JP5663410B2 - 超純水製造方法及び装置 - Google Patents
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Description
窒素添加装置15は、純水中に窒素ガスを供給する窒素供給部と、純水中の溶存窒素濃度を測定する溶存窒素計32と、溶存窒素計32での測定結果から窒素ガスの供給量を決定する制御部33とを有している。窒素供給部は、ガス溶解膜31と、窒素(N2)ガス供給源とガス溶解膜31の間に設けられたマスフローコントローラ34とを備えており、ガス溶解膜31を介して純水中に高純度の窒素ガスを供給する。窒素ガスの供給量は、制御部33によってマスフローコントローラ34で調節される。
溶存酸素除去装置17は、白金族金属が担持された触媒金属担持体を用いた装置である。以下、白金族金属が担持された触媒金属担持体を白金族触媒41と呼ぶ。溶存酸素除去装置17は、純水を白金族触媒41に接触させることにより、純水中の溶存酸素を除去する。
(1)溶存酸素除去用の脱気膜の後段に窒素添加装置を設ける構成では、溶存酸素とともに窒素パージに由来する溶存窒素も脱気膜で除去されるため、脱気膜で除去された分の窒素も窒素添加装置で添加する必要があり、窒素の無駄が生じ、
(2)溶存酸素除去用の脱気膜の前段に窒素添加装置を設ける構成では、脱気膜で除去される溶存窒素を考慮して窒素を添加する必要があり、溶存窒素量の細かい調節が困難となる、
という課題を生じる。そこで本実施形態では、溶存酸素を選択的に除去することができる白金族触媒41を用いて溶存酸素を除去することとしている。これにより、純水中の溶存窒素濃度を低下させることなく溶存酸素のみを除去でき、窒素パージされた一次純水タンク11内で純水に溶解した溶存窒素を有効に利用することができるようになる。
次に、窒素添加装置15と溶存酸素除去装置17との配置関係について説明する。
次に、本実施形態の純水製造装置の有効性を示すために行った実験結果について説明する。
図2に示した純水製造装置において溶存酸素除去装置として脱気膜(大日本インキ化学工業株式会社製:EF−002A)を用いたことを除いて、実験例と同様の実験を行った。このときの溶存酸素除去装置の通過の前後での純水中の溶存酸素濃度及び溶存窒素濃度の測定結果を表2に示す。
12 ポンプ
13 熱交換器
14 紫外線酸化装置
15 窒素添加装置
16,20,23,24,51〜54 弁
17 溶存酸素除去装置
18 水素水生成装置
19 流量計(FI)
21 非再生型混床式イオン交換装置(CP)
22 限外濾過膜装置(UF)
31 ガス溶解膜
41 白金族触媒
32,56 溶存窒素計
55 溶存酸素計
Claims (12)
- 溶存酸素を含む被処理水を紫外線を照射する照射工程と、前記紫外線が照射された被処理水に対してイオン交換処理を行うイオン交換工程と、を少なくとも有して純水を生成し、生成された純水が前記被処理水の少なくとも一部として前記照射工程に循環される純水製造方法において、
前記被処理水に窒素を添加する窒素添加工程と、
白金族金属が担持された触媒金属担持体に、前記窒素添加工程により窒素が添加された被処理水を接触させて、該被処理水中の溶存酸素を除去する溶存酸素除去工程と、
を有することを特徴とする純水製造方法。 - 前記照射工程で紫外線が照射された被処理水に対して前記窒素添加工程と前記溶存酸素除去工程を実施し、その後、前記溶存酸素が除去された被処理水に対して前記イオン交換工程を実施する、請求項1に記載の純水製造方法。
- 前記窒素添加工程は、前記被処理水にガス溶解膜を介して窒素を添加するガス溶解工程と、前記窒素添加工程より下流側の被処理水中の溶存窒素濃度を測定し、測定された溶存窒素濃度に応じて前記ガス溶解膜に供給される窒素量を制御する制御工程と、を有する、請求項1または2に記載の純水製造方法。
- 前記触媒金属担持体に対して水素が供給されるように水素を添加する水素添加工程を有する請求項1乃至3のいずれか1項に記載の純水製造方法。
- 前記水素添加工程は、純水に水素を添加して水素水とする工程を有し、前記窒素添加工程によって窒素を添加された被処理水とともに前記水素水が前記触媒金属担持体に接触させられる、請求項4に記載の純水製造方法。
- 溶存酸素を含む被処理水を貯留する貯槽と、前記貯槽から流出する被処理水に紫外線を照射する紫外線酸化装置と、前記紫外線酸化装置によって紫外線を照射された被処理水中のイオン成分を除去するイオン交換装置と、前記イオン交換装置によってイオン成分が除去された処理水をユースポイントに供給する供給ラインと、前記供給ラインから分岐し前記処理水の一部または全部を前記貯槽に戻す循環ラインと、を有する純水製造装置であって、
前記被処理水に窒素を添加する窒素添加装置と、
白金族金属が担持された触媒金属担持体を備え、前記窒素添加装置により窒素が添加された被処理水を前記触媒金属担持体に接触させて該被処理水中の溶存酸素を除去する溶存酸素除去装置と、
を有する超純水製造装置。 - 前記紫外線酸化装置の後段となり前記イオン交換装置の前段となる位置に前記窒素添加装置及び前記溶存酸素除去装置が配置される請求項6に記載の純水製造装置。
- 前記窒素添加装置は、前記被処理水に窒素を添加するガス溶解膜と、前記窒素が添加された被処理水での溶存窒素濃度を測定する溶存窒素計と、測定された溶存窒素濃度に応じて前記ガス溶解膜に供給される窒素の流量を決定して前記ガス溶解膜での窒素添加量を制御する制御部と、を有する請求項6または7に記載の純水製造装置。
- 前記触媒金属担持体は、アニオン交換体に白金族金属が担持された触媒金属担持体である請求項6乃至8のいずれか1項に記載の純水製造装置。
- 前記アニオン交換体は、モノリス状有機多孔質である請求項9に記載の純水製造装置。
- 前記溶存酸素除去装置に水素を供給する水素添加手段をさらに有する、請求項6乃至10のいずれか1項に記載の純水製造装置。
- 前記水素添加手段は、純水に水素を添加して水素水として前記溶存酸素除去装置に供給する水素水生成装置を備える、請求項11に記載の純水製造装置。
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