JP2012182166A - プラズマ窒化装置用石英天板およびプラズマ窒化装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】実施形態によれば、プラズマ窒化装置用石英天板が提供される。プラズマ窒化装置用石英天板は、プラズマ窒化装置の真空反応室内にプラズマを発生させるアンテナと前記真空反応室内のプラズマ領域との間に配置されて前記真空反応室の天板として用いられる。プラズマ窒化装置用石英天板は、石英を用いて板状に形成された主板部と、前記主板部の表面のうち少なくともプラズマ雰囲気に接する面を前記石英よりも緻密な膜で形成した緻密膜と、を備えている。そして、前記緻密膜は、前記主板部上に膜生成を行うことによって形成された膜である。
【選択図】図2
Description
図1は、実施形態に係る石英天板を備えたプラズマ窒化装置の構成を模式的に示す断面図である。プラズマ窒化装置100は、ウエハWなどの基板上にプラズマ窒化膜を形成する装置であり、真空反応室内は気密に構成されている。プラズマ窒化装置100は、石英天板(プラズマ窒化装置用石英天板)1Xと、SPA(Slot Plane Antenna)であるアンテナ2と、処理チャンバ3と、を備えて構成されている。
Claims (6)
- プラズマ窒化装置の真空反応室内にプラズマを発生させるアンテナと前記真空反応室内のプラズマ領域との間に配置されて前記真空反応室の天板として用いられるとともに、
石英を用いて板状に形成された主板部と、
前記主板部の表面のうち少なくともプラズマ雰囲気に接する面を前記石英よりも緻密な膜で形成した緻密膜と、
を備え、
前記緻密膜は、前記主板部上に膜生成を行うことによって形成された膜であることを特徴とするプラズマ窒化装置用石英天板。 - 前記緻密膜は、CVD法を用いて形成された膜であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ窒化装置用石英天板。
- 前記緻密膜は、CVD−SiO2膜であることを特徴とする請求項2に記載のプラズマ窒化装置用石英天板。
- 前記緻密膜は、CVD−SiO2膜が形成された後、前記CVD−SiO2膜が酸化剤を含んだガス雰囲気または不活性ガス雰囲気で熱処理された膜であることを特徴とする請求項2に記載のプラズマ窒化装置用石英天板。
- 前記緻密膜は、CVD−SiN膜であることを特徴とする請求項2に記載のプラズマ窒化装置用石英天板。
- 処理チャンバと、
前記処理チャンバの下部に配置され被処理基板を載置するステージと、
前記処理チャンバの上部に配置されプラズマを発生させるアンテナと、
前記アンテナと前記ステージとの間に配置され、石英を用いて板状に形成された主板部と、
前記主板部のうち少なくとも前記プラズマに接する面を石英よりも緻密な膜で形成した緻密膜と、
を備え、
前記緻密膜は、前記主板部上に膜生成を行うことによって形成された膜であることを特徴とするプラズマ窒化装置。
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JP2003133298A (ja) * | 2001-10-19 | 2003-05-09 | Tokyo Electron Ltd | マイクロ波プラズマ基板処理装置 |
JP2005097685A (ja) * | 2002-11-27 | 2005-04-14 | Kyocera Corp | 耐食性部材およびその製造方法 |
JP2009206341A (ja) * | 2008-02-28 | 2009-09-10 | Tohoku Univ | マイクロ波プラズマ処理装置、それに用いる誘電体窓部材および誘電体窓部材の製造方法 |
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