JP2012206306A - ガスバリア積層体およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ポリエチレンナフタレートからなる基材と、基材の少なくとも一方の面に積層された酸化珪素薄膜を有し、ポリエチレンナフタレートは、位相差測定法による面配向係数が、0.230以上、0.255以下の範囲内であることを特徴とする。また、位相差測定法による面配向係数が0.230以上、0.255以下の範囲内であるポリエチレンナフタレートフィルムを基材として選択する工程と、基材の少なくとも一方の面に、酸化珪素薄膜を積層する工程とを具備することを特徴とする。
【選択図】図1
Description
公知文献を以下に示す。
記載のガスバリア積層体である。
に対して位相差測定法は、測定者によらず安定して測定でき、測定者のバラつきも少ない。しかも、正確に面配向係数を算出することができることから、本明細書においては位相差測定法による面配向係数が用いられる。
図1は、本発明のガスバリア性積層体の一例の概略の断面構成を示す説明図である。
本発明のガスバリア積層体10においては、ポリエチレンナフタレートフィルムからなる基材1の上に酸化珪素薄膜2が積層されている。
やすい。その結果、バリア性が低下するおそれがある。比(O/Si)が1.6〜2.0の範囲内であれば、適切なバリア性を有する透明な酸化珪素薄膜2を形成することができる。
図2に示すように、基材1と酸化珪素薄膜2との間に、処理層3が設けられたガスバリア積層体20としてもよい。処理層3は、たとえばアンカーコート層とすることができる。あるいは、基材1の表面にリアクティブイオンエッチング(RIE)処理による前処理を施すことによって、処理層3を形成することもできる。
ら選択することができる。これらのいずれかを用いた単独層によって、あるいは2種類以上の積層によってオーバーコート層を構成することができる。
1・・・基材
2・・・酸化珪素薄膜
3・・・処理層
4・・・電極
5・・・プラズマ
6・・・処理ロール
7・・・ガス導入口
8・・・マッチングボックス
9・・・遮蔽板
Claims (8)
- ポリエチレンナフタレートからなる基材と、前記基材の少なくとも一方の面に積層された酸化珪素薄膜を有し、前記ポリエチレンナフタレートは、位相差測定法による面配向係数が、0.230以上、0.255以下の範囲内であることを特徴とするガスバリア積層体。
- 前記酸化珪素は、X線光電子分光法によって算出される酸素と珪素の比(O/Si)が1.6〜2.0の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載のガスバリア積層体。
- 前記酸化珪素薄膜の厚さが、10〜300nmであることを特徴とする請求項1または2に記載のガスバリア積層体。
- 前記基材と前記酸化珪素薄膜との間に、アンカーコート層を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のガスバリア積層体。
- アンカーコート層の材質は、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル系樹脂、及び、オキサゾリン基含有樹脂から選択されることを特徴とする請求項4に記載のガスバリア積層体。
- 前記酸化珪素薄膜が積層された前記基材の面は、リアクティブイオンエッチング処理が施されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のガスバリア積層体。
- 前記リアクティブエッチング処理は、アルゴン、窒素、酸素、および水素からなる群から選択される少なくとも1種類のガスを用いて行われる処理であることを特徴とする請求項6に記載のガスバリア積層体。
- 位相差測定法による面配向係数が0.230以上、0.255以下の範囲内であるポリエチレンナフタレートフィルムを基材として選択する工程と、前記基材の少なくとも一方の面に、酸化珪素薄膜を積層する工程とを具備することを特徴とするガスバリア積層体の製造方法。
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