JP2012141533A - ワイヤーグリッド偏光板の製造方法およびワイヤーグリッド偏光板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板1にゾルゲル膜2を塗布し、型3の構造を転写することでライン部4およびスペース部5を有するラインアンドスペース構造を形成し、スペース部5に、溶融した金属を埋め込んで埋め込み金属部8を形成する。溶融する金属は、融点が650℃以下であり、400〜700nmの波長における固化後の金属の平均消衰係数が5.0より大、または、平均消衰係数が4.5より大きくて平均屈折率が1未満である金属材料を選択することで、光学性能を向上させる。
【選択図】図1
Description
実施例1と同様の方法で、図1(e)において純Alの埋め込み金属部を形成した。ラインアンドスペース構造上に1gのAl塊を配置した後、ホットプレートを昇温した。ホットプレート指示温度が560℃でガラス基板が軟化を始めガラス吸着溝に沿って表面の変形が目視で観察された。そのためAlを溶融すること無く製造工程を中止した。
実施例7と同様の方法で、図1(e)においてAg(41.0原子%)+Sn(59.0原子%)の埋め込み金属部を形成した。金属塊は、450℃で溶融を開始した。ホットプレート温度が550℃でスペース部への金属の埋め込みを実施した。なお、埋め込んだ金属の光学定数を実施例1と同様に測定した結果、波長400〜700nmにおけるnとkはそれぞれ、0.664≦n≦1.27、nの平均値は0.929、2.83≦k≦5.50、kの平均値は4.23であった。それ以外の工程は同様に実施した。
実施例1と同様の方法で、図1(c)において用いたニッケル製の型3はライン幅31nm、スペース幅109nm、スペース深さ222nmの物を使用した。図1(d)において、型3を外して窒素雰囲気中650℃で30分間キュアを施した後、ライン部4およびスペース部5の繰り返し構造を有するラインアンドスペース転写基板を得た。得られたラインアンドスペース構造のライン幅は94nm、スペース幅は46nm、スペース深さは200nmであった。また、残膜部6は25nmであった。また、ゾルゲル膜を塗布した別基板で650℃30分キュア後の膜の屈折率を測定した結果、1.31であった。
実施例2と同様の方法で、図1(e)においてZn(16.0原子%)+Sn(84.0原子%)の埋め込み金属部を形成した。金属塊は、198℃で溶融を開始した。ホットプレート温度が300℃でスペース部への金属の埋め込みを実施した。埋め込んだ金属の光学定数を実施例1と同様に測定した結果、波長400〜700nmにおけるnとkはそれぞれ、0.912≦n≦1.97、nの平均値は1.39、3.54≦k≦6.24、kの平均値は4.96であった。それ以外の工程は同様に実施した。
実施例1と同様の方法で、図1(b)において、基板上にゾルゲル材料(ラサ工業社製ゾルゲル膜材料VR−153−1K)をスピンコーターで1000rpm30秒間保持してゾルゲル膜を成膜した。この材料の屈折率は1.55であった。
2 ゾルゲル膜
3 型
4 ライン部
5 スペース部
6 残膜部
8 埋め込み金属部
10 保護層
Claims (8)
- 基板上に、ライン部およびスペース部を有するラインアンドスペース構造を形成する工程と、
前記ラインアンドスペース構造の前記スペース部に溶融した金属を埋め込んで固化させることで埋め込み金属部を形成する工程と、
前記ラインアンドスペース構造の前記ライン部および前記埋め込み金属部の上に保護層を形成する工程と、を有し、
前記金属は、融点が650℃以下であり、400〜700nmの波長における固化後の平均消衰係数が5.0より大きいことを特徴とするワイヤーグリッド偏光板の製造方法。 - 基板上に、ライン部およびスペース部を有するラインアンドスペース構造を形成する工程と、
前記ラインアンドスペース構造の前記スペース部に溶融した金属を埋め込んで固化させることで埋め込み金属部を形成する工程と、
前記ラインアンドスペース構造の前記ライン部および前記埋め込み金属部の上に保護層を形成する工程と、を有し、
前記金属は、融点が650℃以下であり、400〜700nmの波長における固化後の平均消衰係数が4.5より大きく、平均屈折率が1未満であることを特徴とするワイヤーグリッド偏光板の製造方法。 - 前記金属が、純Inまたは、Al、Mg、In、Sn、Zn、Ag、Geの内2種類以上の合金であることを特徴とする請求項1または2に記載のワイヤーグリッド偏光板の製造方法。
- 前記ラインアンドスペース構造の前記ライン部の屈折率n、前記基板の屈折率nsとしたとき、1<n<nsであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載のワイヤーグリッド偏光板の製造方法。
- 前記ラインアンドスペース構造は、ゾルゲル材料をナノインプリント法で成形して得られることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載のワイヤーグリッド偏光板の製造方法。
- 前記保護層は、ゾルゲル材料を塗布し、硬化させて得られることを特徴とする請求項1ないし5いずれか1項に記載のワイヤーグリッド偏光板の製造方法。
- 基板上に形成されたライン部およびスペース部を有するラインアンドスペース構造と、
前記ラインアンドスペース構造の前記スペース部に金属を埋め込んで形成された埋め込み金属部と、
前記ラインアンドスペース構造の前記ライン部および前記埋め込み金属部の上に形成された保護層と、を有し、
前記金属は、融点が650℃以下であり、400〜700nmの波長における固化後の平均消衰係数が5.0より大きいことを特徴とするワイヤーグリッド偏光板。 - 基板上に形成されたライン部およびスペース部を有するラインアンドスペース構造と、
前記ラインアンドスペース構造の前記スペース部に金属を埋め込んで形成された埋め込み金属部と、
前記ラインアンドスペース構造の前記ライン部および前記埋め込み金属部の上に形成された保護層と、を有し、
前記金属は、融点が650℃以下であり、400〜700nmの波長における固化後の平均消衰係数が4.5より大きく、平均屈折率が1未満であることを特徴とするワイヤーグリッド偏光板。
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