JP2012243967A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012243967A5 JP2012243967A5 JP2011113005A JP2011113005A JP2012243967A5 JP 2012243967 A5 JP2012243967 A5 JP 2012243967A5 JP 2011113005 A JP2011113005 A JP 2011113005A JP 2011113005 A JP2011113005 A JP 2011113005A JP 2012243967 A5 JP2012243967 A5 JP 2012243967A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dose
- dpb
- calculation
- coordinates
- area density
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 231100000628 reference dose Toxicity 0.000 description 2
Images
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011113005A JP5792513B2 (ja) | 2011-05-20 | 2011-05-20 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
| US13/465,221 US9006691B2 (en) | 2011-05-20 | 2012-05-07 | Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method using a generated frame that surrounds a first data processing block |
| KR1020120053093A KR101444366B1 (ko) | 2011-05-20 | 2012-05-18 | 하전 입자빔 묘화 장치 및 하전 입자빔 묘화 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011113005A JP5792513B2 (ja) | 2011-05-20 | 2011-05-20 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012243967A JP2012243967A (ja) | 2012-12-10 |
| JP2012243967A5 true JP2012243967A5 (enExample) | 2014-06-05 |
| JP5792513B2 JP5792513B2 (ja) | 2015-10-14 |
Family
ID=47174256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011113005A Active JP5792513B2 (ja) | 2011-05-20 | 2011-05-20 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9006691B2 (enExample) |
| JP (1) | JP5792513B2 (enExample) |
| KR (1) | KR101444366B1 (enExample) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5693981B2 (ja) * | 2011-01-20 | 2015-04-01 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
| JP5985852B2 (ja) | 2012-03-27 | 2016-09-06 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
| JP6147528B2 (ja) * | 2012-06-01 | 2017-06-14 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 |
| JP6567843B2 (ja) * | 2014-07-02 | 2019-08-28 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
| JP7210991B2 (ja) * | 2018-10-11 | 2023-01-24 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 |
| JP7701216B2 (ja) * | 2021-08-27 | 2025-07-01 | 株式会社Screenホールディングス | 描画システム、描画方法およびプログラム |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IL97021A0 (en) * | 1991-01-24 | 1992-03-29 | Ibm Israel | Partitioning method for e-beam lithography |
| JPH06333796A (ja) * | 1993-05-20 | 1994-12-02 | Fujitsu Ltd | 露光データ処理方法及び装置 |
| US5870312A (en) * | 1996-06-28 | 1999-02-09 | Lsi Logic Corporation | Advanced modular cell placement system with dispersion-driven levelizing system |
| US5847959A (en) * | 1997-01-28 | 1998-12-08 | Etec Systems, Inc. | Method and apparatus for run-time correction of proximity effects in pattern generation |
| JPH10256124A (ja) * | 1997-03-12 | 1998-09-25 | Sony Corp | 描画パターンデータ作成方法、電子ビーム描画方法、基体加工方法、並びに電子線描画装置 |
| JP3340387B2 (ja) * | 1998-05-29 | 2002-11-05 | 株式会社日立製作所 | 電子線描画装置 |
| US6415432B1 (en) * | 1999-04-21 | 2002-07-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Lithography pattern data generation method, lithography pattern fabrication method and charged particle lithography system |
| KR100297732B1 (ko) * | 1999-06-21 | 2001-11-01 | 윤종용 | 반도체 소자의 소정 물질층의 패턴밀도를 구하는 방법 및 이를 이용한 화학기계적 연마의 시뮬레이션 방법 |
| JP3394237B2 (ja) * | 2000-08-10 | 2003-04-07 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子ビーム露光方法及び装置 |
| JP2004023053A (ja) * | 2002-06-20 | 2004-01-22 | Sony Corp | 電子ビーム露光方法 |
| US7174526B2 (en) * | 2004-07-30 | 2007-02-06 | Lsi Logic Corporation | Accurate density calculation with density views in layout databases |
| JP4989158B2 (ja) * | 2005-09-07 | 2012-08-01 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子線描画データの作成方法及び荷電粒子線描画データの変換方法 |
| JP2007281184A (ja) * | 2006-04-06 | 2007-10-25 | Toshiba Corp | 電子ビーム描画データ生成方法および電子ビーム描画データ生成装置 |
| JP4932433B2 (ja) * | 2006-11-02 | 2012-05-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法 |
| US7902528B2 (en) * | 2006-11-21 | 2011-03-08 | Cadence Design Systems, Inc. | Method and system for proximity effect and dose correction for a particle beam writing device |
| US7824828B2 (en) * | 2007-02-22 | 2010-11-02 | Cadence Design Systems, Inc. | Method and system for improvement of dose correction for particle beam writers |
| JP4751353B2 (ja) * | 2007-03-06 | 2011-08-17 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | データ検証方法及び荷電粒子ビーム描画装置 |
| JP4945380B2 (ja) * | 2007-09-05 | 2012-06-06 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
| JP5314937B2 (ja) * | 2008-06-06 | 2013-10-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画装置及び描画用データの処理方法 |
| JP5204687B2 (ja) * | 2009-02-18 | 2013-06-05 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置 |
| JP5408652B2 (ja) | 2009-05-15 | 2014-02-05 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画方法および装置 |
| JP5530688B2 (ja) * | 2009-09-18 | 2014-06-25 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置およびその近接効果補正方法 |
| JP5636238B2 (ja) * | 2010-09-22 | 2014-12-03 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
-
2011
- 2011-05-20 JP JP2011113005A patent/JP5792513B2/ja active Active
-
2012
- 2012-05-07 US US13/465,221 patent/US9006691B2/en active Active
- 2012-05-18 KR KR1020120053093A patent/KR101444366B1/ko active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2012243967A5 (enExample) | ||
| JP2014103308A5 (enExample) | ||
| US20140098090A1 (en) | Generating a consensus mesh from an input set of meshes | |
| JP2011517827A5 (enExample) | ||
| JP2015165565A5 (enExample) | ||
| JP2017515970A (ja) | 3次元物品の付加製造のための方法、装置、及びコンピュータ可読媒体 | |
| EA201592097A1 (ru) | Двухэтапное построение скоростных моделей распространения сейсмических волн | |
| WO2009004523A3 (en) | Method for eliminating scatter artefacts in computed tomography | |
| US20140033144A1 (en) | Providing elecron beam proximity effect correction by simulating write operations of polygonal shapes | |
| JP2013541845A5 (enExample) | ||
| CN105631939B (zh) | 一种基于曲率滤波的三维点云畸变校正方法及其系统 | |
| JP2008259612A5 (enExample) | ||
| JP2015122069A5 (enExample) | ||
| JP2013232531A5 (enExample) | ||
| CN108846222A (zh) | 一种pcb设计中丝印摆放方法、装置、设备和存储介质 | |
| JP2010079807A5 (enExample) | ||
| JP5792513B2 (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | |
| JP2016100445A5 (enExample) | ||
| JP2015125162A5 (ja) | マスクパターン作成方法、プログラム、マスク製造方法、露光方法及び物品製造方法 | |
| Imbs et al. | Help when needed, but no more: efficient read/write partial snapshot | |
| JP2006507051A5 (enExample) | ||
| CN103295267A (zh) | 一种基于最小折叠代价的三维模型边折叠简化的方法 | |
| JP2016517574A5 (enExample) | ||
| JP2012222517A5 (enExample) | ||
| CN104183006A (zh) | 一种基于Web3D模型的动态贴图方法 |