JP2012188692A - 蒸着用ボートとこれを使用した成膜方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プール2の一端3aの近傍の材料供給部9aがこの材料供給部の他端3bの側に接続された材料蒸発部10よりも低温になるように、プール2の材料蒸発部10の裏面に、断面積が均一な平坦部14と、平坦部14と材料供給部9aとを接続する勾配部15aを設け、勾配部15aを、一端3aから他端3bに向かう方向に断面積が大きくなるよう形成して温度分布を形成している。
【選択図】図2
Description
この方法は、被覆室内を真空状態にし、内部で成膜材料を高温蒸発させることにより、被覆室の上部に設けられた基板に薄膜を形成するというものである。成膜された基板は、その膜の特性を生かし、半導体をはじめ、各種の高機能デバイスとして利用されている。
そして、抵抗加熱用蒸発源は、その形状により、スパイラル型,ボート型,ボックス型,るつぼ型などに分類される。このうち、ボート型蒸発源の蒸着用ボートの形状は、薄膜材料を収容する有底孔を表面側に設けた厚板状のものが一般的であり、薄膜材料の形状を選ばず対応可能であるという利点がある。
PBNコートされたグラファイト製の蒸着用ボート1aの表面中央に、有底孔としてプール2が形成されている。蒸着用ボートの両端3a,3bには、通電加熱用の一対の電極4a,4bが接続される。図13(a)は蒸着用ボート1aの上面図、図13(b)は断面図を示している。
(実施の形態1)
図1と図2(a)(b)は本発明の実施例1の蒸着用ボートを示す。
図5と図6(a)(b)(c)は本発明の実施例2の蒸着用ボートを示す。
実施例1では突起部13aがプール2の裏面に突出して形成されていたが、この実施例2では、突起部13aa,13abがプール2の側面に突出して形成されている点が実施例1と異なっている。
図7と図8(a)(b)は本発明の実施例3の蒸着用ボートを示す。
図1と図2(a)(b)に示した実施例1では、プール2の前記一端3aの側にだけ材料供給部9aが形成されていたが、この実施例3の蒸着用ボート1gでは、プール2の前記他端3bの側にも材料供給部9bが形成されている。
蒸着用ボート11gの表面の温度分布T4の一例を図9に示す。
(実施の形態4)
図10(a)(b)は本発明の実施例4,実施例5の蒸着用ボートを示す。
図11は本発明の実施例6の蒸着用ボートを示す。
図5と図6(a)〜(c)に示した実施例2ではボート本体Mの前記一端3aにだけ材料供給部9aを設けたが、図11に示した実施例6の蒸着用ボート1jの場合には、ボート本体Mの前記他端3bにも材料供給部9bを有している点が異なっている。
U 上面
1d,1f,1g,1h,1i,1j 蒸着用ボート
2 プール
3a 一端
3b 他端
6 材料ワイヤ
9a 材料供給部
9b 材料供給部(第2材料供給部)
10 材料蒸発部
13a 突起部
13b 突起部(第2突起部)
13aa,13ab 突起部
14 平坦部
15a 勾配部
15aa,15ab 勾配部
15b 勾配部(第2勾配部)
16 勾配面
16aa,16ab 勾配面
T0 溶融材料が蒸発するために最低限必要な温度
T1 蒸着用ボート1dの表面の温度分布
T2 図13で示した蒸着用ボートの温度分布
T3 比較例の蒸着用ボート1eの温度分布
T4 蒸着用ボート11gの表面の温度分布
Claims (10)
- 供給された薄膜材料を溶融させる材料供給部と前記材料供給部から溶融した薄膜材料が流入する材料蒸発部を有するプールがボート本体に形成され、前記ボート本体の一端と他端の間に通電して前記材料蒸発部の薄膜材料をその蒸発温度以上に加熱する蒸着用ボートであって、
前記プールの前記材料供給部の裏面または側面に、前記材料蒸発部の裏面または側面よりも断面積が大きくなる突起部を一体に形成した
蒸着用ボート。 - 前記突起部の形状を、前記材料蒸発部に近付くにつれて断面積が小さくなるよう成形した
請求項1記載の蒸着用ボート。 - 前記プールの前記材料蒸発部の裏面または側面に、断面積が前記一端と前記他端を結ぶ長手方向に均一または略均一な平坦部と、前記平坦部と前記材料供給部とを接続し前記一端から前記他端に向かう方向に断面積が大きくなる勾配部を設けた
請求項1記載の蒸着用ボート。 - 前記一端と前記他端を結ぶ長手方向に垂直な面での断面積が、前記材料供給部,前記材料蒸発部,前記勾配部の順に小さい
請求項3記載の蒸着用ボート。 - 前記勾配部の断面積は、材料供給部の側で最も小さくなり、材料蒸発部に近付くにしたがって大きくなり、材料蒸発部との接続個所で材料蒸発部の断面積と一致している
請求項4記載の蒸着用ボート。 - 前記材料供給部の断面積と、前記勾配部の最小断面積の比が8.0以上である
請求項4に記載の蒸着用ボート。 - 前記勾配部の一番小さい部分において、前記勾配部の断面積と前記材料蒸発部の断面積の比が0.45以上0.55以下である
請求項4に記載の蒸着用ボート。 - 前記勾配部の前記長手方向の長さと、前記材料蒸発部の前記長手方向の長さの比が0.20以上0.30以下である
請求項4に記載の蒸着用ボート。 - 前記プールには、前記材料蒸発部を挟んで前記他端の近傍に前記材料蒸発部に接続された第2材料供給部を設け、
前記プールの裏面または側面で前記他端の近傍に、前記平坦部よりも断面積が大きくなる突起部を一体に形成し、
前記平坦部と前記第2材料供給部とを接続する第2勾配部を設け、前記第2勾配部を、前記他端に向かう方向に断面積が大きくなるよう形成した
請求項3〜請求項6の何れかに記載の蒸着用ボート。 - 請求項1〜請求項7のいずれかに記載の蒸着用ボートの材料供給部に薄膜材料を供給して前記薄膜材料を溶融し、溶融した前記薄膜材料を材料蒸発部へ導き、前記材料蒸発部で前記薄膜材料を蒸発させて被対象物に前記薄膜材料の薄膜を蒸着する
成膜方法。
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---|---|---|---|---|
JP2017502518A (ja) * | 2013-12-23 | 2017-01-19 | ノヴァレッド ゲーエムベーハー | ホスフィンオキシド母材及び金属ドーパントを含むn−ドープされた半導体材料 |
CN114127327A (zh) * | 2019-07-17 | 2022-03-01 | 3M创新有限公司 | 用于蒸发金属的蒸发舟 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05230631A (ja) * | 1991-12-03 | 1993-09-07 | Leybold Ag | 基板被着膜形成装置用の蒸発器ボート |
JPH07207434A (ja) * | 1994-01-18 | 1995-08-08 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 蒸着用ボート |
JP2007039809A (ja) * | 2005-08-03 | 2007-02-15 | Applied Materials Gmbh & Co Kg | 基板をコーティングするための蒸発装置 |
EP1967604A1 (en) * | 2007-03-08 | 2008-09-10 | Applied Materials, Inc. | Evaporation crucible and evaporation apparatus with directional evaporation |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5943873A (ja) * | 1982-09-04 | 1984-03-12 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 蒸発材料収容器 |
KR100589937B1 (ko) * | 2004-02-20 | 2006-06-19 | 엘지전자 주식회사 | 금속 박막 형성용 증발원 |
-
2011
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2012
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05230631A (ja) * | 1991-12-03 | 1993-09-07 | Leybold Ag | 基板被着膜形成装置用の蒸発器ボート |
JPH07207434A (ja) * | 1994-01-18 | 1995-08-08 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 蒸着用ボート |
JP2007039809A (ja) * | 2005-08-03 | 2007-02-15 | Applied Materials Gmbh & Co Kg | 基板をコーティングするための蒸発装置 |
EP1967604A1 (en) * | 2007-03-08 | 2008-09-10 | Applied Materials, Inc. | Evaporation crucible and evaporation apparatus with directional evaporation |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017502518A (ja) * | 2013-12-23 | 2017-01-19 | ノヴァレッド ゲーエムベーハー | ホスフィンオキシド母材及び金属ドーパントを含むn−ドープされた半導体材料 |
CN114127327A (zh) * | 2019-07-17 | 2022-03-01 | 3M创新有限公司 | 用于蒸发金属的蒸发舟 |
CN114127327B (zh) * | 2019-07-17 | 2024-04-05 | 3M创新有限公司 | 用于蒸发金属的蒸发舟 |
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