JP2012151205A - 低周波磁界波シールド性を有する射出成形体とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(A)メジアン径d50が5〜100μmで、アスペクト比が10以上である扁平軟磁性粉末5〜50体積%、(B)熱可塑性樹脂95〜50体積%を含有する熱可塑性樹脂組成物からなる低周波磁界波シールド性を有する平板状の射出成形体であって、前記(A)成分の扁平軟磁性粉末が、厚み方向と垂直な方向に配向された状態で含有されており、前記平板状の射出成形体が、縦120mm、横120mm及び厚み2mmの平板であるときの周波数0.1〜100MHzの範囲の磁界波シールド効果が8dB以上である低周波磁界波シールド性を有する平板状の射出成形体。
【選択図】なし
Description
しかし、この発明で製造された成形体の電磁波シールド性は、800MHzにおける電磁波シールド性を基準としており(段落番号0060)、実施例においては100〜1000MHzの電磁波シールド性を評価した(段落番号63)ことが記載されているが、結果を示す表1からは、前記した範囲における電磁波シールド性を確認することができない。
軟磁性粉末としてケイ素鋼フレーク(Fe−6.0Si;粒径約30μm、アスペクト比約3.0)を40体積%含有する試料1のシールド効果(段落番号0031及び図2)は、400〜100MHzの範囲で高いことが示されており、200MHz以下の低周波領域における電磁波シールド効果は低くなっている。
請求項5には、射出圧縮成形機を用いて成形することで、扁平金属粉を一定方向に配向させる発明が記載されている。請求項5の発明の詳細については、段落番号0027において「本発明の軟磁性樹脂組成物は射出圧縮成形機を用いて成形することで、軟磁性金属扁平粉末の配向性を高め、透磁率を向上させることができる。射出圧縮成形機は通常の射出成形機に圧縮機能を持たせたものであり、金型を閉じた状態から一定距離開いてから溶融した樹脂組成物を注入し、金型を閉じて10〜100MPaの圧力で樹脂組成物を圧縮するものである。この圧縮により、軟磁性金属扁平粉末を圧縮方向に垂直に、物理的に配向させることができる。」と記載されている。
この段落番号0027の記載から明らかなとおり、請求項5の発明は、射出成形操作自体で軟磁性金属扁平粉末を配向させるものではなく、金型に溶融した軟磁性樹脂組成物を注入した後、金型を閉じて10〜100MPaの圧力で樹脂組成物を圧縮することにより配向させるものである。
(A)メジアン径d50が5〜100μmで、アスペクト比が10以上である扁平軟磁性粉末5〜50体積%、
(B)熱可塑性樹脂95〜50体積%を含有する熱可塑性樹脂組成物からなる低周波磁界波シールド性を有する平板状の射出成形体であって、
前記(A)成分の扁平軟磁性粉末が、厚み方向と垂直な方向に配向された状態で含有されており、
前記平板状の射出成形体が、縦120mm、横120mm及び厚み2mmの平板であるときの周波数0.1〜100MHzの範囲の磁界波シールド効果が8dB以上である、低周波磁界波シールド性を有する平板状の射出成形体を提供する。
上記の低周波磁界波シールド性を有する平板状の射出成形体の製造方法であって、
熱可塑性樹脂組成物を射出成形するとき、射出速度を制御して樹脂のゲート通過線速度が100〜5,000cm/secの範囲になるように射出成形する、低周波磁界波シールド性を有する平板状の射出成形体の製造方法を提供する。
本発明の低周波磁界波シールド性を有する平板状の射出成形体を構成する、(A)成分と(B)成分を含む熱可塑性樹脂組成物について説明する。
メジアン径d50は、10〜80μmが好ましく、20〜60μmがより好ましい。
アスペクト比は、10〜70が好ましく、20〜50がより好ましい。
脂肪族ポリアミドは、ポリアミド6、ポリアミド46、ポリアミド66、ポリアミド11、ポリアミド12、ポリアミド1212、ポリアミド1010、ポリアミド1012、ポリアミド1112、ポリアミド610、ポリアミド612、ポリアミド69、ポリアミド810等を使用することができる。
芳香族ポリアミドは、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジアミン又は脂肪族ジカルボン酸と芳香族ジアミンから得られるもの、例えば、ポリアミドMXD(メタキシリレンジアミンとアジピン酸)、ポリアミド6T(ヘキサメチレンジアミンとテレフタル酸)、ポリアミド6I(ヘキサメチレンジアミンとイソフタル酸)、ポリアミド9T(ノナンジアミンとテレフタル酸)、ポリアミドM5T(メチルペンタジアミンとテレフタル酸)、ポリアミド10T(デカメチレンジアミンとテレフタル酸)等を使用することができる。
樹脂添加剤としては、各種有機又は無機充填材((A)成分の扁平磁性粉末は除く)、難燃剤、発泡剤、熱安定剤、光安定剤、酸化防止剤、抗菌剤、結晶核剤、着色剤、可塑剤等を挙げることができる。
本発明の低周波磁界波シールド性を有する平板状の射出成形体は、射出成形体中において、(A)成分の扁平軟磁性粉末が厚み方向と垂直な方向に配向された状態で含有されている。
厚み方向と垂直な方向は、射出成形時のMD方向であり、面方向(面に沿った方向)である。
即ち、本発明の平板状の射出成形体は、縦120mm、横120mm及び厚み2mmの平板(均一厚みである)であるときの周波数0.1〜100MHzの範囲の磁界波シールド効果が8dB以上であり、好ましくは10dB以上である。
電気絶縁性を有するようにするときは、(A)成分の扁平軟磁性粉末に対して絶縁性材料で表面処理する方法、本発明の平板状の射出成形体表面に絶縁性材料からなる層(絶縁層)を形成する方法を適用することができる。
絶縁層は、平板状の射出成形体表面に樹脂塗料を塗布して絶縁性塗膜を形成する方法、樹脂フィルムや樹脂シートを貼り付ける(接着、融着、溶着)方法、二色成形法により本発明の平板状射出成形体に絶縁性樹脂層を積層する方法等を適用することができる。
本発明の低周波磁界波シールド性を有する平板状の射出成形体の製造方法について説明する。
本発明の平板状の射出成形体を製造するとき、射出速度を制御して樹脂のゲート通過線速度が100〜5,000cm/secの範囲になるように射出成形する。
スクリュー断面積が0.5倍又は2倍で、ゲートサイズが同じ場合には、射出速度を2.8〜140 cm/s又は0.7〜35cm/sの範囲に設定すればよい。
スクリュー断面積が同じで、ゲートサイズが0.1倍又は2倍である場合には、射出速度を0.14〜7cm/s又は2.8〜140cm/sの範囲に設定すればよい。
このようにして樹脂のゲート通過線速度を所定範囲になるように調整することにより、射出成形体中において、(A)成分の扁平軟磁性粉末を厚み方向と垂直な方向に配向させることができ、その結果、上記した所定のシールド効果を得ることができる。
ゲート通過線速度が低い場合は、磁性粉末の配向が不十分で所望のシールド効果が得られない。したがって、磁性粉末を成形体中で十分配向させるには、ゲート通過線速度ができるだけ高いことが望ましいが、高すぎる場合はせん断熱による樹脂焼けが生じ成形体の力学的物性や外観を悪くする。
本発明の製造方法は、上記のように射出成形操作のみで(A)成分の扁平軟磁性粉末を厚み方向と垂直な方向に配向させることができるものであり、特許文献5の発明に記載されている射出成形法(金型に溶融樹脂組成物を注入した後、金型と閉じた状態で圧縮して配向させる方法)とは全く異なるものである。
本発明の低周波磁界波シールド性を有する平板状の射出成形体は、低周波磁界波を発生する各種の電気・電子機器のハウジング(筐体)用として好適である。
磁性粉のメジアン径(d50)は、レーザー回折型粒度分布計(島津製作所(株)製、SALD−2000J)を用いて測定した。また、アスペクト比は、前記メジアン径と平均厚みの比(メジアン径/平均厚み)とした。平均厚みは、扁平粉体を走査型電子顕微鏡で観察し、視野内で厚みを確認できるもの20個程度について厚みを測定し、それらの平均値として求めた。
射出成形における「ゲート通過線速度」は、「射出率」と「ゲート最小断面積」の比(射出率/ゲート最小断面積)として求めた。「射出率」は「射出速度」と「スクリュー断面積」の積(射出速度×スクリュー断面積)として算出できる。したがって、「射出速度」を制御することによって、「ゲート通過線速度」を制御することができる。
ANRITSU製のMA8602B測定器を用いて、KEC法により近傍界の磁界シールド特性を周波数0.1MHz〜100MHzの範囲で測定した。数値が大きいほど、電磁波シールド性が良いことを示している。
表1に示す(A)成分と(B)成分を二軸押出機(HK25D、パーカーコーポレーション製)を用いて混練したものをペレタイザーに供給して、熱可塑性樹脂組成物のペレットを得た。二軸押出機による混練条件は、シリンダー温度250℃、スクリュー回転数200rpm、フィード量6kg/hであった。
射出成形機:住友重機工業社製、型式:SH100−NIV
射出速度=8.5cm/s(実施例1)、11.9cm/s(実施例2)
スクリュー断面積=10.2cm2
ゲートサイズ=2mm×7mm(最小断面積=0.14cm2)
射出率=86.7cm3/s(実施例1)、121.4cm3/s(実施例2)
PA1:ポリアミド6,DSMの品名ノバミッド1005PJ
Claims (7)
- (A)メジアン径d50が5〜100μmで、アスペクト比が10以上である扁平軟磁性粉末5〜50体積%、
(B)熱可塑性樹脂95〜50体積%を含有する熱可塑性樹脂組成物からなる低周波磁界波シールド性を有する平板状の射出成形体であって、
前記(A)成分の扁平軟磁性粉末が、厚み方向と垂直な方向に配向された状態で含有されており、
前記平板状の射出成形体が、縦120mm、横120mm及び厚み2mmの平板であるときの周波数0.1〜100MHzの範囲の磁界波シールド効果が8dB以上である、低周波磁界波シールド性を有する平板状の射出成形体。 - 前記熱可塑性樹脂組成物中、(A)成分の含有量が5〜35体積%であり、(B)成分の熱可塑性樹脂の含有量が65〜95体積%である、請求項1記載の低周波磁界波シールド性を有する平板状の射出成形体。
- 厚みが5mm以下で、密度が1〜3g/cm3である、請求項1又は2記載の低周波磁界波シールド性を有する射出成形体。
- (A)成分の扁平軟磁性粉末がセンダスト合金(Fe−Si−Al)からなるものである、請求項1〜3のいずれか1項記載の低周波磁界波シールド性を有する平板状の射出成形体。
- (B)熱可塑性樹脂が、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、オレフィン系樹脂及びスチレン系樹脂から選ばれる1種又は2種以上のものである、請求項1〜4のいずれか1項記載の低周波磁界波シールド性を有する平板状の射出成形体。
- 請求項1〜5のいずれか1項記載の低周波磁界波シールド性を有する平板状の射出成形体の製造方法であって、
熱可塑性樹脂組成物を射出成形するとき、射出速度を制御して樹脂のゲート通過線速度が100〜5,000cm/secの範囲になるように射出成形する、低周波磁界波シールド性を有する平板状の射出成形体の製造方法。 - 前記ゲート通過線速度が500〜3,000cm/secの範囲になるように射出速度を制御して射出成形する、請求項6記載の低周波磁界波シールド性を有する平板状の射出成形体の製造方法。
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