JP2012230180A - 光学装置および光学装置の制御方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】1回目の調整箇所として、光源ユニット1において、光源の駆動電流を調整し、調整結果の出射パワーPm_chとモニタ電圧Vm_chとを各チャネル毎に測定してメモリに書き込む。2回目の光量調整箇所として、代表チャネルchRのレーザビームのみを出射させて、像面光量P2が設定した目標光量P1になるようにAPCを実行して像面光量P2を測定する。仮の光利用効率η1と、目標光量P1と、像面光量P2とを用いて真の光利用効率η2を求め、メモリに書き込む。APCは、像面光量P2が目標光量P1になるように制御するための各チャネルchの基準値VREF_chを、光利用効率η、出射パワーPm_chおよびモニタ電圧Vm_chとを用いて各チャネルch毎に算出して行う。
【選択図】図8
Description
光源ユニット1から出射される各レーザビーム30は、それぞれの光量Pが規定の範囲内の光量となるように調整されている必要がある。図4は、光源ユニット1に対する一例の光量調整手順を示すフローチャートである。この図4のフローチャートによる光量調整手順は、例えば、当該光学装置を組み立てる工場などにおいて、光源ユニット1が組み上がった時点で実行される。
図5は、光利用効率ηの取得手順を示す一例のフローチャートである。この図5のフローチャートに示される光利用効率取得手順は、例えば、当該光学装置を組み立てる工場などにおいて、光源ユニット1が書込みユニット2に組み付けられた状態で実行される。
η2=(P2/P1)×η1 …(1)
次に、本実施形態に適用可能なAPCの動作について説明する。なお、以下では、レーザビーム光源14がそれぞれ独立にレーザビーム30を出射可能な発光点をチャネル番号「1」〜「40」の40チャネル分有する場合について説明する。
VREF_ch=(Vm_ch/Pm_ch)×(P1/η) …(2)
次に、本発明の実施形態の第1の変形例について説明する。上述した実施形態では、レーザビーム光源14の複数のチャネルchのうち1のチャネルchによるレーザビーム30のみを出力させて真の光利用効率η2を算出しているが、これはこの例に限定されない。本実施形態の第1の変形例では、レーザビーム光源14の複数のチャネルchのうち2以上のチャネルchによる複数のレーザビーム30を同時に出力させ、この複数のレーザビーム30による像面光量P2’を用いて真の光利用効率η2を算出する。
η2={P2’/(P1×n)}×η1 …(3)
次に、本発明の実施形態の第2の変形例について説明する。本実施形態の第2の変形例は、上述した実施形態を、光束分割方式による書込みユニットに適用した例である。光束分割方式は、光分割プリズムと反射角の異なる2つのポリゴンミラーとを用いて各レーザビーム30を分割して2本のレーザビームを生成し、これら2本のレーザビームをそれぞれ異なる感光体に照射させる。
2,100 書込みユニット
11 光源コントローラ
12 フィードバック電圧演算部
14 レーザビーム光源
15 受光素子
20,202 ポリゴンミラー
22,22a,22b 感光体ドラム
30 レーザビーム
30a,30b 分割ビーム
31,31a,31b 走査ビーム
101 メモリ
102 演算部
Claims (5)
- 複数のレーザビームを出力する光源と、
前記光源から出力されるレーザビームを検出し、検出された該レーザビームの光量を電圧値に変換して出力する検出手段と、
前記複数のレーザビーム毎に、出力される光量と該光量に対応する前記電圧値とを関連付けて予め記憶する第1の記憶手段と、
前記複数のレーザビームを被走査面に導き走査させる光学系の光利用効率を示す値を予め記憶する第2の記憶手段と、
前記第1の記憶手段に記憶された前記光量および前記電圧値と、前記第2の記憶手段に記憶される前記光利用効率を示す値とに基づき、前記レーザビームが前記被走査面に対して予め設定された目標光量で照射された際に前記検出手段から出力されるべき前記電圧値である目標電圧値を、前記複数のレーザビーム毎に算出する算出手段と、
前記検出手段から出力される前記電圧値が、前記算出手段で算出される前記目標電圧値に近付くように前記光源からの前記複数のレーザビームの出力を制御する制御手段と
を有する
ことを特徴とする光学装置。 - 前記光学系は、
前記光源から出力される前記レーザビームを分割して複数の分割レーザビームを生成し、該複数の分割レーザビームを、それぞれ異なる被走査面に導き走査させ、
前記第2の記憶手段は、
前記光学系の前記複数の分割ビームそれぞれの光利用効率を示す値を予め記憶する
ことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。 - 前記光利用効率は、
前記光源から前記複数のレーザビームのうち1のレーザビームを出力させ、該1のレーザビームの光量と、該1のレーザビームが前記光学系を通過し前記被走査面を走査した際の、該被走査面上の光量との比率から求める
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光学装置。 - 前記光利用効率は、
前記光源から前記複数のレーザビームのうち2以上のレーザビームを出力させ、該2以上のレーザビームの光量と、該2以上のレーザビームが前記光学系を通過し前記被走査面を走査した際の、該被走査面上の光量との比率から求める
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光学装置。 - 検出手段が、複数のレーザビームを出力する光源から出力されるレーザビームを検出し、検出された該レーザビームの光量を電圧値に変換して出力する検出ステップと、
算出手段が、第1の記憶手段に予め記憶された、前記複数のレーザビーム毎の出力光量および該出力光量に対応する前記電圧値と、第2の記憶手段に予め記憶された、前記複数のレーザビームを被走査面に導き走査させる光学系の光利用効率を示す値とに基づき、前記レーザビームが前記被走査面に対して予め設定された目標光量で照射された際に前記検出ステップにより出力されるべき前記電圧値である目標電圧値を、前記複数のレーザビーム毎に算出する算出ステップと、
制御手段が、前記検出ステップにより出力される前記電圧値が、前記算出ステップにより算出される前記目標電圧値に近付くように前記光源からの前記複数のレーザビームの出力を制御する制御ステップと
を有する
ことを特徴とする光学装置の制御方法。
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