とが平面視で互いに重畳した状態において、ワークテーブル２５とカメラ９１との間に隙間が保たれている。
上記の構成により、ワークテーブル２５は、平面視で、カメラ９１に重畳し得る。このため、ワークＷ１に設けられているアライメントマークと、載置面２５ａに設けられている基準マークとをカメラ９１を介して撮像することができる。
支柱９３は、第１待機領域７１に設けられており、平面視で第１ベース部２１ａをＸ方向にまたいでいる。
カメラ９１は、平面視で、第１待機領域７１において第１ベース部２１ａに重なる位置に設けられている。なお、ワークテーブル２５とカメラ９１とが平面視で互いに重畳した状態において、ワークテーブル２５とカメラ９１との間に隙間が保たれている。
上記の構成により、ワークテーブル２５は、平面視で、カメラ９１に重畳し得る。このため、ワークＷ１に設けられているアライメントマークと、載置面２５ａに設けられている基準マークとをカメラ９１を介して撮像することができる。
第１検出装置１４により、ワークテーブル２５の基準マークに対するワークＷ１のアライメントマークの位置精度や姿勢精度が検出され得る（第１検出工程）。この結果、ワーク搬送装置３に対するワークＷ１の位置精度や姿勢精度が把握され得る。
そして、ワーク搬送装置３に対するワークＷ１の位置精度や姿勢精度の結果に基づいて、位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えている場合に、ワークＷ１のアライメント処理が実施される。このアライメント処理では、ワークテーブル２５をＸ方向、Ｙ方向及びθ方向に調整することによって、ワーク搬送装置３に対するワークＷ１の位置精度や姿勢精度が許容範囲内に収められる。
これにより、ワークＷ１に対するアライメント処理が終了する。
そして、ワーク搬送装置３に対するワークＷ１の位置精度や姿勢精度の結果に基づいて、位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えている場合に、ワークＷ１のアライメント処理が実施される。このアライメント処理では、ワークテーブル２５をＸ方向、Ｙ方向及びθ方向に調整することによって、ワーク搬送装置３に対するワークＷ１の位置精度や姿勢精度が許容範囲内に収められる。
これにより、ワークＷ１に対するアライメント処理が終了する。
第３検出装置１６は、第２待機領域７５に設けられている。本実施形態では、第３検出装置１６は、第２待機領域７５の処理領域７３側とは反対寄りに設けられている。
第３検出装置１６は、第２待機領域７５において、ワークテーブル２７の載置面２７ａに載置されたワークＷ２の少なくとも２つのアライメントマーク（図示せず）と、載置面２７ａに設けられた基準マーク（図示せず）とを検出する。第３検出装置１６は、アライメントマークと基準マークとを撮像するカメラ９５と、図示しない同軸落射照明と、を有している。カメラ９５は、図示しない撮像素子を有している。撮像素子としては、例えば、ＣＣＤなどが採用され得る。
同軸落射照明は、カメラ９５の光軸に対して同軸でワークＷ側を照明する。カメラ９５によるアライメントマークと基準マークとの撮像は、同軸落射照明を点灯させた状態で行われる。
第３検出装置１６は、第２待機領域７５において、ワークテーブル２７の載置面２７ａに載置されたワークＷ２の少なくとも２つのアライメントマーク（図示せず）と、載置面２７ａに設けられた基準マーク（図示せず）とを検出する。第３検出装置１６は、アライメントマークと基準マークとを撮像するカメラ９５と、図示しない同軸落射照明と、を有している。カメラ９５は、図示しない撮像素子を有している。撮像素子としては、例えば、ＣＣＤなどが採用され得る。
同軸落射照明は、カメラ９５の光軸に対して同軸でワークＷ側を照明する。カメラ９５によるアライメントマークと基準マークとの撮像は、同軸落射照明を点灯させた状態で行われる。
カメラ９５は、支柱９７の梁部９７ａからＺ方向の下方に向かって吊り下げられている。
支柱９７は、第２待機領域７５に設けられており、平面視で第３ベース部２１ｃをＸ方向にまたいでいる。
カメラ９５は、平面視で、第２待機領域７５において第３ベース部２１ｃに重なる位置に設けられている。なお、ワークテーブル２７とカメラ９５とが平面視で互いに重畳した状態において、ワークテーブル２７とカメラ９５との間に隙間が保たれている。
上記の構成により、ワークテーブル２７は、平面視で、カメラ９５に重畳し得る。このため、ワークＷ２に設けられているアライメントマークと、載置面２７ａに設けられている基準マークとをカメラ９５を介して撮像することができる。
支柱９７は、第２待機領域７５に設けられており、平面視で第３ベース部２１ｃをＸ方向にまたいでいる。
カメラ９５は、平面視で、第２待機領域７５において第３ベース部２１ｃに重なる位置に設けられている。なお、ワークテーブル２７とカメラ９５とが平面視で互いに重畳した状態において、ワークテーブル２７とカメラ９５との間に隙間が保たれている。
上記の構成により、ワークテーブル２７は、平面視で、カメラ９５に重畳し得る。このため、ワークＷ２に設けられているアライメントマークと、載置面２７ａに設けられている基準マークとをカメラ９５を介して撮像することができる。
第３検出装置１６により、ワークテーブル２７の基準マークに対するワークＷ２のアライメントマークの位置精度や姿勢精度が検出され得る。この結果、ワーク搬送装置３に対するワークＷ２の位置精度や姿勢精度が把握され得る（第１検出工程）。
そして、ワーク搬送装置３に対するワークＷ２の位置精度や姿勢精度の結果に基づいて、位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えている場合に、ワークＷ２のアライメント処理が実施される。このアライメント処理では、ワークテーブル２７をＸ方向、Ｙ方向及びθ方向に調整することによって、ワーク搬送装置３に対するワークＷ２の位置精度や姿勢精度が許容範囲内に収められる。
これにより、ワークＷ２に対するアライメント処理が終了する。
そして、ワーク搬送装置３に対するワークＷ２の位置精度や姿勢精度の結果に基づいて、位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えている場合に、ワークＷ２のアライメント処理が実施される。このアライメント処理では、ワークテーブル２７をＸ方向、Ｙ方向及びθ方向に調整することによって、ワーク搬送装置３に対するワークＷ２の位置精度や姿勢精度が許容範囲内に収められる。
これにより、ワークＷ２に対するアライメント処理が終了する。
第２検出装置１５は、処理領域７３に設けられている。本実施形態では、第２検出装置１５は、検出装置１０１と、検出装置１０３と、を有している。
検出装置１０１は、処理領域７３において、キャリッジ搬送装置１１よりも第１待機領域７１側に設けられている。他方で、検出装置１０３は、処理領域７３において、キャリッジ搬送装置１１よりも第２待機領域７５側に設けられている。
検出装置１０１は、処理領域７３において、キャリッジ搬送装置１１よりも第１待機領域７１側に設けられている。他方で、検出装置１０３は、処理領域７３において、キャリッジ搬送装置１１よりも第２待機領域７５側に設けられている。
検出装置１０１は、処理領域７３において、ワークテーブル２５に載置されたワークＷ１のアライメントマークと、載置面２５ａに設けられた基準マークとを検出する（第２検出工程）。
検出装置１０１は、アライメントマークと基準マークとを撮像するカメラ１０５と、図示しない同軸落射照明と、を有している。カメラ１０５は、図示しない撮像素子を有している。撮像素子としては、例えば、ＣＣＤなどが採用され得る。
同軸落射照明は、カメラ１０５の光軸に対して同軸でワークＷ側を照明する。カメラ１０５によるアライメントマークと基準マークとの撮像は、同軸落射照明を点灯させた状態で行われる。
検出装置１０１は、アライメントマークと基準マークとを撮像するカメラ１０５と、図示しない同軸落射照明と、を有している。カメラ１０５は、図示しない撮像素子を有している。撮像素子としては、例えば、ＣＣＤなどが採用され得る。
同軸落射照明は、カメラ１０５の光軸に対して同軸でワークＷ側を照明する。カメラ１０５によるアライメントマークと基準マークとの撮像は、同軸落射照明を点灯させた状態で行われる。
カメラ１０５は、支柱１０７の梁部１０７ａからＺ方向の下方に向かって吊り下げられている。
支柱１０７は、処理領域７３に設けられており、キャリッジ搬送装置１１よりも第１待機領域７１側において、平面視で第２ベース部２１ｂをＸ方向にまたいでいる。
カメラ１０５は、平面視で、処理領域７３において第２ベース部２１ｂに重なる位置に設けられている。なお、ワークテーブル２５とカメラ１０５とが平面視で互いに重畳した状態において、ワークテーブル２５とカメラ１０５との間に隙間が保たれている。
上記の構成により、ワークテーブル２５は、平面視で、カメラ１０５に重畳し得る。このため、ワークＷ１に設けられているアライメントマークと、載置面２５ａに設けられている基準マークとをカメラ１０５を介して撮像することができる。
支柱１０７は、処理領域７３に設けられており、キャリッジ搬送装置１１よりも第１待機領域７１側において、平面視で第２ベース部２１ｂをＸ方向にまたいでいる。
カメラ１０５は、平面視で、処理領域７３において第２ベース部２１ｂに重なる位置に設けられている。なお、ワークテーブル２５とカメラ１０５とが平面視で互いに重畳した状態において、ワークテーブル２５とカメラ１０５との間に隙間が保たれている。
上記の構成により、ワークテーブル２５は、平面視で、カメラ１０５に重畳し得る。このため、ワークＷ１に設けられているアライメントマークと、載置面２５ａに設けられている基準マークとをカメラ１０５を介して撮像することができる。
検出装置１０１により、ワークテーブル２５の基準マークに対するワークＷ１のアライメントマークの位置精度や姿勢精度が検出され得る。この結果、ワーク搬送装置３に対するワークＷ１の位置精度や姿勢精度が把握され得る。
本実施形態では、検出装置１０１によって検出された位置精度や姿勢精度の結果に基づいて、位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えているか否かを把握することができる。つまり、第１待機領域７１でアライメント処理が実施されたワークＷ１の位置精度や姿勢精度が、処理領域７３に搬送される過程で変化しているか否かを監視することができる。
そして、位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えている場合には、ワークＷ１のアライメント処理が実施される。このアライメント処理では、ワークテーブル２５をＸ方向、Ｙ方向及びθ方向に調整することによって、ワーク搬送装置３に対するワークＷ１の位置精度や姿勢精度が許容範囲内に収められる。このアライメント処理の後に、ワークＷ１に対する描画処理が施される。
他方で、位置精度や姿勢精度が許容範囲内にある場合には、ワークＷ１に対する描画処理が施される。
本実施形態では、検出装置１０１によって検出された位置精度や姿勢精度の結果に基づいて、位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えているか否かを把握することができる。つまり、第１待機領域７１でアライメント処理が実施されたワークＷ１の位置精度や姿勢精度が、処理領域７３に搬送される過程で変化しているか否かを監視することができる。
そして、位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えている場合には、ワークＷ１のアライメント処理が実施される。このアライメント処理では、ワークテーブル２５をＸ方向、Ｙ方向及びθ方向に調整することによって、ワーク搬送装置３に対するワークＷ１の位置精度や姿勢精度が許容範囲内に収められる。このアライメント処理の後に、ワークＷ１に対する描画処理が施される。
他方で、位置精度や姿勢精度が許容範囲内にある場合には、ワークＷ１に対する描画処理が施される。
検出装置１０３は、処理領域７３において、ワークテーブル２７に載置されたワークＷ２のアライメントマークと、載置面２７ａに設けられた基準マークとを検出する（第２検出工程）。
検出装置１０３は、アライメントマークと基準マークとを撮像するカメラ１１１と、図示しない同軸落射照明と、を有している。カメラ１１１は、図示しない撮像素子を有している。撮像素子としては、例えば、ＣＣＤなどが採用され得る。
同軸落射照明は、カメラ１１１の光軸に対して同軸でワークＷ側を照明する。カメラ１１１によるアライメントマークと基準マークとの撮像は、同軸落射照明を点灯させた状態で行われる。
検出装置１０３は、アライメントマークと基準マークとを撮像するカメラ１１１と、図示しない同軸落射照明と、を有している。カメラ１１１は、図示しない撮像素子を有している。撮像素子としては、例えば、ＣＣＤなどが採用され得る。
同軸落射照明は、カメラ１１１の光軸に対して同軸でワークＷ側を照明する。カメラ１１１によるアライメントマークと基準マークとの撮像は、同軸落射照明を点灯させた状態で行われる。
カメラ１１１は、支柱１１３の梁部１１３ａからＺ方向の下方に向かって吊り下げられている。
支柱１１３は、処理領域７３に設けられており、キャリッジ搬送装置１１よりも第２待機領域７５側において、平面視で第２ベース部２１ｂをＸ方向にまたいでいる。
カメラ１１１は、平面視で、処理領域７３において第２ベース部２１ｂに重なる位置に設けられている。なお、ワークテーブル２７とカメラ１１１とが平面視で互いに重畳した状態において、ワークテーブル２７とカメラ１１１との間に隙間が保たれている。
上記の構成により、ワークテーブル２７は、平面視で、カメラ１１１に重畳し得る。このため、ワークＷ２に設けられているアライメントマークと、載置面２７ａに設けられている基準マークとをカメラ１１１を介して撮像することができる。
支柱１１３は、処理領域７３に設けられており、キャリッジ搬送装置１１よりも第２待機領域７５側において、平面視で第２ベース部２１ｂをＸ方向にまたいでいる。
カメラ１１１は、平面視で、処理領域７３において第２ベース部２１ｂに重なる位置に設けられている。なお、ワークテーブル２７とカメラ１１１とが平面視で互いに重畳した状態において、ワークテーブル２７とカメラ１１１との間に隙間が保たれている。
上記の構成により、ワークテーブル２７は、平面視で、カメラ１１１に重畳し得る。このため、ワークＷ２に設けられているアライメントマークと、載置面２７ａに設けられている基準マークとをカメラ１１１を介して撮像することができる。
検出装置１０３により、ワークテーブル２７の基準マークに対するワークＷ２のアライメントマークの位置精度や姿勢精度が検出され得る。この結果、ワーク搬送装置３に対するワークＷ２の位置精度や姿勢精度が把握され得る。
本実施形態では、検出装置１０３によって検出された位置精度や姿勢精度の結果に基づいて、位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えているか否かを把握することができる。つまり、第２待機領域７５でアライメント処理が実施されたワークＷ２の位置精度や姿勢精度が、処理領域７３に搬送される過程で変化しているか否かを監視することができる。
そして、位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えている場合には、ワークＷ２のアライメント処理が実施される。このアライメント処理では、ワークテーブル２７をＸ方向、Ｙ方向及びθ方向に調整することによって、ワーク搬送装置３に対するワークＷ２の位置精度や姿勢精度が許容範囲内に収められる。このアライメント処理の後に、ワークＷ２に対する描画処理が施される。
他方で、位置精度や姿勢精度が許容範囲内にある場合には、ワークＷ２に対する描画処理が施される。
本実施形態では、検出装置１０３によって検出された位置精度や姿勢精度の結果に基づいて、位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えているか否かを把握することができる。つまり、第２待機領域７５でアライメント処理が実施されたワークＷ２の位置精度や姿勢精度が、処理領域７３に搬送される過程で変化しているか否かを監視することができる。
そして、位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えている場合には、ワークＷ２のアライメント処理が実施される。このアライメント処理では、ワークテーブル２７をＸ方向、Ｙ方向及びθ方向に調整することによって、ワーク搬送装置３に対するワークＷ２の位置精度や姿勢精度が許容範囲内に収められる。このアライメント処理の後に、ワークＷ２に対する描画処理が施される。
他方で、位置精度や姿勢精度が許容範囲内にある場合には、ワークＷ２に対する描画処理が施される。
本実施形態において、液滴吐出装置１が処理装置に対応し、ワーク搬送装置３がステージ装置に対応し、吐出ヘッド３３が処理部に対応している。また、ワークテーブル２５がテーブルに対応し、ワークテーブル２７が第２テーブルに対応している。
本実施形態では、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７のいずれか一方に載置されたワークＷに処理領域７３で描画処理が施されている間に、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７の他方に対するワークＷの給除材とアライメント処理とが実施される。このため、本実施形態では、描画処理の効率を向上させやすくすることができる。
本実施形態では、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７のいずれか一方に載置されたワークＷに処理領域７３で描画処理が施されている間に、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７の他方に対するワークＷの給除材とアライメント処理とが実施される。このため、本実施形態では、描画処理の効率を向上させやすくすることができる。
また、本実施形態では、ベース部２１並びにガイドレール２３及びガイドレール２４が、それぞれ、Ｙ方向に沿って、第１待機領域７１と処理領域７３と第２待機領域７５との領域ごとに複数の構成体に分割可能な分割構造が採用されている。このため、ベース部２１並びにガイドレール２３及びガイドレール２４として、それぞれ、一体構造が採用されている場合に比較して、ワーク搬送装置３を輸送しやすくすることができる。
他方で、ベース部２１並びにガイドレール２３及びガイドレール２４として、それぞれ、分割構造が採用されている場合、一体構造に比較して、ワーク搬送装置３に対するワークＷの位置精度や姿勢精度がずれやすいと考えられる。ワーク搬送装置３に対するワークＷの位置精度や姿勢精度がずれると、ワークＷに対する処理精度が低下することが考えられる。ワーク搬送装置３に対するワークＷの位置精度や姿勢精度のずれは、ワークテーブル２５が継ぎ目７７を乗り越えるときや、ワークテーブル２７が継ぎ目７９を乗り越えるときに発生しやすいと考えられる。
このようなことに対し、本実施形態では、第２検出装置１５によってワーク搬送装置３に対するワークＷの位置精度や姿勢精度のずれを監視することができるので、ワークＷに対する処理精度の低下を抑えやすくすることができる。
また、本実施形態では、ワーク搬送装置３に対するワークＷの位置精度や姿勢精度のずれを監視した結果、ワークＷの位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えてずれてしまったときだけ、ワークＷの位置精度や姿勢精度を調整すればよい。このため、描画処理の効率を一層向上させやすくすることができる。
このようなことに対し、本実施形態では、第２検出装置１５によってワーク搬送装置３に対するワークＷの位置精度や姿勢精度のずれを監視することができるので、ワークＷに対する処理精度の低下を抑えやすくすることができる。
また、本実施形態では、ワーク搬送装置３に対するワークＷの位置精度や姿勢精度のずれを監視した結果、ワークＷの位置精度や姿勢精度が許容範囲を超えてずれてしまったときだけ、ワークＷの位置精度や姿勢精度を調整すればよい。このため、描画処理の効率を一層向上させやすくすることができる。
なお、本実施形態では、第２検出装置１５が２つの検出装置１０１と検出装置１０３とを有している。しかしながら、第２検出装置１５の構成は、これに限定されない。第２検出装置１５の構成としては、例えば、検出装置１０１及び検出装置１０３のいずれか一方だけを有する構成も採用され得る。この構成の場合、検出装置１０１及び検出装置１０３のいずれか一方が、ワークＷ１及びワークＷ２の双方のアライメントマークと、ワークテーブル２５及びワークテーブル２７の双方の基準マークとを検出する。
しかしながら、第２検出装置１５が２つの検出装置１０１と検出装置１０３とを有する構成は、描画処理の効率を向上させやすくすることができる点で好ましい。これは、ワークＷ１の位置精度や姿勢精度を検出装置１０１で検出し、ワークＷ２の位置精度や姿勢精度を検出装置１０３で検出すれば、処理にかかる時間を短縮することができるためである。
また、第２検出装置１５の構成としては、例えば、検出装置１０１及び検出装置１０３の他に別の検出装置を付加した構成も採用され得る。
さらに、第１検出装置１４や第３検出装置１６の構成についても、それぞれ、例えば、別の検出装置を付加した構成が採用され得る。
しかしながら、第２検出装置１５が２つの検出装置１０１と検出装置１０３とを有する構成は、描画処理の効率を向上させやすくすることができる点で好ましい。これは、ワークＷ１の位置精度や姿勢精度を検出装置１０１で検出し、ワークＷ２の位置精度や姿勢精度を検出装置１０３で検出すれば、処理にかかる時間を短縮することができるためである。
また、第２検出装置１５の構成としては、例えば、検出装置１０１及び検出装置１０３の他に別の検出装置を付加した構成も採用され得る。
さらに、第１検出装置１４や第３検出装置１６の構成についても、それぞれ、例えば、別の検出装置を付加した構成が採用され得る。
１…液滴吐出装置、３…ワーク搬送装置、７…キャリッジ、１１…キャリッジ搬送装置、１４…第１検出装置、１５…第２検出装置、１６…第３検出装置、２１…ベース部、２１ａ…第１ベース部、２１ｂ…第２ベース部、２１ｃ…第３ベース部、２３…ガイドレール、２３ａ…第１ガイドレール、２３ｂ…第２ガイドレール、２３ｃ…第３ガイドレール、２４…ガイドレール、２４ａ…第１ガイドレール、２４ｂ…第２ガイドレール、２４ｃ…第３ガイドレール、２５…ワークテーブル、２７…ワークテーブル、３３…吐出ヘッド、５３…機能液、５５…液滴、７１…第１待機領域、７３…処理領域、７５…第２待機領域、７７…継ぎ目、７９…継ぎ目、８１…第１ガイド部、８２…第２ガイド部、８３…第３ガイド部、９１…カメラ、９５…カメラ、１０１…検出装置、１０３…検出装置、１０５…カメラ、１１１…カメラ、Ｗ，Ｗ１，Ｗ２…ワーク。
Claims (7)
- ワークを支持するテーブルと、
前記テーブルの移動を案内する第１ガイド部と、
前記第１ガイド部につなぎ合わされており、前記テーブルの移動経路を延長する第２ガイド部と、
つなぎ合わされた前記第１ガイド部と前記第２ガイド部との継ぎ目よりも前記第１ガイド部側に設けられ、前記テーブルが前記継ぎ目よりも前記第１ガイド部側に位置している状態で、前記ワークの前記テーブルに対する位置精度を検出する第１検出装置と、
前記継ぎ目よりも前記第２ガイド部側に設けられ、前記テーブルが前記継ぎ目よりも前記第２ガイド部側に位置している状態で、前記ワークの前記テーブルに対する位置精度を検出する第２検出装置と、を有する、
ことを特徴とするステージ装置。 - ワークを支持する第２テーブルと、
前記第２ガイド部の前記第１ガイド部側とは反対側で前記第２ガイド部につなぎ合わされており、前記第２ガイド部の前記第１ガイド部側とは反対側から前記第２ガイド部に前記第２テーブルを案内する第３ガイド部と、
つなぎ合わされた前記第３ガイド部と前記第２ガイド部との継ぎ目よりも前記第３ガイド部側に設けられ、前記第２テーブルが前記継ぎ目よりも前記第３ガイド部側に位置している状態で、前記ワークの前記第２テーブルに対する位置精度を検出する第３検出装置と、を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。 - 前記テーブル及び前記第２テーブルには、それぞれ、基準マークが設けられており、
前記第１検出装置及び前記第２検出装置は、それぞれ、前記基準マークに対する前記ワークの位置を検出することによって、前記ワークの前記テーブルに対する位置精度を検出し、
前記第３検出装置及び前記第２検出装置は、それぞれ、前記基準マークに対する前記ワークの位置を検出することによって、前記ワークの前記第２テーブルに対する位置精度を検出する、
ことを特徴とする請求項２に記載のステージ装置。 - 前記テーブルには、基準マークが設けられており、
前記第１検出装置及び前記第２検出装置は、それぞれ、前記基準マークに対する前記ワークの位置を検出することによって、前記ワークの前記テーブルに対する位置精度を検出する、
ことを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。 - 請求項２又は３に記載のステージ装置と、
前記テーブルに支持された前記ワークと前記第２テーブルに支持された前記ワークとに対して処理を施す処理部と、を有する、
ことを特徴とする処理装置。 - 請求項１又は４に記載のステージ装置と、
前記テーブルに支持された前記ワークに対して処理を施す処理部と、を有する、
ことを特徴とする処理装置。 - ワークを支持するテーブルの移動を案内する第１ガイド部と、前記第１ガイド部に継ぎ目を介してつなぎ合わされた第２ガイド部と、を有するステージ装置の前記第１ガイド部の領域において、前記テーブルに前記ワークを給材する給材工程と、
前記給材工程の後に、前記第１ガイド部の領域において、前記テーブルに対する前記ワークの位置精度を検出する第１検出工程と、
前記第１検出工程の後に、前記テーブルを前記第１ガイド部から前記継ぎ目を越えて前記第２ガイド部に移動させることによって、前記ワークを前記第２ガイド部の領域に搬送する搬送工程と、
前記搬送工程の後に、前記第２ガイド部の領域において、前記テーブルに対する前記ワークの位置精度を検出する第２検出工程と、を有する、
ことを特徴とする処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011123481A JP5834500B2 (ja) | 2011-06-01 | 2011-06-01 | ステージ装置、処理装置及び処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011123481A JP5834500B2 (ja) | 2011-06-01 | 2011-06-01 | ステージ装置、処理装置及び処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012250792A true JP2012250792A (ja) | 2012-12-20 |
| JP5834500B2 JP5834500B2 (ja) | 2015-12-24 |
Family
ID=47523985
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011123481A Active JP5834500B2 (ja) | 2011-06-01 | 2011-06-01 | ステージ装置、処理装置及び処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5834500B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020028832A (ja) * | 2018-08-21 | 2020-02-27 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 搬送ステージとそれを使用したインクジェット装置 |
| KR102568193B1 (ko) * | 2022-12-26 | 2023-08-21 | 주식회사 파인텍 | 모듈 간 이음 연결 구조를 갖는 ｌｍｓ 물류 이송장치 |
-
2011
- 2011-06-01 JP JP2011123481A patent/JP5834500B2/ja active Active
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020028832A (ja) * | 2018-08-21 | 2020-02-27 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 搬送ステージとそれを使用したインクジェット装置 |
| KR102568193B1 (ko) * | 2022-12-26 | 2023-08-21 | 주식회사 파인텍 | 모듈 간 이음 연결 구조를 갖는 ｌｍｓ 물류 이송장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP5834500B2 (ja) | 2015-12-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5473129B2 (ja) | スクライブ装置およびスクライブ方法 | |
| JP4058453B2 (ja) | 液滴塗布装置 | |
| JP4086879B2 (ja) | 液滴塗布装置 | |
| JP5152058B2 (ja) | 液滴吐出ヘッドの検査方法、液滴吐出ヘッドの検査装置及び液滴吐出装置 | |
| JP2018143977A (ja) | 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
| JP5125948B2 (ja) | ワーク移動テーブルおよびこれを備えた液滴吐出装置 | |
| JP4729957B2 (ja) | 液滴吐出ヘッドバー、液滴吐出装置、及び、液滴吐出ヘッドバー製造方法 | |
| JP5621277B2 (ja) | 液滴吐出装置 | |
| JP5834500B2 (ja) | ステージ装置、処理装置及び処理方法 | |
| JP2012251822A (ja) | ステージ装置及び処理装置 | |
| JP2018030054A (ja) | 液滴吐出装置及び液滴吐出条件補正方法 | |
| JP2010082488A (ja) | ワーク移動テーブルおよびこれを備えた液滴吐出装置 | |
| JP5621276B2 (ja) | 液滴吐出装置 | |
| JP5849459B2 (ja) | 処理装置及び処理方法 | |
| JP3976769B2 (ja) | 液滴塗布装置 | |
| JP4115930B2 (ja) | 位置調整方法と位置調整装置と組立装置及びそれにより組み立てられた印字ヘッド | |
| JP2009279531A (ja) | 描画検査装置および描画検査方法 | |
| JP2011177679A (ja) | 液滴吐出装置および液滴吐出装置の制御方法 | |
| JP2010058359A (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法 | |
| JP2010069628A (ja) | 液体噴射ヘッドの取り付け方法 | |
| JP2006198508A (ja) | 液滴吐出装置、液滴吐出装置におけるワーク加振方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器 | |
| JP2010042625A (ja) | 液体噴射ヘッドモジュール、及び、液体噴射ヘッドモジュールの製造方法 | |
| JP2010030069A (ja) | 液体噴射ヘッドモジュール、及び、液体噴射ヘッドモジュールの製造方法 | |
| CN109760418B (zh) | 搬运台和使用该搬运台的喷墨装置 | |
| JP5327431B2 (ja) | 圧電型アクチュエータ、液体吐出ヘッド及び画像形成装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140528 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20150107 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150512 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150703 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151006 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151019 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5834500 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |