JP2012169572A - 基板洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板Gを水平状態に保持する基板保持部10、基板保持部を鉛直軸回りに回転する回転駆動部20、基板保持部にて保持された基板の裏面に洗浄液を吐出する洗浄液供給部50とを具備する基板洗浄装置において、基板保持部は、基板を支持する支持部材14を立設する環状部材13と、回転駆動部に連結される中空回転軸11の頂部に設けられるボス部12と、ボス部と環状部材とを連結する複数の中空状スポーク16と、を具備する。洗浄液供給部は、洗浄液供給源53に接続され、中空回転軸内に遊貫される洗浄液供給筒軸51と、洗浄液供給筒軸内を流れる洗浄液をスポークの中空部16aに案内すべくボス部に設けられる連通流路54と、スポークの軸方向に沿って設けられる複数の裏面洗浄ノズル55とを具備する。
【選択図】 図3
Description
10 基板保持部
11 中空回転軸
12 ボス部
13 環状部材
14 支持部材
16,16A スポーク
16a,16c 中空部
16b 勾配面
17 気流形成用フィン部
17a 勾配面
20 回転駆動部
50 洗浄液供給部
51 洗浄液供給筒軸
51a 流路
52 供給管路
52A 分岐管路
53 洗浄液供給源
54 連通流路
55 裏面洗浄ノズル
56,56a〜56n ノズル孔
70 コントローラ
80 N2ガス供給源(乾燥用気体供給源)
D1〜Dn ノズル孔径
P1〜Pn ノズル孔間のピッチ
V1,V2 開閉弁
Vc 切換弁
R 回転方向
C 気流
L 液滴
Claims (9)
- 水平に保持した基板を回転させながら基板を洗浄する基板洗浄装置であって、
基板の表面を上方にして水平状態に保持する基板保持部と、
上記基板保持部を鉛直軸回りに回転する回転駆動部と、
上記基板保持部にて保持された基板の裏面に洗浄液を吐出する洗浄液供給部と、を具備し、
上記基板保持部は、基板の側縁下部を支持する支持部材を立設する環状部材と、上記回転駆動部に連結される中空回転軸の頂部に設けられるボス部と、上記ボス部と環状部材とを連結する複数の中空状スポークと、を具備し、
上記洗浄液供給部は、洗浄液供給源に接続され、上記中空回転軸内に遊貫される洗浄液供給筒軸と、該洗浄液供給筒軸内を流れる洗浄液を上記スポークの中空部に案内すべく上記ボス部に設けられる連通流路と、上記スポークの軸方向に沿って設けられる複数の裏面洗浄ノズルと、を具備してなる、
ことを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1記載の基板洗浄装置において、
上記複数の裏面洗浄ノズルは、上記スポークにおける基板保持部の中心側から外周側に向かって順次ノズル孔径が小さくなるように形成されている、ことを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1記載の基板洗浄装置において、
上記複数の裏面洗浄ノズルは、同一ノズル孔径に形成されると共に、隣接するノズル間のピッチが、上記スポークにおける基板保持部の中心側から外周側に向かって順次大きくなるように形成されている、ことを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の基板洗浄装置において、
上記裏面洗浄ノズルは、上記スポークにおける上記基板保持部の回転方向と対向する面にノズル孔が開口している、ことを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板洗浄装置において、
上記スポークの下端部に、上記基板保持部の回転方向と逆方向に下り勾配の気流形成用フィン部を突設してなる、ことを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板洗浄装置において、
上記スポークは、上記基板保持部の回転方向と逆方向に下り勾配を有する断面略楕円形状に形成されている、ことを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載の基板洗浄装置において、
上記裏面洗浄ノズルにおける上記基板保持部の中心側に位置するノズル孔が、基板の中心側に向かって傾斜状に形成されている、ことを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1ないし7のいずれかに記載の基板洗浄装置において、
上記裏面洗浄ノズルは、隣接するノズル孔が上記スポークの軸線に沿って千鳥状に配設されている、ことを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項1ないし8のいずれかに記載の基板洗浄装置において、
上記洗浄液供給部は、上記洗浄液供給筒軸と上記洗浄液供給源とを接続する供給管路を具備し、更に、上記供給管路に介設される切換弁を介して乾燥用気体供給源に接続され、上記切換弁の切換操作によって上記裏面洗浄ノズルからの洗浄液の吐出と、乾燥用気体の吐出とを切換可能に形成してなる、ことを特徴とする基板洗浄装置。
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