JP2012212829A - 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】描画装置100は、送信側ユニット内に配置され、複数の処理データを略均等なデータ量になるように複数のグループに振り分ける振り分け処理部40と、各グループに振り分けられた少なくとも1つの処理データが描画処理順序に対して降順に送信されるように複数のグループの処理データを並列に送信する複数の送信部50,52と、受信側ユニット内に配置され、他とは異なるグループの処理データが記憶されるように、並列に送信されてきた複数のグループの処理データを記憶する複数のメモリ70,71と、グループにかかわり無く描画処理順に複数の処理データを複数のメモリから読み出し、出力するデータ順番制御部90と、描画処理順に出力された各処理データに基づいて、試料に荷電粒子ビームでパターンを描画する描画部150と、を備える。
【選択図】図1
Description
可変成形型電子線(EB:Electron beam)描画装置は、以下のように動作する。第1のアパーチャ410には、電子線330を成形するための矩形例えば長方形の開口411が形成されている。また、第2のアパーチャ420には、第1のアパーチャ410の開口411を通過した電子線330を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口421が形成されている。荷電粒子ソース430から照射され、第1のアパーチャ410の開口411を通過した電子線330は、偏向器により偏向され、第2のアパーチャ420の可変成形開口421の一部を通過して、所定の一方向(例えば、X方向とする)に連続的に移動するステージ上に搭載された試料340に照射される。すなわち、第1のアパーチャ410の開口411と第2のアパーチャ420の可変成形開口421との両方を通過できる矩形形状が、X方向に連続的に移動するステージ上に搭載された試料340の描画領域に描画される。第1のアパーチャ410の開口411と第2のアパーチャ420の可変成形開口421との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式(VSB方式)という。
描画領域が複数の小領域に仮想分割された小領域毎に描画データが並列にデータ変換処理された複数の処理データを送信する送信側ユニットと、
かかる複数の処理データを受信する受信側ユニットと、
送信側ユニット内に配置され、複数の処理データをそれぞれ略均等なデータ量になるように複数のグループに振り分ける振り分け部と、
送信側ユニット内に配置され、各グループに振り分けられた少なくとも1つの処理データが描画処理順序に対して降順に送信されるように複数のグループの処理データを並列に送信する複数の送信部と、
受信側ユニット内に配置され、他とは異なるグループの処理データが記憶されるように、並列に送信されてきた複数のグループの処理データを記憶する複数のメモリと、
受信側ユニット内に配置され、グループにかかわり無く描画処理順に複数の処理データを複数のメモリから読み出し、出力する描画順データ出力部と、
描画処理順に出力された各処理データに基づいて、試料に荷電粒子ビームでパターンを描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする。
第1の送信側ユニットは、第2の送信側ユニットと並列に、それぞれ有する複数の送信部から複数の処理データを送信し、
複数のメモリは、送信側ユニット毎かつグループ毎に異なるメモリに記憶されるように、並列に送信されてきた複数の送信側ユニットからのそれぞれの複数のグループの処理データを記憶すると好適である。
複数のメモリは、それぞれ対応するグループの処理データのうち、図形データを記憶し、
複数のメモリの1つとそれぞれ組になって、それぞれ対応するグループの処理データのうち、描画順番情報を記憶する複数のファーストインファーストアウト(FIFO)回路をさらに備えると好適である。
送信側ユニット内で、描画データが領域毎にそれぞれデータ変換処理された複数の処理データをそれぞれ略均等なデータ量になるように複数のグループに振り分ける工程と、
送信側ユニットから、各グループに振り分けられた少なくとも1つの処理データが描画処理順序に対して降順に送信されるように複数のグループの処理データを並列に送信する工程と、
受信側ユニット内で、他とは異なるグループの処理データが記憶されるように、並列に送信されてきた複数のグループの処理データを複数のメモリに記憶する工程と、
受信側ユニット内で、グループにかかわり無く描画処理順に複数の処理データを複数のメモリから読み出し、出力する工程と、
描画処理順に出力された各処理データに基づいて、試料に荷電粒子ビームでパターンを描画する工程と、
を備えたことを特徴とする。
図1は、実施の形態1における描画装置の構成を示す概念図である。図1において、描画装置100は、描画部150と制御部160を備えている。描画装置100は、荷電粒子ビーム描画装置の一例である。特に、可変成形型の描画装置の一例である。描画部150は、電子鏡筒102と描画室103を備えている。電子鏡筒102内には、電子銃201、照明レンズ202、第1のアパーチャ203、投影レンズ204、偏向器205、第2のアパーチャ206、対物レンズ207、主偏向器208及び副偏向器209が配置されている。描画室103内には、XYステージ105が配置される。XYステージ105上には、描画時には描画対象となるマスク等の試料101が配置される。試料101には、半導体装置を製造する際の露光用マスクが含まれる。また、試料101には、レジストが塗布された、まだ何も描画されていないマスクブランクスが含まれる。
20,21,22,23,24,30,31,32,33,34 メモリ
70,71,72,73,74 メモリ
40 振り分け処理部
42,44 メモリ管理部
50,52 データ送信部
60,61,62,63,64 受信部
80,81,82,83,84 FIFO回路
90 データ順番制御部
92 偏向量演算部
100 描画装置
101,340 試料
102 電子鏡筒
103 描画室
105 XYステージ
110 制御計算機ユニット
120 データ転送計算機ユニット
130 偏向制御回路
140 記憶装置
150 描画部
160 制御部
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203,410 第1のアパーチャ
204 投影レンズ
205 偏向器
206,420 第2のアパーチャ
207 対物レンズ
208 主偏向器
209 副偏向器
330 電子線
411 開口
421 可変成形開口
430 荷電粒子ソース
Claims (5)
- 描画領域が複数の小領域に仮想分割された小領域毎に描画データが並列にデータ変換処理された複数の処理データを送信する送信側ユニットと、
前記複数の処理データを受信する受信側ユニットと、
前記送信側ユニット内に配置され、前記複数の処理データをそれぞれ略均等なデータ量になるように複数のグループに振り分ける振り分け部と、
前記送信側ユニット内に配置され、各グループに振り分けられた少なくとも1つの処理データが描画処理順序に対して降順に送信されるように前記複数のグループの処理データを並列に送信する複数の送信部と、
前記受信側ユニット内に配置され、他とは異なるグループの処理データが記憶されるように、並列に送信されてきた複数のグループの処理データを記憶する複数のメモリと、
前記受信側ユニット内に配置され、グループにかかわり無く描画処理順に前記複数の処理データを前記複数のメモリから読み出し、出力する描画順データ出力部と、
描画処理順に出力された各処理データに基づいて、試料に荷電粒子ビームでパターンを描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記送信側ユニットを第1の送信側ユニットとした場合に、前記振り分け部と同様の振り分け部と前記複数の送信部と同様の複数の送信部とを有する第2の送信側ユニットをさらに備え、
第1の送信側ユニットは、第2の送信側ユニットと並列に、それぞれ有する複数の送信部から前記複数の処理データを送信し、
前記複数のメモリは、送信側ユニット毎かつグループ毎に異なるメモリに記憶されるように、並列に送信されてきた前記複数の送信側ユニットからのそれぞれの複数のグループの処理データを記憶することを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム描画装置。 - 各処理データには、1回の荷電粒子ビームのショットのための少なくとも1つのショットデータが定義され、各ショットデータには、描画処理の順番を示す描画順番情報とショットされる図形の図形データとが定義され、
前記複数のメモリは、それぞれ対応するグループの処理データのうち、前記図形データを記憶し、
前記複数のメモリの1つとそれぞれ組になって、それぞれ対応するグループの処理データのうち、前記描画順番情報を記憶する複数のファーストインファーストアウト(FIFO)回路をさらに備えたことを特徴とする請求項1又は2記載の荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記描画順データ出力部は、前記FIFO回路から出力される前記描画順番情報を用いて、前記グループにかかわり無く描画処理順に前記複数の処理データを前記複数のメモリから読み出し、出力することを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 送信側ユニット内で、描画データが領域毎にそれぞれデータ変換処理された複数の処理データをそれぞれ略均等なデータ量になるように複数のグループに振り分ける工程と、
送信側ユニットから、各グループに振り分けられた少なくとも1つの処理データが描画順序に対して降順に送信されるように前記複数のグループの処理データを並列に送信する工程と、
受信側ユニット内で、他とは異なるグループの処理データが記憶されるように、並列に送信されてきた複数のグループの処理データを複数のメモリに記憶する工程と、
受信側ユニット内で、グループにかかわり無く描画処理順に前記複数の処理データを前記複数のメモリから読み出し、出力する工程と、
描画処理順に出力された各処理データに基づいて、試料に荷電粒子ビームでパターンを描画する工程と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法。
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