JP2012184473A - ガスバリア性フィルムとその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガスバリアフィルムの製造工程であって、基材11であるプラスチック材料の一方の面に、カソード側に設置した基材にイオンを衝突させるプラズマイオンエッチング処理であり、不活性ガスを用い、1〜50Paの範囲の圧力下で、10kHz〜1MHzの範囲の交流電圧を印加して発生する低温プラズマによりプラズマ処理を施す工程と、前記プラズマ処理を施した面に無機材料を蒸着する工程と、前記蒸着薄膜13上に保護層14を塗布する工程を有する。
【選択図】図1
Description
ガスバリアフィルムの製造工程であって、
基材であるプラスチック材料の一方の面に、
カソード側に設置した基材にイオンを衝突させるプラズマイオンエッチング処理であり、不活性ガスを用い、1〜50Paの範囲の圧力下で、10kHz〜1MHzの範囲の交流電圧を印加して発生する低温プラズマによりプラズマ処理を施す工程と、
前記プラズマ処理を施した面に無機材料を蒸着する工程と、
前記蒸着薄膜上に保護層を塗布する工程と、
を有することを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法を提供するものである。
カソード側に設置した基材にイオンを衝突させるプラズマイオンエッチング処理であり、不活性ガスを用い、1〜50Paの範囲の圧力下で、10kHz〜1MHzの範囲の交流電圧を印加して発生する低温プラズマによりプラズマ処理を施す工程と、
前記プラズマ処理を施した面に無機材料を蒸着する工程と、
前記蒸着薄膜上に保護層を塗布する工程で、
作製されたことを特徴とするガスバリア性フィルムを提供するものである。
厚さ12μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの片方の面に、アルゴンガスを用いて、図2に記載の装置を用いてプラズマ処理を行った。Epd値は、1250W・sec/m2とし、400kHzの交流電圧を印加してプラズマを発生させ、ラインスピード60m/min、処理空間の圧力は30Paで処理を行った。
厚さ12μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの片方の面に、窒素ガスを用いて、図2に記載の装置を用いてプラズマ処理を行った。Epd値は、1250W・sec/m2とし、400kHzの交流電圧を印加してプラズマを発生させ、ラインスピード60m/min、処理空間の圧力は30Paで処理を行った。
厚さ12μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの片方の面に、プラズマ処理を施さず、ラインスピード60m/minにて、電子線加熱方式による真空蒸着を行い、厚さ40nmの酸化珪素を積層した。さらに保護層を塗布してガスバリア性フィルムを作成した。
厚さ12μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの片方の面に、酸素ガスを用いて、図2に記載の装置を用いてプラズマ処理を行った。Epd値は、1250W・sec/m2とし、400kHzの交流電圧を印加してプラズマを発生させ、ラインスピード60m/min、処理空間の圧力は30Paで処理を行った。
厚さ12μmのコロナ処理済のポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの片方の面に、ラインスピード60m/minで電子線加熱方式による真空蒸着により厚さ40nmの酸化珪素を積層し、さらに保護層を塗布してガスバリア性フィルムを作成した。
実施例または比較例のガスバリア性フィルムを評価するため、15μmのONy、70μmのCPPをドライラミネートした。これをA4サイズに切り出して袋状にし、200ccの水を入れて密閉し、121℃で30分間レトルト殺菌処理を行った。レトルト殺菌後、24時間以内に、カップ法により、40−90%RH雰囲気にて水蒸気透過度を測定した(JIS Z0208準拠)。
レトルト殺菌処理後、2時間以内に15mm巾に切断し、水を付けて180度方向に300mm/minの速度で剥離試験を行った。剥離試験には、オリエンテック社テンシロン万能試験機RTC−1250を用いて測定した(JIS Z1707準拠)。
Claims (10)
- ガスバリアフィルムの製造工程であって、
基材であるプラスチック材料の一方の面に、
カソード側に設置した基材にイオンを衝突させるプラズマイオンエッチング処理であり、不活性ガスを用い、1〜50Paの範囲の圧力下で、10kHz〜1MHzの範囲の交流電圧を印加して発生する低温プラズマによりプラズマ処理を施す工程と、
前記プラズマ処理を施した面に無機材料を蒸着する工程と、
前記蒸着薄膜上に保護層を塗布する工程と、
を有することを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。 - 前記不活性ガスが、アルゴン、ヘリウム、ネオン、窒素ガスのうち1種類以上含むことを特徴とする請求項1に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
- 前記プラズマ処理が、(電力密度)×(処理時間)をEpd値として定義する場合、Epd値を150W・sec/m2以上としたプラズマ処理であることを特徴とする請求項1または2に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
- 前記無機材料が、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化珪素、酸化マグネシウム、またはそれらの混合物であり、蒸着薄膜の膜厚が10〜200nmの範囲であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
- 前記保護層が、金属アルコキシドと水溶性分子を含む混合溶液を塗布し、加熱乾燥して形成される保護層を持つことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のガスバリア性フィルムの製造方法。
- 基材であるプラスチック材料の一方の面に、
カソード側に設置した基材にイオンを衝突させるプラズマイオンエッチング処理であり、不活性ガスを用い、1〜50Paの範囲の圧力下で、10kHz〜1MHzの範囲の交流電圧を印加して発生する低温プラズマによりプラズマ処理を施す工程と、
前記プラズマ処理を施した面に無機材料を蒸着する工程と、
前記蒸着薄膜上に保護層を塗布する工程で、
作製されたことを特徴とするガスバリア性フィルム。 - 前記不活性ガスが、アルゴン、ヘリウム、ネオン、窒素ガスのうち1種類以上を含むことを特徴とする請求項6に記載のガスバリア性フィルム。
- 前記プラズマ処理が、(電力密度)×(処理時間)をEpd値として定義する場合、Epd値を150W・sec/m2以上としたプラズマ処理であることを特徴とする請求項6または7に記載のガスバリア性フィルム。
- 前記無機材料が、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化珪素、酸化マグネシウム、またはそれらの混合物であり、蒸着層の膜厚が10〜200nmの範囲であることを特徴とする請求項6乃至8のいずれか1項に記載のガスバリア性フィルム。
- 前記保護層が、金属アルコキシドと水溶性分子を含む混合溶液を塗布し、加熱乾燥して形成される保護層を持つことを特徴とする請求項6乃至9のいずれか1項に記載のガスバリア性フィルム。
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JP2020185672A (ja) * | 2019-05-10 | 2020-11-19 | 大日本印刷株式会社 | バリアフィルム |
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- 2011-03-04 JP JP2011048218A patent/JP2012184473A/ja active Pending
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