JP2012222139A - レーザ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
被処理体100を収容して調整された雰囲気下で被処理体100にレーザ光を照射する処理室2と、処理室2内に外部からレーザ光を導く光学系と、を備え、処理室2は、処理室2外部から処理室2内部に被処理体100を装入する開閉可能な装入口7を有し処理室2内部に、装入口7に連なるロードエリアAとロードエリアAに連なるレーザ光照射エリアBを備え、ロードエリアAを前記装入口側の空間A1とレーザ光照射エリア側空間A2に仕切る仕切部を有し、仕切部は、装入口側空間A1とレーザ光照射エリア側空間A2の間で被処理体100の移動が可能である。
【選択図】図1
Description
処理室45には、被処理体100を装入して載置するステージ46が配置され、処理室45の天板には外部からレーザ光を導入する導入窓47が設けられている。処理室45には、ゲートバルブ44を介して搬送ロボット室43が接続され、さらに搬送ロボット室43には、ゲートバルブ42を介してロードロック室41が接続されている。ロードロック室41の外部には、ロードロック室41内に被処理体100を搬送する搬送ロボット40が配置される。
上記ロードロック室41、搬送ロボット室43、処理室45は、真空もしくは所定のガス雰囲気下でゲートバルブ42、44を介して連通する。
しかし、該処理装置では、搬送ロボット室およびロードロック室を設けるためのコストが嵩み、また、処理室以外の設置スペースも大きく確保する必要がある。さらには、被処理体の搬出、搬入の度にロードロック室内の雰囲気を窒素ガスや不活性ガス等へ置換する為の時間やランニングコストが必要となり、また、被処理体を搬送するための時間も増大するという問題がある。
前記処理室は、前記処理室外部から前記処理室内部に前記被処理体を装入する開閉可能な装入口を有するとともに、前記処理室内部に、前記装入口に連なるロードエリアと、該ロードエリアに連なるレーザ光照射エリアと、を備え、
前記ロードエリアを前記装入口側の空間と前記レーザ光照射エリア側の空間とに仕切る仕切部を有し、該仕切部は、前記装入口側の空間と前記レーザ光照射エリア側の空間との間で前記被処理体の移動が可能であることを特徴とする。
仕切部は、被処理体がロードエリアからレーザ光照射エリアに移動することが可能になっている。仕切部に開放部を設けておき該開放部を通して被処理体の移動を行うことができる。
仕切部に被処理体が移動可能な開放部を設けておくことで、ロードエリアからレーザ光照射エリアへの被処理体の移動を円滑に行うことができる。開放部としては、常時開放されているものであってもよく、開閉動作を伴うものであってもよい。また、ガスカーテンのように、被処理体の移動に伴って開放状態になるものであってもよい。
また、被処理体としては、上記レーザアニール処理の対象となる半導体(例えばシリコン半導体)を代表的なものとして示すことができるが、本発明としてはその種別が特に限定されるものではなく、処理の目的に沿って対象とされるものであればよい。
また、上記処理は、調整された雰囲気下で処理室内において行われる。該雰囲気は、大気雰囲気を除外するものであり、不活性ガス雰囲気、真空雰囲気などが代表的に挙げられる。また、湿度、温度などを調整した雰囲気であってもよい。すなわち、本発明としては調整された雰囲気の種別は特に限定されるものではなく、大気下以外であって所定の条件に調整されるものであればよい。
ロードエリアの装入口側空間の雰囲気調整は、1)被処理体が処理室に搬入、搬出されるとき、2)処理中および3)被処理体が処理室内において搬送されるとき、それぞれの場合において上記給排気装置を用いて行うことができる。
1、ロードエリアの装入口側空間に給気を行うことで得られるシール構造により装入口外部より混入してくる大気量を抑えるとともに、処理室内部におけるロードエリアの装入口側空間外への大気混入を低減させる。
2、給排気によりロードエリアの装入口側空間に混入した大気雰囲気を短時間で窒素やその他の大気以外のレーザ処理に影響を与えにくい雰囲気に置換することができる。
上記により、大気混入によるレーザ光照射部雰囲気への影響を低減させることにより、照射部の雰囲気を短時間で安定化させることが可能となる。
また、ロードロック室や搬送ロボット室などの設置が不要になり、スペース効率が向上する。さらに、ロードロック室の雰囲気調整のために必要な時間や雰囲気ガスの使用量の低減効果がある。
図1は、レーザ処理装置1の正面断面を示す図であり、図2は平面断面図、図3は、左側面断面図である。
レーザ処理装置1は、処理室2と、該処理室2外にあるレーザ発振器3と該レーザ発振器3から出力されたレーザ光3aを整形して前記処理室2に導く光学系4を備えている。
また、処理室2には、光学系4の一部としてレーザ光3aを処理室2外部から処理室2内に導く導入窓5を有しており、導入窓5を通して導かれるレーザ光3aは、処理室2内に設けたシールドボックス6に設けた透過孔6aを通して被処理体100に照射される。シールドボックス6は、被処理体100の照射部分にシールドガスを吹き付けるものである。
待機位置のステージ10と装入口7との間の間隙量は本発明としては特に限定されるものではないが、例えば、100〜300mmを挙げることができる。装入口7から待機位置にあるステージ10の前方端に至るまでの空間がロードエリアAとなっており、ステージ10の前方端よりも前方側の空間がレーザ光照射エリアBになっている。
なお、待機位置にあるステージ10の上面が被処理体100の保持ポジションとなる。
側面仕切壁12、12は本発明の仕切部の一部を構成する。
下方水平仕切壁13の後端は、側壁2a付近で装入口7の開口部分に達している。さらに下方水平仕切壁13の後端には、板面を縦にした後方縦仕切壁14が連続しており、後方縦仕切壁14は左右方向に伸長して左右方向両端面は側面仕切壁12、12の内面に隙間なく密着している。
下方水平仕切壁13および後方縦仕切壁14は、本発明の仕切部の一部を構成する。
前記隙間G1を通して被処理体100の移動が可能になっており、隙間G1は、仕切部の開放部を構成する。
なお、上記では仕切部は固定物として説明したが、仕切部を可動のものや可変形状のものによって構成することも可能である。
装入口側空間A1に雰囲気ガスを給気することで、上記した仕切壁とステージ10との間の僅かな隙間からガスが外側に向けて吹き出されることでガスカーテンとしての機能が得られ、シールド性が向上する。したがって、仕切壁とステージ10との隙間は、ステージの移動を損なわない程度に極力小さくするのが望ましく、また、雰囲気ガスの給気によるガスカーテンの作用が十分に得られる程度に小さくすることが望ましい。
先ず、処理に先立ってステージ10を待機位置に移動させてゲートバルブ8を閉めておき、流量計16b、17b、18b、19bによって流量を調整しつつ、開閉弁16a、17a、18a、19aを開けて排気とともに雰囲気ガスを給気して処理室2内の雰囲気を調整する。
また、レーザ光照射エリアBに設けた照射エリア給気ライン18と照射エリア排気ライン19は、被処理体100の搬入、処理、被処理体の搬出に至るまで、給気および排気を継続したままにするのが望ましい。
また、ステージ10を左右方向で移動させて走査位置を変更することで、被処理体100の全面に亘ってレーザ光照射による処理を行うことができる。該処理において、仕切壁はステージ10および被処理体100の移動に支障となることはない。
なお、上記実施形態では、側面仕切壁12は、待機位置にあるステージ10の後方端部近くに前端が位置してロードエリアを装入口側空間と、保持ポジション側空間と同様のレーザ光照射側空間に仕切るものについて説明したが、仕切部の前端位置を保持ポジション側空間内に設けるものであってもよい。この例を図5、6に基づいて説明する。図5は、処理室2を縦に断面した図であり、図6は、天板を省略した平面図である。
なお、前記実施形態と同様の構成については同一の符号を付してその説明を省略または簡略化する。
側面仕切壁20の後方側では、待機したステージ10の後方近くに、上記実施形態と同様に下方水平仕切壁13が位置し、装入口7側に後方縦仕切壁14を有している。側面仕切板20の前方端は、ステージ10が移動する際にステージ10が最前方に位置したときに、ステージ10の後端と重ならない位置になっている。これによりステージ10が被処理体100を保持して左右に移動する際に側面仕切壁20と干渉することはない。
また、前方縦仕切壁21の下端と、ステージ10の上面との間には隙間G2が確保されている。前面縦仕切壁21は、本発明の仕切部の一部を構成する。
前記隙間G2を通して被処理体100の移動が可能になっており、隙間G2は、仕切部の開放部を構成する。
上記側面仕切板20、20、下方水平仕切板13、後方縦仕切壁14、前方縦仕切壁21によって、本発明の仕切部となる仕切壁が構成されている。
側面仕切壁20、20、下方水平仕切壁13、後方縦仕切壁14、前方縦仕切壁21で構成される仕切壁は、装入口7側空間の周囲を覆い、ロードエリアAを装入口側空間A3と、レーザ光照射エリア側空間A4とに仕切ってシールド性を得ている。
装入口側空間A3には、前記実施形態と同様に装入口側給気ライン16と装入口側排気ライン17が接続されており、装入口側給気ライン16からの給気によってガスカーテン作用を得てシールド性を向上させることができ、また、装入口側排気ライン17によって混入した大気を早期に排除することができる。また、レーザ光照射エリアBには、前記実施形態と同様に、レーザ光照射側給気ライン18とレーザ光照射側排気ライン19が接続されている。各ラインには、開閉弁18a、流量計18b、開閉弁19a、流量計19bが介設されている。
上記各実施形態では、ロードエリアAを装入口側空間とレーザ光照射エリア側空間とに仕切る仕切部について説明したが、これに加えてロードエリアAとレーザ光照射エリアBとを仕切る第2の仕切部を備えるものであってもよい。
この実施形態3では、前記仕切部を第1の仕切部として、第2の仕切部を有しており、詳細を図7に基づいて説明する。図7は、処理室2を縦に断面した図である。
なお、前記各実施形態と同様の構成については同一の符号を付してその説明を省略または簡略化する。
側面仕切壁30の後方側では、待機したステージ10の後方端面近くに、上記実施形態と同様に下方水平仕切板13が位置し、装入口7側に後方縦仕切壁14が設けられている。また、下方水平仕切壁13の前方端直上に、前方縦仕切壁15が設けられている。前方縦仕切壁15は、上端面が天板2bに隙間なく密着しており、下方端は、下方水平仕切壁13上面との間で間隙G1を有している。
側面仕切壁30の装入口7からステージ10の後端部に至る範囲と、下方水平仕切壁13、後方縦仕切壁14、前方縦仕切壁15は、第1の仕切部を構成する。
側面仕切壁30、前方縦仕切壁31およびステージ10は、本発明の第2の仕切部を構成している。
側面仕切壁30、30の後方側、下方水平仕切壁13、後方縦仕切壁14、前方縦仕切壁15で構成される第1の仕切部は、装入口7側空間の周囲を覆い、ロードエリアAを装入口側空間A1と、レーザ光照射エリア側空間A2とに仕切ってシールド性を得ている。さらに側面仕切壁30の前方部と、前方縦仕切壁31、ステージ10上面で構成される第2の仕切部は、処理室2内をロードエリアAとレーザ光照射エリアBとに仕切ってさらにシールド性を得ている。
装入口側空間A1は、前記各実施形態と同様に装入口側給気ラインからの給気によってガスカーテン作用を得てシールド性を向上させることができ、また、装入口側排気ラインによって混入した大気を早期に排除することができる。
2 処理室
3 レーザ発振器
4 光学系
6 シールドボックス
7 装入口
8 ゲートバルブ
9 搬送ロボット
10 ステージ
11 移動装置
12 側面仕切壁
13 下方水平仕切壁
14 後方縦仕切壁
15 前方縦仕切壁
16 装入口側給気ライン
17 装入口側排気ライン
18 照射エリア給気ライン
19 照射エリア排気ライン
20 側面仕切壁
21 前方縦仕切壁
30 側面仕切壁
31 前方縦仕切壁
31 前方縦仕切壁
A ロードエリア
A1 装入口側空間
A2 レーザ光照射側空間
A3 装入口側空間
A4 レーザ光照射側空間
B レーザ光照射エリア
100 被処理体
Claims (14)
- 被処理体を収容して調整された雰囲気下で該被処理体にレーザ光を照射する処理室と、該処理室内に外部からレーザ光を導く光学系と、を備え、
前記処理室は、前記処理室外部から前記処理室内部に前記被処理体を装入する開閉可能な装入口を有するとともに、前記処理室内部に、前記装入口に連なるロードエリアと、該ロードエリアに連なるレーザ光照射エリアと、を備え、
前記ロードエリアを前記装入口側の空間と前記レーザ光照射エリア側の空間とに仕切る仕切部を有し、該仕切部は、前記装入口側の空間と前記レーザ光照射エリア側の空間との間で前記被処理体の移動が可能であることを特徴とするレーザ処理装置。 - 前記仕切部は、前記ロードエリアを前記装入口側の空間と前記レーザ光照射エリア側の空間とに仕切る仕切壁を有することを特徴とする請求項1記載のレーザ処理装置。
- 前記仕切部は、前記ロードエリアを前記装入口側の空間と前記レーザ光照射エリア側の空間とに仕切る雰囲気ガスカーテンを有することを特徴とする請求項1記載のレーザ処理装置。
- 前記仕切部は、前記ロードエリアを前記ロードエリアに装入された被処理体が保持される保持ポジション側空間と前記装入口側空間とに仕切るものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のレーザ処理装置。
- 前記仕切部で仕切られた前記装入口側空間に装入口側給気装置と装入口側排気装置とが通気可能に接続されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のレーザ処理装置。
- 前記レーザ光照射エリアに、照射エリア給気装置と照射エリア排気装置とが通気可能に接続されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のレーザ処理装置。
- 前記ロードエリアと前記レーザ光照射エリアとの間で前記被処理体を移動させる被処理体移送装置を前記処理室内部に備えることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のレーザ処理装置。
- 前記被処理体移送装置は、前記被処理体を保持して前記ロードエリアと前記レーザ光照射エリアとの間で移動可能なステージを有していることを特徴とする請求項7記載のレーザ処理装置。
- 前記被処理体移送装置は、前記レーザ光照射エリアにおいて前記ステージを前記レーザ光に対し相対的に移動させることで前記レーザ光の走査を行うものであることを特徴とする請求項8記載のレーザ処理装置。
- 前記ステージは、前記ロードエリア側に位置する際に、該ロードエリアを前記装入口側の空間と前記レーザ光照射エリア側の空間とに仕切る仕切部の一部を構成することを特徴とする請求項8または9に記載のレーザ処理装置。
- 前記処理室内で、前記装入口の下方側から前記ロードエリア側に位置した前記ステージの装入口側端部に伸長して前記ステージとともに前記装入口側空間の下方または前記装入口側空間および前記レーザ光照射エリア側空間の下方を仕切る下方仕切壁を前記仕切部の一部として備えることを特徴とする請求項8〜10のいずれかに記載のレーザ処理装置。
- 前記仕切部は、前記ロードエリアを前記被処理体の装入方向前後方向において前記装入口側の空間と前記レーザ光照射エリア側の空間とに仕切る前方仕切壁を有することを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載のレーザ処理装置。
- 前記処理室内で、前記装入口の両側方から前記レーザ光照射エリア側に伸長して前記装入口側空間の側方または前記装入口側空間および前記レーザ光照射エリア側空間の側方を仕切る側方仕切壁を前記仕切部の一部として備えることを特徴とする請求項1〜12のいずれかに記載のレーザ処理装置。
- 前記仕切部を第1の仕切部として、前記ロードエリアと前記レーザ光照射エリアとを仕切る第2の仕切部を備えることを特徴とする請求項1〜13のいずれかに記載のレーザ処理装置。
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