JP2012222186A - 磁性シートの移載システム、キャリア及び磁性シートの移載方法 - Google Patents

Abstract

【課題】磁性シートを円滑に移載することができる磁性シートの移載システム、キャリア及び磁性シートの移載方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係るキャリア１０は、第１の非磁性基板１１と、第２の非磁性基板１２と、磁石１３とを有する。第１の非磁性基板１１は、磁性シートＭを支持する第１の面１１ａとこれとは反対側の第２の面１１ｂとを有する。第２の非磁性基板１２は、第２の面１１ｂに対向し、磁石１３は、第２の非磁性基板１２に固定され、第１の面１１ａに磁場を形成する。第１の非磁性基板１２は、第２の非磁性基板１２と近接した第１の支持位置と第２の非磁性基板１２から離間した第２の支持位置との間を移動可能に構成され、第２の支持位置で第２の非磁性基板１２からウェーハカセットへ磁性シートとともに移載される。
【選択図】図５

Description

本発明は、磁性シートの移載システム、磁性シートを支持するためのキャリア及び磁性シートの移載方法に関する。

従来より、真空処理によって薄膜が形成される基板として、シリコン基板、ガラス基板、金属基板、絶縁体基板等が知られているが、磁性体基板も採用されることがある。例えば特許文献１には、トレイに嵌め込まれた磁性体基板について、その真空処理時に磁石によって基板を保持固定できる成膜装置が記載されている。

真空処理装置を用いて基板に成膜等の真空処理をする際、典型的には、未処理の基板は大気室から処理室へ搬送されて所定の真空処理を施され、処理後の基板は再び大気室に搬送されて、カセット等に移載される。基板の特性によっては、特許文献１のように、その形態を維持するためにトレイ等によって支持された状態で一連の工程が行われる場合もある。

特開平９−３２４２７３号公報

磁石の磁力でトレイ上に基板を保持する真空処理方法においては、当該磁力による影響でトレイからカセット等へ基板を円滑に移載することが困難な場合が多い。特に基板がシート状あるいはフィルム状である場合、移載時に基板に皺や変形が生じたり、基板がトレイやカセットから脱落したりするおそれがある。

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、磁性シートを円滑に移載することができる磁性シートの移載システム、磁性シートを支持するためのキャリア及び磁性シートの移載方法を提供することにある。

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る磁性シートの移載システムは、キャリアと、移動機構とを具備する。
上記キャリアは、第１の非磁性基板と、第２の非磁性基板と、磁石とを有する。上記第１の非磁性基板は、上記磁性シートを支持することが可能な第１の面と、上記第１の面とは反対側の第２の面とを有する。上記第２の非磁性基板は、上記第２の面に対向する第３の面と、上記第３の面とは反対側の第４の面とを有する。上記磁石は、上記第２の非磁性基板に固定され、上記第１の面に磁場を形成する。
上記移動機構は、上記第１の非磁性基板を支持可能な支持体と、駆動部とを有する。上記駆動部は、上記第１の非磁性基板が上記第２の非磁性基板と近接した第１の支持位置と、上記第１の非磁性基板が上記第２の非磁性基板から離間した第２の支持位置との間で上記支持体を移動させる。

本発明の一形態に係るキャリアは、磁性シートを支持するためのキャリアであって、第１の非磁性基板と、第２の非磁性基板と、磁石とを具備する。
上記第１の非磁性基板は、上記磁性シートを支持することが可能な第１の面と、上記第１の面と反対側の第２の面とを有する。
上記第２の非磁性基板は、上記第２の面に対向する。
上記磁石は、上記第２の非磁性基板に固定され、上記第１の面に磁場を形成する。

本発明の一形態に係る磁性シートの移載方法は、第１の非磁性基板と、前記第１の非磁性基板に対向する第２の非磁性基板と、前記第２の非磁性基板に固定された磁石とを有するキャリアを用いた磁性シートの移載方法である。
上記磁性シートは、上記磁石の磁力で上記第１の非磁性基板の表面で保持される。
上記キャリア上の上記磁性シートは、真空処理室内で真空処理される。
上記第１の非磁性基板は、上記第２の非磁性基板から離間させられる。
上記磁性シートは、上記第１の非磁性基板と上記第２の非磁性基板との間に配置された載台に、上記第１の非磁性層とともに移載される。

本発明の一実施形態に係る移載システムを備えた真空処理装置の概略構成図である。 本発明の一実施形態に係るキャリアを示す概略平面図である。 図２における［Ａ］−［Ａ］方向の概略断面図である。 本発明の移動機構の構成を示す斜視図である。 磁性シートの移載時におけるキャリアとリフターピンとの態様を示した概略断面図であり、（Ａ）は、第１の支持位置での態様を示し、（Ｂ）は、第２の支持位置での態様を示す。 ウェーハカセットへ磁性シートを移載する際の移載システムとウェーハカセットとの関係を示した概略図であり、（Ａ）は磁性シートと第１の基板とがリフターピンに支持されている態様を示し、（Ｂ）は磁性シートと第１の基板とがウェーハカセットに収容されている態様を示す。 本発明の一実施形態に係るキャリアを示す概略断面図である。

本発明の一実施形態に係る磁性シートの移載システムは、キャリアと、移動機構とを具備する。
上記キャリアは、第１の非磁性基板と、第２の非磁性基板と、磁石とを有する。上記第１の非磁性基板は、上記磁性シートを支持することが可能な第１の面と、上記第１の面とは反対側の第２の面とを有する。上記第２の非磁性基板は、上記第２の面に対向する第３の面と、上記第３の面とは反対側の第４の面とを有する。上記磁石は、上記第２の非磁性基板に固定され、上記第１の面に磁場を形成する。
上記移動機構は、上記第１の非磁性基板を支持可能な支持体と、駆動部とを有する。上記駆動部は、上記第１の非磁性基板が上記第２の非磁性基板と近接した第１の支持位置と、上記第１の非磁性基板が上記第２の非磁性基板から離間した第２の支持位置との間で上記支持体を移動させる。

上記移載システムにおいて、第１の非磁性基板は、移動機構によって上記第１の支持位置と上記第２の支持位置との間を移動することができる。第１の支持位置では、磁性シートは、第１の面上に形成された磁石の磁場により保持される。これにより、例えば真空チャンバ内で基板を搬送する際、磁性シートが第１の面上に吸着固定され、形状を維持することができる。さらに、例えば処理室内で縦型の成膜装置等を採用する際、キャリアを垂直に立てても磁性シートが保持され、その形状を維持することができる。

一方、第２の支持位置では、磁性シートと第１の非磁性基板とが磁石及び第２の非磁性基板から離間している。第２の支持位置において第１の面上に形成される磁石の磁場は、上記第１の支持位置におけるよりも低下するため、磁性シートは、移載システムとカセット等の載台との間で容易に移載される。また磁性シートは、第２の支持位置で磁力による保持力が低下しても、第１の非磁性基板上の第１の面に支持されていることから、その形状の変化が抑制される。

上記移載システムにおいて、上記磁石は、上記第２の非磁性基板の第３の面に固定されてもよい。また、上記磁石は、上記第３の面とは反対側の第４の面に固定されてもよい。

上記第２の非磁性基板は、複数の貫通孔を有し、上記支持体は、上記複数の貫通孔に対応して配置された複数本の軸部材を有してもよい。この場合、上記駆動部は、上記複数本の軸部材の各々をその軸方向に昇降させる。

上記磁石は、永久磁石でもよいし、電磁石でもよい。上記磁石は、複数の永久磁石片で構成されてもよいし、単一の磁石で構成されてもよい。永久磁石材料は特に限定されず、例えばサマリウムコバルト系磁石やネオジム系磁石等で構成される。このような素材の磁石を用いることによって十分な磁力で磁性シートを保持できるが、特にサマリウムコバルト系磁石においては、真空処理時に高温となっても磁力の低下が少なく、磁性シートを安定的に保持することができる。さらに、複数の磁石を用いることによって、磁性シートの形態安定性を向上させることができる。

本発明の一実施形態に係るキャリアは、磁性シートを支持するためのキャリアであって、第１の非磁性基板と、第２の非磁性基板と、磁石とを具備する。
上記第１の非磁性基板は、上記磁性シートを支持することが可能な第１の面と、上記第１の面と反対側の第２の面とを有する。
上記第２の非磁性基板は、上記第２の面に対向する。
上記磁石は、上記第２の非磁性基板に固定され、上記第１の面に磁場を形成する。

本発明の一実施形態に係る移載方法は、第１の非磁性基板と、前記第１の非磁性基板に対向する第２の非磁性基板と、前記第２の非磁性基板に固定された磁石とを有するキャリアを用いた磁性シートの移載方法である。
上記磁性シートは、上記磁石の磁力で上記第１の非磁性基板の表面で保持される。
上記キャリア上の上記磁性シートは、真空処理室内で真空処理される。
上記第１の非磁性基板は、上記第２の非磁性基板から離間させられる。
上記磁性シートは、上記第１の非磁性基板と上記第２の非磁性基板との間に配置された載台に、上記第１の非磁性層とともに移載される。

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。

[真空処理装置の構成]
図１は、本実施形態に係る移載システムを備えた真空処理装置１の概略構成図である。本実施形態では、真空処理装置１がマルチチャンバ方式の真空処理装置であるとする。なお、ここでは一般的な基板を真空処理するとして真空処理装置１の構成を説明する。

真空処理装置１は、移載室６と、ロードロック室２Ａ，２Ｂと、処理室３Ａ，３Ｂと、コア室（搬送室）４とを備えている。なお、ロードロック室２Ａ，２Ｂ、処理室３Ａ，３Ｂ及びコア室４は、図示しない排気システムがそれぞれ接続されており、真空排気可能な真空チャンバを構成している。

移載室６は、大気圧であって、内部にウェーハカセット７と基板搬送ロボット６ａが設置されている。基板搬送ロボット６ａは後述する移動機構２０を有しており、当該移動機構によって、基板搬送ロボット６ａとウェーハカセット７との間で未処理あるいは処理済の基板を相互に移載することができる。さらに基板搬送ロボット６ａは、ロードロック室２Ａ，２Ｂとウェーハカセット７との間で未処理あるいは処理済の基板を搬送する。移載室６はドア５Ａ，５Ｂを介してロードロック室２Ａ，２Ｂに連絡している。

ロードロック室２Ａ，２Ｂはそれぞれ同一の構成を有しており、内部に所定枚数の基板を収容できるストッカが設置されている。ロードロック室２Ａ，２Ｂは図示の例のように複数設置される場合に限らず、単数であってもよい。

処理室３Ａ，３Ｂは、基板に対して所定の真空処理を行い、エッチング室、加熱室、成膜室（スパッタ室、ＣＶＤ室）等で構成されているが、本実施形態ではいずれも成膜室とされている。処理室３Ａ，３Ｂには、真空処理中に基板を支持するプラテン機構（図示せず）が設置され、その周囲に、例えば、高周波電力を投入可能なカソード（図示せず）を備えている。なお、図示せずとも各処理室３Ａ，３Ｂには、プロセスに応じた所定の成膜ガス（反応ガス、原料ガス、不活性ガス等）のガス源が接続されている。

コア室４では、ロードロック室２Ａ，２Ｂと処理室３Ａ，３Ｂとの間における基板の受け渡しを行う。コア室４は、図示せずとも内部に基板搬送ロボットを有しており、ロードロック室２Ａ，２Ｂと処理室３Ａ，３Ｂとの間、あるいは処理室３Ａと処理室３Ｂとの間において、基板の受け渡しを行うように構成されている。

真空処理装置１を用いて基板を真空処理する際には、まず移載室６内でウェーハカセット７から移動機構２０（基板搬送ロボット６ａ）に基板が移載され、基板搬送ロボット６ａによってロードロック室２Ａ，２Ｂへと搬送される。さらに、コア室４の基板搬送ロボットによって処理室３Ａ，３Ｂへと搬送され、所定の真空処理が行われる。真空処理後の基板は、処理前とは逆の工程を経て移載室６へ搬送され、移動機構２０によってウェーハカセット７へ移載される。

真空処理装置１における真空排気系及び基板搬送系の駆動、ドアバルブの開閉、移載室６における基板搬送ロボット６ａ（移動機構２０）の駆動等は、図示しないコントローラによって制御される。

以上のように構成された真空処理装置１は、移載室６において本発明に係る移載システムを採用している。上記移載システムは、キャリア１０と、移動機構２０とを具備する。以下、キャリア１０、移動機構２０の構成についてそれぞれ説明する。

[キャリアの構成]
図２は、本発明の一実施形態に係る磁性シートのキャリア１０を示す概略平面図であり、図３は、図２における[Ａ]−[Ａ]方向の概略断面図である。キャリア１０は、第１の基板（第１の非磁性基板）１１と、第２の基板（第２の非磁性基板）１２と、磁石１３とを具備する。

第１の基板１１は、第２の基板１２の上に載置される。第１の基板１１は、例えばガラス基板等であり、磁性シートＭを支持可能な第１の面１１ａとその反対側の第２の面１１ｂとを有する。第１の基板１１を構成する材料は、非磁性であればよく、導体でも絶縁体でもよい。第１の基板１１の厚みは、第２の基板１２の上に載置された状態で、磁石１３の磁力によって第１の面１１ａ上に磁性シートＭを保持できる均一な厚さで形成され、例えば０．３ｍｍ以上１．２ｍｍ以下の厚みを有する。また、第１の面１１ａの大きさは特に制限されず、本実施形態では磁性シートＭより大きく形成される。

第２の基板１２は、第１の基板１１の第２の面１１ｂに対向する第３の面１２ａと、その反対側の第４の面１２ｂとを有する。第２の基板１２を構成する材料は、例えばガラス基板等であるが、非磁性であればよく、導体でも絶縁体でもよい。第２の基板１２の厚みはほぼ均一に形成される。第２のガラス基板１２の大きさは特に制限されないが、本実施形態では第１の基板１１とほぼ同じ大きさで形成される。

さらに、第２の基板１２は、後述する複数のリフターピン２１０に対応する複数の貫通孔２１０ａを有している。貫通孔２１０ａはリフターピン２１０を各々貫通可能に構成されている。

磁石１３は、第１の基板１１を介して第１の面１１ａに磁場を形成する複数個の永久磁石片で構成される。本実施形態では、各磁石１３は、第２の基板１２の第３の面１２ａに固定されている。磁石１３の配置は、磁性シートＭの形状、磁石１３の磁気特性や形状、磁性シートＭとの距離等を考慮して、磁性シートＭの形状を保持できるよう設定される。例えば、図２のように磁性シートＭが矩形である場合には、例えば四隅と中央部に対応する第２の面１２ａ上に配置される。また各々の磁石１３は、貫通孔２１０ａが形成されない位置に配置される。

第３の面１２ａ上への磁石１３の固定には、例えば接着剤が用いられる。この種の接着剤としては、磁性シートＭとの間に磁力が作用している状態で第１の基板１１と第２の基板１２を離間させたとしても、磁石１３が第３の面１２ａ上から剥離せず、かつ真空処理時の温度、圧力で接着性が低下しない接着剤が用いられる。このような接着剤としては、耐熱性無機接着剤を用いることができ、さらに具体的には、例えば東亞合成社製の「アロンセラミック」（商品名）が挙げられる。

また、磁石１３の形状は、第１の基板１１を挟んで磁性シートＭを保持できれば特に制限されず、角型でも丸型でも、第３の面１２ａ全体を覆う1枚の板状あるいはシート状でもあってもよい。この場合、板状あるいはシート状の磁石は貫通孔２１０ａを塞がないように、その貫通孔２１０ａに対応する部分が穿孔される。

磁石１３を構成する材料は、第１の基板１１を挟んで第１の面１１ａに磁性シートＭを保持できる磁力を有し、かつ真空処理時の温度、圧力で磁性が低下しないものであればよく、このような材料として、例えばサマリウムコバルト系磁石やネオジム系磁石等の永久磁石が挙げられる。

サマリウムコバルト系の磁石は希土類磁石の一つであり、強力な永久磁石として知られている。また、キュリー点が高いため真空処理時の高温下（１５０℃〜３００℃）であっても磁力を十分維持することができる。このため、サマリウムコバルト系磁石片で構成された磁石１３を用いることによって、真空処理に係る一連の工程を経ても磁石１３の変性や磁力の低下が少なく、磁性シートＭに対する保持力を安定に維持することができる。

一方、ネオジム系の磁石も希土類磁石の一つであり、非常に強力な永久磁石として知られている。例えば真空処理装置１内で高温下での処理工程が含まれない場合に、磁石１３としてネオジム系磁石片を用いることができる。その他の永久磁石片についても、その磁性と真空処理装置１内での処理条件とを鑑みて、磁性シートＭを安定的に保持することが可能であれば、磁石１３として用いることができる。

磁性シートＭは、外部磁場により磁化される軟磁気特性を有する強磁性材料で形成されたシートあるいは箔で構成される。また、磁性シートＭとしては、プラスチックフィルムや紙等の表面に上記強磁性層が形成された複合シートであってもよい。強磁性材料は特に限定されず、典型的には、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等が挙げられるが、これ以外にも、Ｆｅ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ｎｉ系等の合金材料であってもよい。

[移動機構の構成]
図４は、本実施形態に係る移動機構２０の構成を示す斜視図である。移動機構２０は、支持体としての複数本のリフターピン（軸部材）２１０と、駆動部２２とを有する。

リフターピン２１０及び駆動部２２は、ハンド２１１に設けられている。ハンド２１１は、基板搬送ロボット６ａの多関節アームの先端に取り付けられており、ハンド２１１の上面は、キャリア１０が載置可能なステージ面２１１ａを構成している。

各リフターピン２１０は、ハンド２１１のステージ面２１１ａに対して垂直に配置されており、駆動部２２によってリフターピン２１０の軸方向に昇降可能に構成されている。リフターピン２１０は、磁性シートＭの移載時以外においてハンド２１１の内部に退避しており、移載時にはステージ面２１１ａから上方へ突出するよう構成されている。なお、リフターピン２１０の本数及び配置は、後述するように第１の基板１１を支持できれば特に制限されない。

駆動部２２は、ハンド２１１内に設置されており、複数本のリフターピン２１０を軸方向に同時に昇降させる。なお駆動部２２は、典型的にはエアシリンダあるいはステッピングモータであるが、リフターピン２１０を昇降可能であれば特に制限されない。駆動部２２の駆動は上記コントローラによって制御される。

次に、図面を参照しながら、本実施形態に係る移載システムを用いた磁性シートＭの移載方法について説明する。

[磁性シートの移載方法]
図５は、磁性シートの移載時におけるキャリア１０とリフターピン２１０との態様を示した概略断面図である。（Ａ）は、第１の基板１１と第２の基板１２とが相互に近接した第１の支持位置での態様を示し、（Ｂ）は、第１の基板１１と第２の基板１２とが相互に離間した第２の支持位置での態様を示す。なお、ハンド２１１は図示を省略している。

磁性シートＭを真空処理装置１によって真空処理する際、キャリア１０は、ロードロック室２Ａ，２Ｂ、処理室３Ａ，３Ｂ、コア室４内における工程の間、常に、図５（Ａ）に示す態様にあり、磁性シートＭは、キャリア１０の第１の面１１ａに磁石１３の磁力によって保持されている。すなわち、磁性シートＭは、キャリア１０と一体的に処理室３Ａ，３Ｂに搬送され、処理室３Ａ，３Ｂ内にて成膜等の所定の真空処理が行われる。

第１の支持位置では、磁性シートＭが磁石１３によって第１の面１１ａ上に保持されており、磁性シートＭとキャリア１０が一体化している。よって、真空処理装置１内でこれらを搬送する際、磁性シートＭが第１の面１１ａ上で形状を維持することができる。さらに、例えば処理室３Ａ，Ｂ内で縦型の成膜装置等を採用する際、キャリア１０を垂直に立てても磁性シートＭが第１の面１１ａ上に保持され、その形状を維持することができる。

また、磁石１３は、キュリー点が比較的高いサマリウムコバルト系の磁石片であるため、真空処理時の高温下（１５０℃〜３００℃）であっても磁力を十分維持することができる。よって、真空処理に係る一連の工程を経ても磁石１３の変性や磁力の低下が少なく、磁性シートＭに対する保持力を安定に維持することができる。

真空処理された磁性シートＭは、移載室６に搬送され、基板搬送ロボット６ａによってウェーハカセット７へ移載される。図６は、ウェーハカセット７へ磁性シートＭを移載する際の移載システムとウェーハカセット７との関係を示した概略図であり、（Ａ）は磁性シートＭと第１の基板１１がリフターピン２１０に支持されている態様を示し、（Ｂ）は磁性シートＭと第１の基板１１がウェーハカセット７に収容されている態様を示す。ウェーハカセット７は、図６に示すように、典型的には基板の対向する２辺を支持する基板支持台（載台）７ａを有する。

ロードロック室２Ａ，２Ｂから移載室６へ搬送された磁性シートＭとキャリア１０は、ハンド２１１のステージ面２１１ａ上に支持されている。磁性シートＭを移載する際は、ハンド２１１内部に退避していたリフターピン２１０が軸方向に上昇し、第２の基板１２の貫通孔２１０ａを各々貫通する。第１の基板１１に当接したリフターピン２１０は、さらに上昇し、磁性シートＭと第１の基板１１とが一体化して持ち上げられる（図５（Ｂ））。このとき、第１の基板１１は第２の基板１２から離間しており、第２の支持位置にある。

複数本のリフターピン２１０によって支持された第１の基板１１と磁性シートＭは、ウェーハカセット７の所定の基板支持台７ａ上に配置される（図６（Ａ））。このとき、ウェーハカセット７の基板支持台７ａは、第１の基板１１と第２の基板１２との間に位置する。そして、複数のリフターピン２１０は同時に下降し、磁性シートＭと第１の基板１１がウェーハカセット７へ移載される（図６（Ｂ））。

以上のように、キャリア１０は、移動機構２０によって第１の支持位置と第２の支持位置との間を移動することができる。第２の支持位置では、磁性シートＭと第１の基板１１が磁石１３とは離間しており、磁石１３による保持力は低下している。このため、磁性シートＭが、ウェーハカセット７の基板支持台７ａへ容易に移載される。また磁性シートＭは、第２の支持位置で磁力による保持力が低下しても、第１の基板１１上の第１の面１１ａに支持されていることから、その形状の変化を抑制することができる。

以上、本発明の実施の形態について説明したが、勿論、本発明はこれに限定されることなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。

例えば以上の実施形態では、キャリア１０について、磁石１３が第３の面１２ａに固定されたが、図７のように、磁石１３は第３の面１２ａとは反対側の第４の面１２ｂに固定されてよい。この実施形態において、第１の基板１１と第２の基板１２の厚さは、それぞれ均一で、かつ磁石１３が第１の基板１１と第２の基板１２を挟んで磁性シートＭを保持できる厚さで形成される。この場合、第１の基板１１は第２の基板１２よりも薄くてもよい。

また、以上の実施形態では、磁性シートＭを移載する載台がウェーハカセット７であるとして説明したが、これに限らず、例えば別の搬送ロボットのハンド等でもよい。

また、以上の実施形態では、移動機構２０について、支持体２１は昇降可能なリフターピン２１０を有していると説明したが、これに代えて、第１の基板１１の下面を支持し、昇降させるハンド等を有するロボットで構成されていてもよい。この実施形態では、第２の基板１２に貫通孔２１０ａを形成する必要はないが、第１の基板１１または第２の基板１２に、ハンド等の差し込みが可能な溝等を形成してもよい。また、第１の基板を側方から把持可能に構成されたロボットが上記移動機構として採用されてもよい。

なお、一実施形態としてマルチチャンバ型の真空処理装置１について説明したが、これに限らず、例えばインライン型の真空処理装置にも適用可能である。さらに、移載室６において、基板搬送ロボット６ａの一部に移動機構２０が構成されているとしたが、別のロボットとしてもよい。

１・・・真空処理装置
２Ａ，２Ｂ・・・ロードロック室
３Ａ，３Ｂ・・・処理室
４・・・コア室
６・・・移載室
７・・・ウェーハカセット
Ｍ・・・磁性シート
１０・・・キャリア
１１・・・第１の基板
１２・・・第２の基板
１３・・・磁石
２０・・・移動機構
２２・・・駆動部
２１０・・・リフターピン
２１１・・・ハンド

Claims (7)

1. 磁性シートの移載システムであって、
   前記磁性シートを支持することが可能な第１の面と前記第１の面とは反対側の第２の面とを有する第１の非磁性基板と、前記第２の面に対向する第３の面と前記第３の面とは反対側の第４の面とを有する第２の非磁性基板と、前記第２の非磁性基板に固定され前記第１の面に磁場を形成する磁石とを有するキャリアと、
   前記第１の非磁性基板を支持可能な支持体と、前記第１の非磁性基板が前記第２の非磁性基板と近接した第１の支持位置と前記第１の非磁性基板が前記第２の非磁性基板から離間した第２の支持位置との間で前記支持体を移動させる駆動部とを有する移動機構と
   を具備する磁性シートの移載システム。
2. 請求項１に記載の磁性シートの移載システムであって、
   前記磁石は、前記第３の面に固定される
   磁性シートの移載システム。
3. 請求項１に記載の磁性シートの移載システムであって、
   前記磁石は、前記第４の面に固定される
   磁性シートの移載システム。
4. 請求項１から３のいずれかに記載の磁性シートの移載システムであって、
   前記第２の非磁性基板は、複数の貫通孔を有し、
   前記支持体は、前記複数の貫通孔に対応して配置された複数本の軸部材を有し、
   前記駆動部は、前記複数本の軸部材の各々をその軸方向に昇降させる
   磁性シートの移載システム。
5. 請求項１から４のいずれかに記載の磁性シートの移載システムであって、
   前記磁石は、複数の永久磁石片で構成される
   磁性シートの移載システム。
6. 磁性シートを支持するためのキャリアであって、
   前記磁性シートを支持することが可能な第１の面と、前記第１の面とは反対側の第２の面とを有する第１の非磁性基板と、
   前記第２の面に対向する第２の非磁性基板と、
   前記第２の非磁性基板に固定され、前記第１の面に磁場を形成する磁石と
   を具備するキャリア。
7. 第１の非磁性基板と、前記第１の非磁性基板に対向する第２の非磁性基板と、前記第２の非磁性基板に固定された磁石とを有するキャリアを用いた磁性シートの移載方法であって、
   前記磁石の磁力で前記磁性シートを前記第１の非磁性基板の表面で保持し、
   前記キャリア上の前記磁性シートを真空処理室内で真空処理し、
   前記第１の非磁性基板を前記第２の非磁性基板から離間させ、
   前記第１の非磁性基板と前記第２の非磁性基板との間に配置された載台に、前記磁性シートを前記第１の非磁性基板とともに移載する
   磁性シートの移載方法。

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