JP5587372B2 - 薄型ガラス基板を用いた工程基板及びその製造方法、並びにそれを用いた液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
また、ガラス基板の厚さは、3次元画像を実現する際に視野角を決定する主な要因となる。すなわち、液晶表示装置のカラーフィルタ基板の一面にはブラックマトリクスが形成され、他面にはFPR(Film Patterned Retarder)(偏光フィルム)が形成されるが、ガラス基板の厚さが厚い場合、ブラックマトリクスとFPRとの距離が遠いため、3次元クロストークを防止するためにはブラックマトリクスの面積を大きくしなければならない。しかし、このようにブラックマトリクスの面積を大きくした場合、3次元画像の視野角が狭くなり、輝度が低下するという問題があった。
ここで、ベント管168を開放する前に1次加圧を行ってもよい。このような1次貼り合わせにより、基板11と補助基板12の間が完全に密閉され、大気圧状態への変更時に外部の空気が基板11と補助基板12の間に流入しなくなる。
図5は製造された工程基板10の部分拡大図である。通常、ガラス工場で製造されたガラス基板は5.0nm以下の粗さ(Ra)を有する。よって、基板11と補助基板12とを貼り合わせた場合、5.0nm以下の粗さ(Ra)により、基板11と補助基板12との界面には微細なサイズの微細空間14が生じる。当該微細空間は、基板11と補助基板12との界面に規則的に生じるわけではないが、界面全体にわたって生じる。
12、82 補助基板
10、80 工程基板
100 真空貼り合わせ装置
110 真空チャンバ
121、131 プレート
124、134 静電チャックプレート
126、136 静電チャック
138a、138b、138c、138d カメラ
140 TMP
144 ドライポンプ
Claims (11)
- 第1面及び第2面を有する第1基板、並びに第1面及び第2面を有する第2基板を準備する段階と、
前記第2基板の第1面に第3補助基板を貼り付ける段階と、
真空中で前記第2基板の第2面に第2補助基板を接触させる段階と、
接触した前記第2基板及び前記第2補助基板の外部を大気圧状態にして大気圧により前記第2基板及び前記第2補助基板に圧力を加え、前記第2基板と前記第2補助基板とを貼り合わせる段階と、
前記第2基板の第1面から前記第3補助基板を分離する段階と、
前記第1基板の第1面上にゲートライン、データライン、薄膜トランジスタ及び画素電極を形成する段階と、
前記第2基板の第1面上にカラーフィルタ層を形成する段階と、
前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせて液晶パネルを形成する段階と、
前記液晶パネルから前記第2補助基板を分離する段階と
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 真空中で前記第1基板を第1補助基板に貼り付けて第1工程基板を形成する段階をさらに含み、
前記ゲートライン、データライン、薄膜トランジスタ及び画素電極は、前記第1工程基板の第1基板上に形成することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記第1工程基板を形成する段階は、
真空中で前記第1基板と前記第1補助基板とを接触させる段階と、
接触した前記第1基板及び前記第1補助基板の外部を大気圧状態にして、前記第1基板と前記第1補助基板とを圧着して貼り合わせる段階と
からなることを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記第1工程基板を形成する段階は、
前記第1基板の第1面に第4補助基板を貼り付ける段階と、
真空中で前記第1基板の第2面と前記第1補助基板の一面とを接触させる段階と、
前記第1面が前記第4補助基板に接触して前記第2面が前記第1補助基板に接触した前記第1基板の外部を大気圧状態にして、前記第1基板と前記第1補助基板とを圧着して貼り合わせる段階と、
前記貼り合わせられた第1基板から前記第4補助基板を分離する段階と
からなることを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記第1基板と前記第1補助基板を位置整列し、前記第2基板と前記第2補助基板を位置整列する段階をさらに含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記位置整列する段階は、前記第1基板及び前記第1補助基板の角部を位置整列し、前記第2基板及び前記第2補助基板の角部を位置整列する段階からなることを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記位置整列する段階は、前記第1基板及び前記第1補助基板の4辺を位置整列し、前記第2基板及び前記第2補助基板の4辺を位置整列する段階からなることを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記第1補助基板及び前記第2補助基板の厚さが0.3mm以上であることを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記第1補助基板及び前記第2補助基板の厚さが0.3mm〜1.0mmであることを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記第1基板及び前記第2基板の厚さが0.1mm〜0.4mmであることを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記第1基板及び前記第2基板の表面粗さが5.0nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
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