JP2012160527A - 光電変換モジュール及び光電変換モジュールの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光電変換モジュール(24)は、基板(26)の実装面に実装された光電変換素子(30)及びICチップ(32)と、基板(26)の側面に設けられ、ICチップ(32)と電気的に接続される、基板(26)の側面の他の部分よりも凹んだ凹形状を有する電極(36)と備える
【選択図】図4
Description
本発明は、上述した事情に鑑みてなされ、その目的とするところは、簡単な構成の外部接続用の電極を有する光電変換モジュール及び光電変換モジュールの製造方法を提供することにある。
図1は、携帯電話10の外観を概略的に示す斜視図である。携帯電話10は例えば折り畳み型であり、第1ケース11と第2ケース12がヒンジを介して連結されている。第1ケース11には液晶パネル14が設置され、第2ケース12にはボタン16が設置され、利用者は、液晶パネル14に表示される画像から情報を得ることが出来る。
〔第1実施形態〕
光配線22は、光ファイバー23と、光ファイバー23の両端に一体に設けられた第1実施形態の光電変換モジュール24,24とからなる。
図3は、光電変換モジュール24の外観を概略的に示す斜視図である。光電変換モジュール24は、透光性を有する基板26を備える。基板26は、例えば、樹脂、無機材料、又は、樹脂と無機材料の複合材料からなる。無機材料としては、ガラス、シリコン、及び、サファイアからなる群から選択される1種を用いることができる。
より詳しくは、第2マザー基板20に接続される光電変換モジュール24では、光電変換素子30は、LD(レーザダイオード)等の発光素子であり、ICチップ32は、光電変換素子30を駆動するための駆動回路を構成している。
なお、光電変換素子30は、面発光型又は面受光型であり、出射部又は入射部が実装面と対向するように配置される。
導電部材36は、例えば、Au、Cu及びNiからなる群から選択される単一の金属若しくは合金の膜、又は、これらの膜の積層体からなる。好ましくは、導電部材36は、Cuめっき膜、Niめっき膜及びAuめっき膜がこの順で積層され、Auめっき膜が最表層に位置する積層体である。
保持溝38は、基板26に沿って、光電変換素子30及びICチップ32の配列方向(以下、単に配列方向Dという)に延びている。保持溝38の断面形状は四角形状、則ち角張ったU字形状であり、保持溝38はU溝である。
なお、保持溝38及びV溝は、基板26とは別の部材で形成することもできる。例えば、樹脂材料を基板26の背面に塗布して樹脂層を形成し、この樹脂層に対して保持溝及びV溝を形成してもよい。
まず、図6に示したように、基板26の材料として第1ウエハ61を用意する(準備工程)。第1ウエハ61は、最終的に、一点鎖線に沿って切断することによって、複数の基板26へと分割される。
用意した第1ウエハ61の一方の面(背面)に、分割後に得られる基板26の各々に対応して、V溝及び保持溝38を形成し、V溝に金属膜を蒸着してミラー42を形成する(保持溝・ミラー形成工程)。
なお、第1ウエハ61の一方の面に、樹脂材料を塗布して樹脂層を形成し、この樹脂層に対し、露光及び現像のプロセスで保持溝38を形成するととともに、ダイシング等によりV溝を形成してもよい。
穿孔工程の後、スルーホール62の壁面に、無電解めっき又は電解めっきを施し、めっき膜(導電性膜)を形成する(めっき工程)。めっき膜は、Cu、Ni、Auの順に施され、金めっきがめっき膜の表層であるのが好ましい。
この後、図9に示したように、第1ウエハ61の他方の面に、光電変換素子30及びICチップ32を例えばフリップチップ実装によって実装する(実装工程)。
なお、穿孔工程及びスルーホール62のめっき工程は、実装工程の後に行ってもよい。
最後に、得られた半完成品の保持溝38に光ファイバー23の先端部を配置してから、半完成品の基板38に接着剤を用いて補強部材40を接着し、光電変換モジュール24が完成する。
なお、補強部材40の側面にも、基板26の導電部材(電極)36と同様の電極を設けてもよい。この場合、補強部材40の電極は、基板26の電極36と電気的に接続されるように形成するのが好ましい。
また、導電部材36が凹んでいるため、導電部材36と接続部50との接触面積が大きく、接続強度が大きい。このため、この光電変換モジュール24は第2マザー基板20に強固に固定され、携帯電話10は高い信頼性を有する。
特に、上述した一実施形態の光電変換モジュール24の製造方法によれば、スルーホール62に対しめっきを行うことで、導電部材36が容易に形成される。
以下、第2実施形態の光電変換モジュール64について説明する。なお、第2実施形態以下の説明では、前述の実施形態と同一の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。
本実施形態では、例えば、カバー部材65はガラスからなり、カバー部材65の厚さは400μm以上1500μm以下の範囲にあり、基板26の実装面と対向するカバー部材65の面の広さは、基板26の実装面に略等しい。
なお、導電部材36,66には、グランド電極36g,66gと、信号又は電源用の電極(信号/電源電極)36s,66sとがある。
る。
光電変換モジュール64は、第2マザー基板20に対して、カバー部材65が対向するように配置され、接続部50は、導電部材66に接続されている。第2実施形態の場合、第2マザー基板20には、凹み49が形成されていなくてもよい。
絶縁層67は、例えば、酸化シリコンや酸化アルミニウム等の非導電性物質からなり、物理蒸着や化学蒸着によって形成される。
従って、収容室70は気密室であり、収容室70には、乾燥ガスが充填され、好ましくは不活性ガスが充填されている。不活性ガスは、例えば、He等の希ガスや窒素ガスである。あるいは、収容室70は真空状態若しくは減圧状態であってもよい。
なお、実装面に設けられた導体パターン52には、グランド電極36g,66gに接続されたグランド線52gと、信号/電源電極36s,66sに接続された信号/電源線52sとがある。グランド線52g及び信号/電源線52sは、いずれも絶縁層67を跨ぐように延びている。
カバー側ベース膜71は、基板側ベース膜64と対向する領域に設けられ、絶縁層67の外縁よりも内側に位置している。なお、カバー部材34は、カバー側ベース膜71を囲むように、対向面の外縁から基板26に向けて突出する、枠形状の突起部34aを有する。このため、カバー部材34においては、突起部34aと凹み69の間に存在する平坦な枠形状の領域に、カバー側ベース膜71が設けられている。
第1ウエハ61の一方の面に、保持溝38及びミラー42を形成するところまでは、第1実施形態の場合と同じであるが(図6参照)、第2実施形態では、保持溝・ミラー形成工程の後、図16に示したように、第1ウエハ61の他方の面に、導体パターン52を形成する。
この後、図18に示したように、第1ウエハ61の他方の面に、光電変換素子30及びICチップ32を例えばフリップチップ実装によって実装する(実装工程)。
次に、図20に示すように、第2ウエハ76の一方の面に、カバー側ベース膜71及び半田吸着膜72を形成する(成膜工程)。カバー側ベース膜71及び半田吸着膜72は、例えば、形成すべき領域以外をマスクにて覆ってから、無電解めっき及び電解めっきを行うことによって、又は、物理蒸着や化学蒸着を行うことによって形成することができる。
この後、不活性ガス雰囲気下にて、光電変換素子30及びICチップ32が実装された第1ウエハ61に、半田が付与された第2ウエハ76を重ねて加熱し、第1ウエハ61と第2ウエハ76を半田によって接合する(接合工程)。この接合の際、半田が半田層74を形成する。
最後に、得られた半完成品の保持溝38に光ファイバー23の先端部を配置してから、半完成品の基板38に接着剤を用いて補強部材40を接着し、光電変換モジュール64が完成する。
また、導電部材66が凹んでいるため、導電部材66と接続部50との接触面積が大きく、接続強度が大きい。このため、この光電変換モジュール64は第2マザー基板20に強固に固定され、携帯電話10は高い信頼性を有する。
特に、上述した一実施形態の光電変換モジュール64の製造方法によれば、スルーホール78に対しめっきを行うことで、導電部材36,66が容易に形成される。
以下、第3実施形態について、図22を参照して説明する。
第3実施形態は、光電変換モジュール64の基板26側が、第2マザー基板20に固定されている点においてのみ第2実施形態と異なる。この場合、第2マザー基板20には、補強部材40を受け入れる凹み80として、孔、切欠又はU溝等が設けられる。
第3実施形態の場合、第2実施形態と同様の効果を得ることができる。
以下、第4実施形態の光電変換モジュール82について、図23を参照して説明する。
上述した第2実施形態の光電変換モジュール64では、実装面の端において、導体パターン52が導電部材36に接続されていたが、光電変換モジュール82のように、導体パターン52が、他の経路にて導電部材36に接続されていてもよい。具体的には、他の経路として、基板26にスルーホールを設け、スルーホールに充填されたスルーホール導体84と、基板26の背面に設けられた他の導体パターン86とを設けてもよい。このスルーホール、スルーホール導体84及び導体パターン86は、実装工程の前に形成される。
第4実施形態の場合、第2実施形態と同様の効果を得ることができる。
以下、第5実施形態の光電変換モジュール88について、図24を参照して説明する。
上述した第2実施形態の光電変換モジュール64では、好ましい態様として、光ファイバー23の先端部が基板26の背面の保持溝38に固定されていたが、他の固定手段によって固定されていてもよい。
例えば、光電変換モジュール88のように、光電変換素子30の光軸と光ファイバー23の光軸とが一致するように、基板26の背面に対し垂直に光ファイバー23の先端部を固定してもよい。
第5実施形態の場合、第2実施形態と同様の効果を得ることができる。
以下、第6実施形態の光電変換モジュール94について、図25を参照して説明する。
上述した第2実施形態の光電変換モジュール64では、好ましい態様として、カバー部材65の側面にも凹部が形成され、導電部材66がカバー部材65の凹部を覆っていたが、光電変換モジュール94のように、カバー部材65側の凹部を省略し、基板26の側面の凹部の表面にのみ、導電部材36を設けてもよい。
第6実施形態の場合、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
最後に、本発明の光電変換モジュールを備える光配線は、携帯電話以外の情報処理機器、ネットワーク機器、デジタルAV機器、及び、家電製品に適用可能である。より詳しくは、光電変換モジュールは、例えば、パーソナルコンピュータ、スイッチングハブ、及び、HDMIケーブル等にも適用可能である。
22 光配線
23 光ファイバー
24 光電変換モジュール
26 基板
30 光電変換素子
32 ICチップ
36 導電部材(電極)
38 保持溝
40 補強部材
52 導体パターン
65 カバー部材
66 導電部材(第2電極)
67 絶縁層
70 収容室(気密室)
72 半田吸着膜
74 半田層
Claims (8)
- 透光性を有するとともに実装面を有する基板と、
前記基板の実装面に実装された光電変換素子及びICチップと、
前記基板の側面に設けられ、前記ICチップと電気的に接続される、前記側面の他の部分よりも凹んだ凹形状を有する電極と、
を備える光電変換モジュール。 - 前記電極は、前記基板へと分割される第1ウエハに形成されたスルーホールの壁面に導電性膜を付与した後、前記スルーホールを通る位置にて前記第1ウエハを分割し、前記導電性膜を分割することにより形成された、
請求項1に記載の光電変換モジュール。 - 前記導電性膜は、金めっき膜を表層に含む、
請求項2に記載の光電変換モジュール。 - 前記基板に固定され、前記基板と協働して前記光電変換素子を収容する気密室を形成するカバー部材と、
前記カバー部材の側面に設けられ、前記電極に連なるとともに前記カバー部材の側面の他の部分よりも凹んだ凹形状を有する第2電極と、
を更に備える請求項1乃至3の何れか一項に記載の光電変換モジュール。 - 前記基板は、前記実装面とは反対側の背面に保持溝を有し、
前記保持溝に光ファイバーの先端部が固定され、
前記光ファイバーと前記光学変換素子とを光学的に結合するミラーと、
前記基板の背面に固定され、前記基板とともに前記光ファイバーの先端部を保持する補強部材とを更に備える、
請求項1乃至4の何れか一項に記載の光電変換モジュール。 - 前記補強部材は、前記基板に固定される面の面積が前記基板の背面の面積よりも小さい、
請求項5に記載の光電変換モジュール。 - 透光性を有するとともに実装面を有する基板へと分割される第1ウエハを準備する準備工程と、
前記第1ウエハに、前記基板の各々に対応して光電変換素子及びICチップを実装する実装工程と、
前記第1ウエハが分割される位置に、前記第1ウエハを貫通するスルーホールを形成する穿孔工程と、
前記スルーホールの壁面にめっきを施すめっき工程と、
前記めっき工程の後に、前記第1ウエハを前記基板へと分割する分割工程と、
を備える光電変換モジュールの製造方法。 - 半田からなる半田層を介して前記基板に固定され、前記基板と協働して前記光電変換素子及び前記ICチップを収容する気密室を形成するカバー部材へと分割される第2ウエハを準備する第2準備工程と、
前記実装工程の後であって前記穿孔工程の前に、前記第1ウエハに、前記半田層を介して、前記第2ウエハを固定する接合工程とを更に備え、
前記穿孔工程において、前記スルーホールとして、前記第1ウエハ及び前記第2ウエハが分割される位置に、前記第1ウエハ及び前記第2ウエハを貫通するスルーホールを形成し、
前記分割工程において、前記第1ウエハ及び前記第2ウエハを前記基板及び前記カバー部材へと分割する、
請求項7に記載の光電変換モジュールの製造方法。
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