JP2012176359A - ガス溶解水の製造装置 - Google Patents
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 82
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 107
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 53
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 39
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 15
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 8
- 239000008155 medical solution Substances 0.000 claims 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 72
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 15
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 13
- 238000007872 degassing Methods 0.000 abstract description 6
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 abstract description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 25
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 25
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 19
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 15
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 15
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 5
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide;molecular oxygen Chemical compound O=O.O=C=O UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;hydrate Chemical compound O.OO QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000001471 micro-filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002863 poly(1,4-phenylene oxide) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000009897 systematic effect Effects 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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- Accessories For Mixers (AREA)
Abstract
【解決手段】原水は、流量計1を経由して脱気膜モジュール2に送られて脱気される。次いで、ガス溶解膜モジュール4において、ガス供給器5から供給される水素などのガスがガス透過膜4aを介して水に溶解する。ガス溶解水に対し、薬液貯槽6から薬注ポンプ7によりアンモニア水などの薬液を添加する。薬液が添加されたガス溶解水中の薬剤濃度が薬剤濃度センサ10で検知された後、ユースポイントに送られる。流量計1及び薬剤濃度センサ10の検出値に基づいて薬注ポンプ7を制御する。この際、原水流量、薬液添加量及び濃度センサ11の検出濃度に基づいて実際の薬液濃度を求め、薬注量を制御する。
【選択図】図1
Description
V・b=Q・a ・・・(1)
従って b=Q・a/V ・・・(2)
b’=Q・a’/V ・・・(3)
となり、目標値bから(b’−b)分だけ乖離することになる。
a’=V・b’/Q ・・・(4)
より薬液貯槽6内の薬液の実際の濃度a’を求め、目標濃度bとするための薬注量Q’を
b=Q’・a’/V ・・・(5)
即ち Q’=V・b/a’ ・・・(6)
にて算出する。そして、Δt時間の薬注量がQ’となるように、すなわち単位時間当りの薬注量がQ’/Δtとなるように薬注ポンプ7を制御する。これにより、薬剤濃度センサ10で検出される薬剤濃度が(5)式の通り高精度にてbに合致したものとなる。従って、このような制御を行うことにより、給水量の変動が大きい場合であって且つ薬液濃度にバラツキがある場合であっても、ガス溶解水中の薬剤濃度の目標濃度からの乖離を小さくすることができる。
2 脱気膜モジュール
4 ガス溶解膜モジュール
10 薬剤濃度センサ
11 制御器
Claims (3)
- ガス透過膜によって内部が液相室と気相室に区画されたガス溶解用の膜モジュールであって、
該液相室に水が供給され、該気相室にガスが供給され、該気体透過膜を経由して該気相室内のガスが該液相室内の水に溶解するガス溶解膜モジュールと、
該膜モジュールからのガス溶解水に薬液を添加する薬液添加手段と、
該薬液添加手段からの薬液添加量を制御する制御手段と
を有するガス溶解水の製造装置において、
該ガス溶解膜モジュールへの給水量を検出する給水量検出手段が設けられており、前記制御手段は、該給水量検出手段の検出給水量に応じて薬液添加手段を制御することを特徴とするガス溶解水の製造装置。 - 請求項1において、前記薬液は薬剤の溶液であり、薬液が添加されたガス溶解水中の薬剤濃度を検出する濃度検出手段が設けられており、
前記制御手段は、薬液添加量と該濃度検出手段で検出されるガス溶解水中の薬剤濃度とに基いて薬液中の薬剤濃度を検知し、この薬液中の薬剤濃度と前記検出給水量とに基いて薬液添加手段を制御することを特徴とするガス溶解水の製造装置。 - 請求項2において、薬液添加量と該濃度検出手段で検出されるガス溶解水中の薬剤濃度を定期的に検知して、薬剤濃度と検出給水量との関係を定期的に修正を繰り返して薬剤添加手段を制御することを特徴とするガス溶解水の製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2011040407A JP5741056B2 (ja) | 2011-02-25 | 2011-02-25 | ガス溶解水の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011040407A JP5741056B2 (ja) | 2011-02-25 | 2011-02-25 | ガス溶解水の製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012176359A true JP2012176359A (ja) | 2012-09-13 |
JP5741056B2 JP5741056B2 (ja) | 2015-07-01 |
Family
ID=46978614
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011040407A Active JP5741056B2 (ja) | 2011-02-25 | 2011-02-25 | ガス溶解水の製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5741056B2 (ja) |
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