JP2012163912A5 - - Google Patents

Description

本発明の波長可変干渉フィルターは、第一基板と、前記第一基板の一面側に対向し、前記第一基板に接合された第二基板と、前記第二基板の前記第一基板が接合された面とは反対側の面に対向し、前記第二基板に接合された第三基板と、前記第二基板に設けられ、前記第一基板に対向する可動面を有する可動部と、前記第二基板に設けられ、前記可動部を前記第二基板の厚み方向に移動可能に保持する連結保持部と、前記可動部の前記可動面および前記第一基板の互いに対向する面に設けられた一対のミラーと、前記第一基板および前記第二基板の互いに対向する面に設けられた一対の変位用電極に電圧が印加されることで、静電引力により前記可動部を前記第二基板の厚み方向に変位可能とする静電アクチュエーターとを備え、前記第一基板と前記第二基板とにより挟まれた第一内部空間および前記第二基板と前記第三基板とに挟まれた第二内部空間が形成され、前記第一内部空間と前記第二内部空間が外部に連通する貫通孔が形成され、前記貫通孔は、前記第一内部空間および前記第二内部空間を大気圧より減圧された状態に密閉する封止材で封止されていることを特徴とする。

本発明の波長可変干渉フィルターの製造方法は、第一基板と、前記第一基板に対向し前記第一基板に接合された第二基板と、前記第二基板の前記第一基板が接合された面とは反対側の面に対向し前記第二基板に接合された第三基板と、を備え、前記第一基板と前記第二基板とにより挟まれた第一内部空間および前記第二基板と前記第三基板とに挟まれた第二内部空間が形成され、前記第一内部空間と前記第二内部空間が外部に連通する貫通孔が形成され、前記貫通孔が前記第一内部空間および前記第二内部空間を大気圧より減圧された状態に密閉する封止材で封止されている波長可変干渉フィルターの製造方法であって、前記第一基板、前記第二基板および前記第三基板を互いに接合する工程と、前記貫通孔を介して前記第一内部空間および前記第二内部空間を大気圧より減圧する工程と、前記第一内部空間および前記第二内部空間を大気圧より減圧した状態で、前記貫通孔を前記封止材で封止する工程とを備えることを特徴とする。

（３−１−１．第一基板の構成）
図４は、第一基板５１を第二基板５２側から見た平面図である。
第一基板５１は、厚みが例えば１ｍｍに形成されるガラス基材をエッチングにより加工することで形成される。具体的には、図３および図４に示すように、第一基板５１には、エッチングによりミラー固定部５１１および電極形成溝５１２が形成される。
ミラー固定部５１１は、第一基板５１の基板厚み方向から第一基板５１を見た平面視において、平面中心点を中心とした円形に形成されている。電極形成溝５１２は、前記平面視において、ミラー固定部５１１と同心円でミラー固定部５１１よりも径寸法が大きい円形に形成されている。

具体的には、図５に示すように、第二実施形態のエタロン５Ａでは、第三基板５３Ａのギャップ形成溝５３１に、第三貫通孔５３４が形成される。第三貫通孔５３４は、エタロン５Ａの外部と、第二基板５２Ａおよび第三基板５３Ａの間の入射側空間５８２とを連通する。また、第三貫通孔５３４は、入射側空間５８２が大気圧より減圧された状態で、封止材５３５により封止される。

このようなエタロン５Ａは、以下の製造方法により形成することができる。
すなわち、各基板５１，５２Ａ，５３Ａ同士を接合した後に、各貫通孔５１７，５３４を介して、射出側空間５８１および入射側空間５８２内の空気を真空ポンプ等の吸引装置で吸引し、射出側空間５８１および入射側空間５８２を減圧状態とする。この状態で、各貫通孔５１７，５３４を封止材５１８，５３５で封止することにより、射出側空間５８１および入射側空間５８２が減圧状態で封止されて、エタロン５Ａが形成される。

例えば、前記第一実施形態では、第一貫通孔５１７が第一基板５１に形成されていたが、第一基板５１に第一貫通孔５１７を設けずに、第三基板５３に第三貫通孔５３４を形成してもよい。第二基板５２には、射出側空間５８１と入射側空間５８２とを連通する第二貫通孔５２６が形成されているため、この場合でも、射出側空間５８１および入射側空間５８２内の空気を第三貫通孔から吸引でき、射出側空間５８１および入射側空間５８２を減圧状態とすることができる。

Claims (10)

1. 第一基板と、
   前記第一基板の一面側に対向し、前記第一基板に接合された第二基板と、
   前記第二基板の前記第一基板が接合された面とは反対側の面に対向し、前記第二基板に接合された第三基板と、
   前記第二基板に設けられ、前記第一基板に対向する可動面を有する可動部と、
   前記第二基板に設けられ、前記可動部を前記第二基板の厚み方向に移動可能に保持する連結保持部と、
   前記可動部の前記可動面および前記第一基板の互いに対向する面に設けられた一対のミラーと、
   前記第一基板および前記第二基板の互いに対向する面に設けられた一対の変位用電極に電圧が印加されることで、静電引力により前記可動部を前記第二基板の厚み方向に変位可能とする静電アクチュエーターとを備え、
   前記第一基板と前記第二基板とにより挟まれた第一内部空間および前記第二基板と前記第三基板とに挟まれた第二内部空間が形成され、
   前記第一内部空間と前記第二内部空間が外部に連通する貫通孔が形成され、
   前記貫通孔は、前記第一内部空間および前記第二内部空間を大気圧より減圧された状態に密閉する封止材で封止されている
   ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
2. 請求項１に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
   前記貫通孔は、
   前記第一基板に形成され、前記第一内部空間と基板外部とを連通する第一貫通孔と、
   前記第二基板に形成され、前記第一内部空間と前記第二内部空間とを連通する第二貫通孔とを備え、
   前記第一貫通孔が前記封止材で封止されている
   ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
3. 請求項１に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
   前記貫通孔は、
   前記第一基板に形成され、前記第一内部空間と基板外部とを連通する第一貫通孔と、
   前記第三基板に形成され、前記第二内部空間と基板外部とを連通する第三貫通孔とを備え、
   前記第一貫通孔および前記第三貫通孔が前記封止材で封止されている
   ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
4. 請求項１から請求項３のいずれかに記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
   前記一対の変位用電極は、前記第一基板に設けられた第一変位用電極と、前記第二基板に設けられた第二変位用電極とを備え、
   前記第一基板には、前記第一基板を貫通し前記第一変位用電極に接続された第一貫通電極と、前記第一基板を貫通する第二貫通電極とが形成され、
   前記第一基板または前記第二基板の前記第一内部空間に臨む面には、前記第二貫通電極と前記第二変位用電極とを接続するバンプ電極が設けられている
   ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
5. 請求項１から請求項４のいずれかに記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
   前記封止材は、接着剤、低融点ガラス、または低融点金属により構成されている
   ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
6. 請求項１から請求項５のいずれかに記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
   前記第一基板には、前記一対の変位用電極に接続された貫通電極と、前記貫通電極の形成用に前記第一基板を貫通する電極形成孔が形成され、
   前記電極形成孔は、前記貫通孔を兼ね、
   前記貫通電極は、前記封止材を兼ねている
   ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
7. 請求項１から請求項６のいずれかに記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
   前記第三基板には、特定範囲外の波長の光を反射または吸収する光学膜が形成される
   ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
8. 請求項１から請求項７のいずれかに記載の波長可変干渉フィルターと、
   前記波長可変干渉フィルターを透過した検査対象光を受光する受光手段とを備える
   ことを特徴とする光モジュール。
9. 請求項８に記載の光モジュールと、
   前記光モジュールの前記受光手段により受光された光に基づいて、光の光特性を分析する分析処理部とを備える
   ことを特徴とする光分析装置。
10. 第一基板と、前記第一基板に対向し前記第一基板に接合された第二基板と、前記第二基板の前記第一基板が接合された面とは反対側の面に対向し前記第二基板に接合された第三基板と、を備え、前記第一基板と前記第二基板とにより挟まれた第一内部空間および前記第二基板と前記第三基板とに挟まれた第二内部空間が形成され、前記第一内部空間と前記第二内部空間が外部に連通する貫通孔が形成され、前記貫通孔が前記第一内部空間および前記第二内部空間を大気圧より減圧された状態に密閉する封止材で封止されている波長可変干渉フィルターの製造方法であって、
    前記第一基板、前記第二基板および前記第三基板を互いに接合する工程と、
    前記貫通孔を介して前記第一内部空間および前記第二内部空間を大気圧より減圧する工程と、
    前記第一内部空間および前記第二内部空間を大気圧より減圧した状態で、前記貫通孔を前記封止材で封止する工程とを備える
    ことを特徴とする波長可変干渉フィルターの製造方法。