JP2012154902A - 検査装置、及び検査方法 - Google Patents
検査装置、及び検査方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012154902A JP2012154902A JP2011016809A JP2011016809A JP2012154902A JP 2012154902 A JP2012154902 A JP 2012154902A JP 2011016809 A JP2011016809 A JP 2011016809A JP 2011016809 A JP2011016809 A JP 2011016809A JP 2012154902 A JP2012154902 A JP 2012154902A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inspection
- optical system
- mirror
- concave mirror
- schwarzschild
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims abstract description 112
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 76
- 238000012552 review Methods 0.000 abstract description 21
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 abstract description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 33
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000000671 immersion lithography Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000013041 optical simulation Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000010454 slate Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000000233 ultraviolet lithography Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明の一態様にかかる検査装置は、EUVマスクに用いられる検査対象を検査する検査装置であって、凸面鏡15bと凹面鏡15aの2枚のミラーを有するシュバルツシルト拡大光学系15と、検査対象の拡大投影像を撮像するTDIカメラ19と、を備え、シュバルツシルト拡大光学系15による検査対象の拡大像が、単一の凹面鏡18によって、TDIカメラ19上に拡大投影されているものである。
【選択図】図1
Description
本発明の実施の形態1にかかる検査装置について、図1を用いて説明する。図1は、ブランクの欠陥を検出することを主目的としたEUVマスク検査装置100の断面構造を示した構成図である。EUVマスク検査装置100は、EUV光源11と、多層膜平面鏡12と、シュバルツシルト拡大光学系15と、平面鏡17、凹面鏡18と、TDIカメラ19と、を備えている。シュバルツシルト拡大光学系15は穴付き凹面鏡15aと凸面鏡15bで構成される。なお、図1では、説明の明確化のため、ブランク14の面と垂直な方向をZ方向として、ブランク14の面と平行な面において、紙面と平行な方向をY方向として示している。Z方向は、シュバルツシルト拡大光学系15の光軸と平行になっている。また、後述するように、ブランク14の面と平行な面のうち、Y方向と垂直な方向と平行な方向をX方向とする。
実施の形態2にかかる検査装置について、図5を用いて説明する。図5は、EUVマスク検査装置100と同様、ブランクの欠陥検出するEUVマスク検査装置200を示した構成図である。EUVマスク検査装置200では、ほとんどの構成はEUVマスク検査装置100である。よって、実施の形態1と重複する内容については、適宜説明を省略する。
次に、パターン付きEUVマスクのパターン検査を行うためのEUVマスク検査装置300に関して図6を用いて説明する。このEUVマスク検査装置300では、EUV光源31から取り出されたEUV光EUV31は、平面鏡32に当たる。平面鏡32で反射したEUV光EUV32は、斜め下方に進み、パターン付きEUVマスク34の検査領域を照射する。EUV光EUV32がEUVマスク34に当たって反射した光S31a、S32aは、シュバルツシルト拡大光学系35を構成する凹面鏡35aと凸面鏡35bで反射する。そして、シュバルツシルト拡大光学系35からの光S31b、S32bは、上方に進み、凹面鏡38に当たる。シュバルツシルト拡大光学系35から、凹面鏡38に向かう光S31b、S32bはその途中で一度、焦点Fを形成してから、凹面鏡38に当たる。この焦点Fは、倍率約26倍のシュバルツシルト拡大光学系35における拡大像が形成される位置である。本実施形態では、ここにはCCDカメラ等を配置していないため、ここは空間像が形成されるだけである。凹面鏡38で反射した光S31c、S32cはTDIカメラ39のセンサー面で集光する。すなわち、EUVマスク34上のパターンがTDIカメラ39のセンサー面に拡大投影されるようになっている。また、この凹面鏡38によって、焦点Fでの空間拡大像がさらに約19倍に拡大される。これによって、シュバルツシルト拡大光学系35と凹面鏡38との両方によって、EUVマスク34上のパターンが500倍に拡大されて、TDIカメラ39に投影される。
2 多層膜平面鏡
3 ステージ
4 ブランク
5 シュバルツシルト拡大光学系
5a 穴付き凹面鏡
5b 凸面鏡
9 CCD
11 EUV光源
12 多層膜平面鏡
13 ステージ
14 ブランク
15 シュバルツシルト拡大光学系
15a 穴付き凹面鏡
15b 凸面鏡
17 平面鏡
18 凹面鏡
19 TDIカメラ
21 EUV光源
22 多層膜平面鏡
23 ステージ
24 ブランク
25 シュバルツシルト拡大光学系
25a 穴付き凹面鏡
25b 凸面鏡
27 平面鏡
28 凹面鏡
29a TDIカメラ
29b CCDカメラ
31 EUV光源
32 多層膜平面鏡
33 ステージ
34 パターン付きEUVマスク
35 シュバルツシルト拡大光学系
35a 穴付き凹面鏡
35b 凸面鏡
38 凹面鏡
39 TDIカメラ
51 基板
52 多層膜
53 保護膜
54 吸収体
100 検査装置
200 検査装置
300 検査装置
900 検査装置
Claims (5)
- EUVマスクに用いられる検査対象を検査する検査装置であって、
凸面鏡と凹面鏡の2枚のミラーを有するシュバルツシルト拡大光学系と、
前記検査対象の拡大投影像を撮像する光検出器と、を備え、
前記シュバルツシルト拡大光学系による前記検査対象の拡大像が、単一の凹面鏡によって、前記光検出器上に拡大投影されている検査装置。 - 前記単一の凹面鏡と前記シュバルツシルト拡大光学系の間の光路中に、移動可能に設けられた平面鏡をさらに備える請求項1に記載の検査装置。
- 前記単一の凹面鏡が球面鏡であることを特徴とする請求項1、又は2に記載の検査装置。
- 前記検査対象がパターン付きのEUVマスクであり、
EUVマスクのパターン検査において、比較検査を用いることを特徴とする請求項1、2又は3に記載の検査装置。 - EUVマスクに用いられる検査対象を検査する検査方法であって、
凸面鏡と凹面鏡の2枚のミラーを有するシュバルツシルト拡大光学系によって、前記検査対象の拡大像を生成するステップと、
前記シュバルツシルト拡大光学系による前記検査対象の拡大像を、単一の凹面鏡によって、さらに拡大して、光検出器上に投影するステップと、を備える検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011016809A JP5008012B2 (ja) | 2011-01-28 | 2011-01-28 | 検査装置、及び検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011016809A JP5008012B2 (ja) | 2011-01-28 | 2011-01-28 | 検査装置、及び検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012154902A true JP2012154902A (ja) | 2012-08-16 |
JP5008012B2 JP5008012B2 (ja) | 2012-08-22 |
Family
ID=46836758
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011016809A Active JP5008012B2 (ja) | 2011-01-28 | 2011-01-28 | 検査装置、及び検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5008012B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014153326A (ja) * | 2013-02-13 | 2014-08-25 | Lasertec Corp | 検査装置、及び検査方法 |
KR20150122086A (ko) * | 2014-04-21 | 2015-10-30 | (주)링크옵틱스 | 녹조 및 적조 발생 원격 측정 장치 |
JP2016511440A (ja) * | 2013-03-14 | 2016-04-14 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マスク検査システムのための照明光学ユニット及びそのような照明光学ユニットを有するマスク検査システム |
CN107407644A (zh) * | 2015-03-04 | 2017-11-28 | 科磊股份有限公司 | 全反射性晶片缺陷检验及重检系统及方法 |
EP3961301A1 (en) | 2020-08-27 | 2022-03-02 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Substrate defect inspection method and substrate defect inspection apparatus |
JP2022535399A (ja) * | 2019-06-03 | 2022-08-08 | ケーエルエー コーポレイション | 光学システム内の光の1つ又は複数の特性の決定 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10156664B2 (en) | 2016-02-12 | 2018-12-18 | Lasertec Corporation | Mask inspection apparatus and mask inspection method |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57190969A (en) * | 1981-05-20 | 1982-11-24 | Ricoh Co Ltd | Converter of magnification ratio of variable magnification copying machine |
JPS63163319A (ja) * | 1986-12-17 | 1988-07-06 | エスヴィージー・リトグラフィー・システムズ・インコーポレイテッド | 光学系 |
JPH03148044A (ja) * | 1989-11-03 | 1991-06-24 | Horiba Ltd | 顕微分光測定装置 |
JPH05188298A (ja) * | 1991-08-05 | 1993-07-30 | Nikon Corp | 反射屈折縮小投影光学系 |
JPH06230287A (ja) * | 1993-02-03 | 1994-08-19 | Nikon Corp | 反射屈折光学系 |
JP2004006908A (ja) * | 1991-07-19 | 2004-01-08 | At & T Corp | 走査リングフィールド縮小投影装置 |
JP2010079257A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-04-08 | Tohoku Univ | 反射型投影光学装置 |
JP2010139593A (ja) * | 2008-12-10 | 2010-06-24 | Lasertec Corp | Euvマスク検査装置 |
-
2011
- 2011-01-28 JP JP2011016809A patent/JP5008012B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57190969A (en) * | 1981-05-20 | 1982-11-24 | Ricoh Co Ltd | Converter of magnification ratio of variable magnification copying machine |
JPS63163319A (ja) * | 1986-12-17 | 1988-07-06 | エスヴィージー・リトグラフィー・システムズ・インコーポレイテッド | 光学系 |
JPH03148044A (ja) * | 1989-11-03 | 1991-06-24 | Horiba Ltd | 顕微分光測定装置 |
JP2004006908A (ja) * | 1991-07-19 | 2004-01-08 | At & T Corp | 走査リングフィールド縮小投影装置 |
JPH05188298A (ja) * | 1991-08-05 | 1993-07-30 | Nikon Corp | 反射屈折縮小投影光学系 |
JPH06230287A (ja) * | 1993-02-03 | 1994-08-19 | Nikon Corp | 反射屈折光学系 |
JP2010079257A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-04-08 | Tohoku Univ | 反射型投影光学装置 |
JP2010139593A (ja) * | 2008-12-10 | 2010-06-24 | Lasertec Corp | Euvマスク検査装置 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014153326A (ja) * | 2013-02-13 | 2014-08-25 | Lasertec Corp | 検査装置、及び検査方法 |
US10042248B2 (en) | 2013-03-14 | 2018-08-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Illumination optical unit for a mask inspection system and mask inspection system with such an illumination optical unit |
JP2016511440A (ja) * | 2013-03-14 | 2016-04-14 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マスク検査システムのための照明光学ユニット及びそのような照明光学ユニットを有するマスク検査システム |
KR101663163B1 (ko) * | 2014-04-21 | 2016-10-07 | (주)링크옵틱스 | 녹조 및 적조 발생 원격 측정 장치 |
KR20150122086A (ko) * | 2014-04-21 | 2015-10-30 | (주)링크옵틱스 | 녹조 및 적조 발생 원격 측정 장치 |
CN107407644A (zh) * | 2015-03-04 | 2017-11-28 | 科磊股份有限公司 | 全反射性晶片缺陷检验及重检系统及方法 |
EP3213342A4 (en) * | 2015-03-04 | 2018-06-06 | KLA - Tencor Corporation | All reflective wafer defect inspection and review systems and methods |
US10309907B2 (en) | 2015-03-04 | 2019-06-04 | Kla-Tencor Corporation | All reflective wafer defect inspection and review systems and methods |
JP2022535399A (ja) * | 2019-06-03 | 2022-08-08 | ケーエルエー コーポレイション | 光学システム内の光の1つ又は複数の特性の決定 |
JP7410982B2 (ja) | 2019-06-03 | 2024-01-10 | ケーエルエー コーポレイション | 光学システム内の光の1つ又は複数の特性の決定 |
EP3961301A1 (en) | 2020-08-27 | 2022-03-02 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Substrate defect inspection method and substrate defect inspection apparatus |
KR20220027749A (ko) | 2020-08-27 | 2022-03-08 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 기판의 결함 검사 방법 및 결함 검사 장치 |
US11624712B2 (en) | 2020-08-27 | 2023-04-11 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Substrate defect inspection method and substrate defect inspection apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5008012B2 (ja) | 2012-08-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5008012B2 (ja) | 検査装置、及び検査方法 | |
US9976966B2 (en) | Defect inspection method and its device | |
TWI557513B (zh) | 疊對測量裝置及使用該疊對測量裝置之微影裝置及器件製造方法 | |
JP5723670B2 (ja) | 光学システム、検査システムおよび製造方法 | |
JP6211270B2 (ja) | 極紫外線マスクブランクの欠陥検出のための検査システム及び方法 | |
TWI402498B (zh) | 影像形成方法及影像形成裝置 | |
JP2017530394A (ja) | 高開口数対物レンズシステム | |
JP6004126B1 (ja) | 検査装置、及びそのフォーカス調整方法 | |
JP6773894B2 (ja) | 補正を導き出すための方法及び装置、構造の特性を決定するための方法及び装置、デバイス製造方法 | |
TW201525620A (zh) | 帶有簡化光學元件的極紫外線(euv)基板檢查系統及其製造方法 | |
TW201100947A (en) | Mask inspection with fourier filtering and image compare | |
JP4701460B2 (ja) | 検査装置、検査方法、及びパターン基板の製造方法 | |
JP5847841B2 (ja) | コヒーレンス低減のための方法及びシステム | |
JP5787261B2 (ja) | 検査装置、及び検査方法 | |
JP2012002676A (ja) | マスク欠陥検査装置およびマスク欠陥検査方法 | |
JP2014235365A (ja) | フォーカス制御方法、及び光学装置 | |
JP2011169743A (ja) | 検査装置および検査方法 | |
JP4444984B2 (ja) | レチクル欠陥検査装置およびこれを用いた検査方法 | |
JP2012127856A (ja) | パターン検査装置およびパターン検査方法 | |
JP4761588B1 (ja) | Euvマスク検査装置 | |
TW200914817A (en) | Pattern defect inspecting method and pattern defect inspecting apparatus | |
JP2017187547A (ja) | Euvマスク検査装置、及びフォーカス調整方法 | |
JP2021124446A (ja) | 検査装置及び検査方法 | |
JP4822471B1 (ja) | Euvマスク検査装置及びeuvマスク検査方法 | |
KR20190101415A (ko) | 다중-이미지 입자 검출 시스템 및 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120522 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5008012 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150608 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |