JP2012210604A - 陰イオン界面活性剤含有液の消泡方法およびヘキサフルオロプロピレンオキシドの洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】陰イオン界面活性剤を含むアルカリ性の水性液体の消泡方法において、該アルカリ性の水性液体のpHを14以上とする。
【選択図】図1
Description
CF3O(CF2O)n−R’ ・・・(Y)
(式中、−R’は−COOM、−OCOOMまたは−CF2COOMを示し、Mはアルカリ金属を示し、nは0〜50の整数を示す。)
で表わされる化合物を含む。上記一般式(Y)で表わされる化合物は、陰イオン界面活性剤として作用して、ガスとの接触によって非常に激しい泡立ちを起こし、通常使用されるような消泡剤では泡立ちを抑制することはできない。しかしながら、本発明によれば、アルカリ性の水性液体のpHを14以上とすることにより、一般式(Y)で表わされる化合物に起因する泡立ちを効果的に抑制できる。
ヘキサフルオロプロピレンオキシドおよび以下の一般式(X):
CF3O(CF2O)n−R ・・・(X)
(式中、−Rは−COF、−OCOFまたは−CF2COFを示し、nは0〜50の整数を示す。)
で表わされる化合物を含む組成物を、pH14以上のアルカリ性の水性液体により洗浄する方法が提供される。
a)ヘキサフルオロプロピレンを酸素により酸化して、ヘキサフルオロプロピレンオキシドおよび以下の一般式(X):
CF3O(CF2O)n−R ・・・(X)
(式中、−Rは−COF、−OCOFまたは−CF2COFを示し、nは0〜50の整数を示す。)
で表わされる化合物を含む組成物を得る工程、および
b)該組成物を、pH14以上のアルカリ性の水性液体により洗浄して、前記一般式(X)で表わされる化合物をアルカリ性の水性液体中に分離し、ヘキサフルオロプロピレンオキシドを含むガス状物を得る工程
を含む製造方法が提供される。
本実施形態は、本発明の陰イオン界面活性剤含有水の消泡方法に関する。
CF3O(CF2O)n−R’ ・・・(Y)
(式中、−R’は−COOM、−OCOOMまたは−CF2COOMを示し、Mはアルカリ金属、好ましくはカリウム、ナトリウムを示し、nは0〜50の整数、好ましくは0〜15の整数を示す。)
で表わされる化合物であり得る。
他の陰イオン界面活性剤として、例えば、炭化水素化合物では、以下のもののアルカリ金属および(アルキル)アンモニウム塩などが挙げられる(特表2007−523777号公報参照):
1)ドデシル硫酸ナトリウムおよびドデカンスルホン酸カリウム等の、硫酸アルキルおよびスルホン酸アルキル;
2)直鎖または分枝鎖脂肪族アルコール類およびカルボン酸のポリエトキシル化誘導体の硫酸塩;
3)ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウム等の、アルキルベンゼンスルホン酸塩および硫酸塩、またはアルキルナフタレンスルホン酸塩および硫酸塩;
4)エトキシル化およびポリエトキシル化アルキルおよびアラルキルアルコールカルボン酸エステル;
5)サルコシン酸アルキルおよびグリシン酸アルキル等の、グリシネート類;
6)ジアルキル・スルホコハク酸を含む、スルホコハク酸塩;
7)イセチオン酸誘導体;
8)N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム等の、N−アシルタウリン誘導体;
9)アルキルおよびアルキルアミドアルキルジアルキルアミンオキシド類を含む、アミンオキシド類;および
10)エトキシル化ドデシルアルコールリン酸エステル、ナトリウム塩等の、リン酸アルキルモノまたはジ−エステル類。
また、別の陰イオン界面活性剤として、例えば、含フッ素系化合物では、以下のものなどが挙げられる(特開2005−290350号公報参照):
・下記一般式(1)
Y−(CF2)x1−(CH2)y1−A (1)
(式中、Yは、H又はFを表す。x1は、4〜13の整数を表し、y1は、0〜3の整数を表す。Aは、−SO3M又は−COOMを表し、Mは、H、NH4、Li、Na又はKを表す。)で表されるエーテル酸素を有しないアニオン性化合物、および
・下記一般式(2)
F(CF2)x2O(CFXCF2O)y2−CFX−A (2)
(式中、x2は、1〜5の整数を表し、y2は、0〜10の整数を表す。Xは、F又はCF3を表す。Aは、−SO3M又は−COOMを表し、Mは、H、NH4、Li、Na又はKを表す。)で表されるエーテル酸素を有するアニオン性化合物。
その他にも、任意の適切な陰イオン界面活性剤を、少なくとも1種以上で、本発明の消泡方法に利用することができる。
本実施形態においては、本発明のヘキサフルオロプロピレンオキシドの洗浄方法およびこれを用いたヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法について、図1を参照しながら詳述する。
まず、ヘキサフルオロプロピレンオキシド(HFPO)および以下の一般式(X):
CF3O(CF2O)n−R ・・・(X)
(式中、−Rは−COF、−OCOFまたは−CF2COFを示し、nは0〜50の整数を示す。)
で表わされる化合物を含む組成物を準備する。
CF3O(CF2O)n−R ・・・(X)
(式中、−Rは−COF、−OCOFまたは−CF2COFを示し、nは0〜50の整数、好ましくは0〜15の整数を示す。)
で表わされる化合物(以下、一般式(X)で表わされるオリゴマーとも言う)が副生する。
−CF2−O−CF2−O−
−CF2−O−O−CF2−
−O−CF2−CF2−O−
−O−CF2−O−CF2−
のうち、いずれであってもよい。−CF2−O−CF2−O−および−O−CF2−O−CF2−の場合にはエーテル結合を形成し、−CF2−O−O−CF2−の場合には過酸化エーテル結合を形成する。
反応器に溶媒を容量の30〜50%仕込み、HFPを溶媒に対して1〜40%、好ましくは5〜35%仕込み、90〜150℃に加熱する。
そこに酸素ガスを分注圧0.02〜0.5MPa(ゲージ圧力)、好ましくは0.05〜0.1MPa(ゲージ圧力)の分圧で分注して反応を行う。酸素のトータル仕込み量は原料のHFPの転化率を分析することによって決定できるが、おおよそ理論量の1.3〜1.7倍量である。
また、このときの全反応圧は溶媒種、HFP仕込み比、温度条件等によって変動するため、特に規定はないが、一般的には1.5〜4MPa(ゲージ圧力)である。
反応時間(平均滞留時間)は、例えば1〜10時間である。
次に、上記で得られた組成物を脱酸処理するために、本発明の洗浄方法を適用して、洗浄操作を実施する。具体的には、上記で得られた組成物を、pH14以上のアルカリ性の水性液体、通常はアルカリ水溶液(以下、本実施形態においては説明を簡素化するため、単にアルカリ水溶液と言う)により洗浄する。これにより、該組成物から酸成分(一般式(X)で表わされるオリゴマーおよびヘキサフルオロアセトンなど)が除去され、本発明の製造方法の目的物質であるHFPOに着目すれば、HFPOが洗浄される。
脱酸塔10に上記組成物を、気相状態で、例えば0〜50℃および0〜0.6MPa(ゲージ圧力)で供給する。
脱酸塔10にアルカリ水溶液を、液体状態で、例えば0〜30℃で供給する。
脱酸塔10に循環するアルカリ水溶液の割合は、特に限定されないが、例えば、外部から新たに供給するアルカリ水溶液の供給流量に対して、0〜5000倍とし得る。
アルカリ水溶液の供給流量は、上記組成物の供給流量1m3/hrに対して、2〜20L/hrとし得る。
脱酸塔10から排出されるガス状物は、供給される組成物およびアルカリ水溶液の各熱量や、脱酸塔10の圧力損失などにもよるが、例えば0〜50℃および0〜0.6MPa(ゲージ圧力)であり得る。
排出されるアルカリ水溶液は、供給される組成物およびアルカリ水溶液の各熱量や、脱酸塔10の圧力損失などにもよるが、例えば0〜50℃である。
洗浄中のアルカリ水溶液のpH(より詳細には、外部から供給されるアルカリ水溶液と、循環されるアルカリ水溶液とを合わせたアルカリ水溶液であって、気相状態で供給される組成物と接触しているアルカリ水溶液(または液相)のpH、便宜的には、洗浄後のアルカリ水溶液のpHにほぼ等しいと考えて差し支えない)は14以上であり、例えば、pH14以上15以下であり得る。
上述の工程a)に従って、HFPを酸素により酸化してHFPOを生成させ、これにより得られた気相から、常法により、COF2、CF3COFなどを適宜除去して、組成物Pを得た。
図1に示す洗浄装置11の脱酸塔10に、上記組成物Pを気相状態で、組成物供給ライン1から連続的に供給すると共に、アルカリ水溶液として水酸化カリウム水溶液をアルカリ水溶液供給ライン3から連続的に供給し、洗浄後のガス状物およびアルカリ水溶液をガス状物排出ライン5およびアルカリ水溶液排出ライン9aからそれぞれ連続的に排出させた。アルカリ水溶液供給ライン3から供給したアルカリ水溶液は、約15℃およびアルカリ濃度5.4mol/L(pH=14.7(理論値))とした。脱酸塔10に循環ライン9cより循環するアルカリ水溶液の割合は、アルカリ水溶液供給ライン3から供給するアルカリ流量に対して1000倍とした。廃液ライン9bから得られたアルカリ水溶液は、約20℃およびアルカリ濃度2.9mol/L(pH=14.4(理論値))であった。
かかる条件下で、廃液ライン9bから得られたアルカリ水溶液を洗浄液サンプルQとして採取した。
アルカリ水溶液供給ライン3から供給するアルカリ水溶液を、約15℃およびアルカリ濃度2.9mol/L(pH=14.4(理論値))としたこと以外は、上記実施例と同様にして洗浄操作を実施した。この比較例において、廃液ライン9bから得られたアルカリ水溶液は、約20℃およびアルカリ濃度0.6mol/L(pH=約13.8)であった。
3 アルカリ水溶液供給ライン
5 ガス状物排出ライン
7 ポンプ
9a アルカリ水溶液排出ライン
9b 廃液ライン
9c 循環ライン
10 脱酸塔
10a 塔部
10b 缶部
11 洗浄装置
Claims (5)
- 陰イオン界面活性剤を含むアルカリ性の水性液体の消泡方法であって、該アルカリ性の水性液体のpHを14以上とすることを特徴とする方法。
- 陰イオン界面活性剤が、以下の一般式(Y):
CF3O(CF2O)n−R’ ・・・(Y)
(式中、−R’は−COOM、−OCOOMまたは−CF2COOMを示し、Mはアルカリ金属を示し、nは0〜50の整数を示す。)
で表わされる化合物を含む、請求項1に記載の方法。 - ヘキサフルオロプロピレンオキシドの洗浄方法であって、
ヘキサフルオロプロピレンオキシドおよび以下の一般式(X):
CF3O(CF2O)n−R ・・・(X)
(式中、−Rは−COF、−OCOFまたは−CF2COFを示し、nは0〜50の整数を示す。)
で表わされる化合物を含む組成物を、pH14以上のアルカリ性の水性液体により洗浄する方法。 - ヘキサフルオロプロピレンオキシドの製造方法であって、
a)ヘキサフルオロプロピレンを酸素により酸化して、ヘキサフルオロプロピレンオキシドおよび以下の一般式(X):
CF3O(CF2O)n−R ・・・(X)
(式中、−Rは−COF、−OCOFまたは−CF2COFを示し、nは0〜50の整数を示す。)
で表わされる化合物を含む組成物を得る工程、および
b)該組成物を、pH14以上のアルカリ性の水性液体により洗浄して、前記一般式(X)で表わされる化合物をアルカリ性の水性液体中に分離し、ヘキサフルオロプロピレンオキシドを含むガス状物を得る工程
を含む製造方法。 - アルカリ性の水性液体が、水酸化カリウムおよび水酸化ナトリウムの少なくとも1種を含む、請求項3または4に記載の方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011078452A JP5459252B2 (ja) | 2011-03-31 | 2011-03-31 | 陰イオン界面活性剤含有液の消泡方法およびヘキサフルオロプロピレンオキシドの洗浄方法 |
CN201210082482.0A CN102728107B (zh) | 2011-03-31 | 2012-03-26 | 阴离子表面活性剂含有液的消泡方法和六氟环氧丙烷的清洗方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011078452A JP5459252B2 (ja) | 2011-03-31 | 2011-03-31 | 陰イオン界面活性剤含有液の消泡方法およびヘキサフルオロプロピレンオキシドの洗浄方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013246106A Division JP5692340B2 (ja) | 2013-11-28 | 2013-11-28 | 陰イオン界面活性剤含有液の消泡方法およびヘキサフルオロプロピレンオキシドの洗浄方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012210604A true JP2012210604A (ja) | 2012-11-01 |
JP5459252B2 JP5459252B2 (ja) | 2014-04-02 |
Family
ID=46984838
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011078452A Active JP5459252B2 (ja) | 2011-03-31 | 2011-03-31 | 陰イオン界面活性剤含有液の消泡方法およびヘキサフルオロプロピレンオキシドの洗浄方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5459252B2 (ja) |
CN (1) | CN102728107B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP2906513A1 (de) * | 2012-10-15 | 2015-08-19 | Sika Technology AG | Luftporenbildner für zementöse systeme |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN1966498B (zh) * | 2006-11-14 | 2010-05-12 | 上海三爱富新材料股份有限公司 | 六氟环氧丙烷制备工艺 |
-
2011
- 2011-03-31 JP JP2011078452A patent/JP5459252B2/ja active Active
-
2012
- 2012-03-26 CN CN201210082482.0A patent/CN102728107B/zh active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102728107A (zh) | 2012-10-17 |
CN102728107B (zh) | 2016-08-03 |
JP5459252B2 (ja) | 2014-04-02 |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130830 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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