JP2014153326A - 検査装置、及び検査方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の一態様にかかる検査装置は、EUVマスクに用いられる検査対象を検査する検査装置であって、凸面鏡12と穴付き凹面鏡13とを有するシュバルツシルト光学系10と、検査対象で反射した反射光を、シュバルツシルト光学系10を介して検出する検出器14と、凸面鏡12の前記検査対象側に配置され、暗視野照明を行うため、照明光を前記EUVマスクの方向に反射する落とし込みミラー11と、を備え、照明光L1の一部が明視野照明光となるように、検査対象に対する照明光L1の入射角度を変える手段と、を備えたものである。
【選択図】図1
Description
本発明の実施の形態1にかかる検査装置について、図1を用いて説明する。図1は、ブランクの欠陥を検出することを主目的としたEUVマスクの検査装置100の全体構成を示した図である。検査装置100は、シュバルツシルト光学系10と、落とし込みミラー11と、検出器14とを備えている。シュバルツシルト光学系10は、凸面鏡12と穴付き凹面鏡13とを備えている。
落とし込みミラー11を駆動する駆動機構は、照明光L1の一部が明視野照明光となるように、マスク21に対する前記照明光の入射角度を変える手段となる。ここで、図2に落とし込みミラー11を移動させる駆動機構の構成例を示す。図2は、駆動機構50の構成を模式的に示す斜視図である。ここでは、駆動機構50が3軸+1軸並進アクチュエータを備えている。3本の伸縮するアクチュエータ52で落とし込みミラー11の角度を調整して、位置はアクチュエータ57によって1自由度のみ持たせている。
本実施の形態にかかる検査装置100について、図4を用いて説明する。本実施の形態では、実施の形態1の駆動機構に変えて、振込ミラー15が設けられている。なお、シュバルツシルト光学系10などの基本的な構成については、実施の形態1と同様であるため説明を省略する。
本実施の形態に係る検査装置100について、図5を用いて説明する。図5は、検査装置100の全体構成を示す図である。本実施の形態では、図1の構成に加えて、照明光学系30の構成が設けられている。なお、照明光学系30以外の構成については、実施の形態1と同様であるため、説明を省略する。実施の形態3では、照明光学系30にピンホール32を設けることで、照明立体角を制御している。
本実施の形態に係る検査装置100について、図6を用いて説明する。図6は、検査装置100の全体構成をした図である。実施の形態4では、実施の形態3のピンホール32に代えて、遮光板34を用いている。なお、実施の形態1、3と同様の構成については、説明を省略する。
11 落とし込みミラー
12 凸面鏡
13 穴付き凹面鏡
14 検出器
15 振込ミラー
21 マスク
22 凸欠陥
23 凹欠陥
26 位相欠陥
30 照明光学系
31 凹面鏡
32 ピンホール
33 凹面鏡
34 遮光板
50 駆動機構
51 ベースプレート
52 アクチュエータ
55 アーム
56 フレーム
57 アクチュエータ
L1 照明光
L2 散乱光
Claims (20)
- EUVマスクに用いられる検査対象を検査する検査装置であって、
凸面鏡と凹面鏡とを有するシュバルツシルト光学系と、
前記検査対象で反射した反射光を、前記シュバルツシルト光学系を介して検出する検出器と、
前記凸面鏡の前記検査対象側に配置され、暗視野照明を行うため、照明光を前記検査対象の方向に反射する落とし込みミラーと、を備え、
前記照明光の少なくとも一部が明視野照明光となるように、前記検査対象に対する前記照明光の入射角度を変える手段と、を備えた検査装置。 - 前記手段が前記落とし込みミラーの反射面の角度を変える駆動機構を有している請求項1に記載の検査装置。
- 前記手段が前記落とし込みミラーの前段に挿脱可能に設けられた振込ミラーである請求項1に記載の検査装置。
- 前記照明光を前記落とし込みミラーの方向に導く照明光学系をさらに備え、
前記照明光学系には、前記照明光の通過を空間的に制限する遮光部材が配置されている請求項1〜3のいずれか1項に記載の検査装置。 - 前記照明光学系の光軸上において前記照明光を通過させる開口部が前記遮光部材に形成され、
前記遮光部材が、前記照明光学系の光軸に沿って移動可能に配置されている請求項4に記載の検査装置。 - 前記遮光部材が前記凸面鏡と共役な位置に配置され、前記照明光学系の光軸上の照明光を通過させる請求項4、又は5に記載の検査装置。
- 前記照明光学系に含まれる凹面鏡の近傍に配置され、前記照明光学系の光軸と垂直な面において、前記遮光部材が照明光のスポットの途中まで挿入されている請求項4〜6のいずれか1項に記載の検査装置。
- 前記照明光学系の光軸と垂直な面において、前記遮光部材の挿入位置を変えることができる請求項7に記載の検査装置。
- 検出された欠陥のサイズに応じて、前記検査対象に形成された多層反射膜における位相欠陥の成長方向を判定する請求項1〜8のいずれか1項に記載の検査装置。
- 前記検出器で取得された画像の非対称性の向きに応じて、欠陥の凹凸判定を行う請求項1〜9のいずれか1項に記載の検査装置。
- 凸面鏡と凹面鏡とを有するシュバルツシルト光学系を用いて、EUVマスクに用いられる検査対象を検査する検査方法であって、
暗視野照明を行うため、前記凸面鏡の前記検査対象側に配置された落とし込みミラーによって、照明光を前記検査対象の方向に反射するステップと、
前記検査対象で散乱した散乱光を、前記シュバルツシルト光学系を介して検出するステップと、
前記照明光の少なくとも一部が明視野照明光となるように、前記検査対象に対する前記照明光の入射角度を変えるステップと、を備えた検査方法。 - 前記落とし込みミラーの反射面の角度を変えることで、前記入射角度を変える請求項9に記載の検査方法。
- 前記落とし込みミラーの前段に振り込みミラーを挿入することで、前記入射角度を変える請求項9に記載の検査方法。
- 前記照明光を前記落とし込みミラーの方向に導く照明光学系には、遮光部材が配置され、
前記遮光部材は、前記照明光の通過を空間的に制限する請求項11〜13のいずれか1項に記載の検査方法。 - 前記照明光学系の光軸上において前記照明光を通過させる開口部が前記遮光部材に形成され、
前記遮光部材が、前記照明光学系の光軸に沿って移動させる請求項14に記載の検査方法。 - 前記遮光部材が前記凸面鏡と共役な位置に配置され、前記照明光学系の光軸上の照明光を通過させる請求項14、又は15に記載の検査方法。
- 前記照明光学系に含まれる凹面鏡の近傍に配置され、前記照明光学系の光軸と垂直な面において、前記遮光部材が照明光のスポットの途中まで挿入されている請求項14〜16のいずれか1項に記載の検査方法。
- 前記照明光学系の光軸と垂直な面において、前記遮光部材の挿入位置を変える請求項17に記載の検査方法。
- 検出された欠陥のサイズに応じて、前記検査対象に形成された多層反射膜における位相欠陥の成長方向を判定する請求項11〜18のいずれか1項に記載の検査方法。
- 取得された検査対象の画像の非対称性の向きに応じて、欠陥の凹凸判定を行う請求項11〜19のいずれか1項に記載の検査方法。
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