JP2017055109A - 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本実施形態の荷電粒子ビーム描画装置は、パターン属性情報が対応づけられた描画データを保存する描画データ記憶部と、描画データをパターン属性情報が対応づけられたショットデータに分割するショット分割部と、パターン属性情報に対応づけられ伝熱の近似計算の際に計算上併合する補正区画領域を判定する指標を保存する指標記憶部と、ショットデータに基づいて描画スケジュールを作成する描画スケジュール作成部と、描画スケジュールと、指標と、に基づいて、描画対象のショットデータにより描画されるショットよりも前に描画される他のショットからの伝熱の近似計算方法を決定する近似計算方法決定部と、近似計算方法に基づいて、ショットデータにより描画されるショットよりも前に描画される他のショットからの伝熱による温度上昇量を計算する熱拡散計算部と、温度上昇量に基づいて、ショットデータにより描画されるショットの代表温度を求めるショット温度計算部と、代表温度に基づいて、ショットデータにより描画されるショットの照射量を変調する照射量変調部と、変調された照射量と、描画スケジュールと、に基づいて描画を行う描画部と、を備える。
本実施形態の描画装置は、伝熱の近似計算の際に補正区画領域の併合を行なわない指標が、時間である点で、第1の実施形態と異なっている。ここで、第1の実施形態と重複する内容については、記載を省略する。
本実施形態の描画装置は、伝熱の近似計算の際に補正区画領域の併合の要否を判定する指標が、温度上昇量である点で、第1および第2の実施形態と異なっている。ここで、第1および第2の実施形態と重複する点については、記載を省略する。
20 ストライプ領域
30 SF
40 TF
42 ショット位置
50 ショット分割部
52 第1補正区画毎ショット割振部
54 第2補正区画毎ショット割振部
56 描画スケジュール作成部
58 描画順設定部
60 第1補正区画内総電荷量計算部
62 第2補正区画内総電荷量計算部
64 熱拡散計算部
66 ショット温度計算部
68 照射量変調部
70 照射量マップ作成部
72 第1補正区画内代表図形設定部
74 第2補正区画内代表図形設定部
76 近似計算方法決定部
78 照射時間計算部
80 温度上昇量判断部
90 描画処理部
92 メモリ
100 描画装置
101 試料
102 電子鏡筒
103 描画室
105 XYステージ
110 制御計算機ユニット
120 偏向制御回路
130 DACアンプユニット
132 DACアンプユニット
134 DACアンプユニット
136 DACアンプユニット
140 描画データ記憶部
142 指標記憶部
150 描画部
160 制御部
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203 第1の成形アパーチャ
204 投影レンズ
205 偏向器
206 第2の成形アパーチャ
207 対物レンズ
208 主偏向器
209 副偏向器
212 ブランキング偏向器
214 ブランキングアパーチャ
216 副副偏向器
330 電子線
340 試料
410 第1のアパーチャ
411 開口
420 第2のアパーチャ
421 可変成形開口
430 荷電粒子ソース
Claims (5)
- パターン属性情報が対応づけられた描画データを保存する描画データ記憶部と、
前記描画データを前記パターン属性情報が対応づけられたショットデータに分割するショット分割部と、
前記パターン属性情報に対応づけられ伝熱の近似計算の際に計算上併合する補正区画領域を判定する指標を保存する指標記憶部と、
前記ショットデータに基づいて描画スケジュールを作成する描画スケジュール作成部と、
前記描画スケジュールと、前記指標と、に基づいて、描画対象の前記ショットデータにより描画されるショットよりも前に描画される他のショットからの伝熱の近似計算方法を決定する近似計算方法決定部と、
前記近似計算方法に基づいて、前記ショットデータにより描画される前記ショットよりも前に描画される前記他のショットからの前記伝熱による温度上昇量を計算する熱拡散計算部と、
前記温度上昇量に基づいて、前記ショットデータにより描画される前記ショットの代表温度を求めるショット温度計算部と、
前記代表温度に基づいて、前記ショットデータにより描画される前記ショットの照射量を変調する照射量変調部と、
変調された照射量と、前記描画スケジュールと、に基づいて描画を行う描画部と、
を備える荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記指標は、前記伝熱の近似計算の際に併合しない補正区画領域数である請求項1記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 前記伝熱の近似計算の際に前記補正区画領域の併合を行なわない前記指標が、時間である請求項1記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 前記伝熱の近似計算の際に前記補正区画領域の併合の要否を判定する前記指標が、前記温度上昇量である請求項1記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- パターン属性情報が対応づけられた描画データを前記パターン属性情報が対応づけられたショットデータに分割し、
前記ショットデータに基づいて描画スケジュールを作成し、
前記描画スケジュールと、前記パターン属性情報に対応づけられ伝熱の近似計算の際に計算上併合する補正区画領域を判定する指標と、に基づいて、描画対象の前記ショットデータにより描画されるショットよりも前に描画される他のショットからの伝熱の近似計算方法を決定し、
前記近似計算方法に基づいて、前記ショットデータにより描画される前記ショットよりも前に描画される前記他のショットからの前記伝熱による温度上昇量を計算し、
前記温度上昇量に基づいて、前記ショットデータにより描画される前記ショットの代表温度を計算し、
前記代表温度に基づいて、前記ショットデータにより描画される前記ショットの照射量を変調し、
変調された照射量と、前記描画スケジュールと、に基づいて描画を行う、
荷電粒子ビーム描画方法。
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