JP2012138496A - コイル内蔵基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】コイル内蔵基板101はコイル導体形成層20と非磁性体層31,32を備えている。コイル導体形成層20は、コイル導体9と磁性体とが積層された磁性体層である。非磁性体層31は電子部品搭載面側(第1主面側)に形成され、表面導体膜7を含む。非磁性体層32は実装先の配線基板に対する実装面側(第2主面側)に形成され、表面導体膜7を含む。コイル導体形成層20と非磁性体層31との間には透磁率の高い磁性体層41を備えている。また、コイル導体形成層20と非磁性体層32との間には透磁率の高い磁性体層42を備えている。
【選択図】図2
Description
前記コイル導体を含む層であるコイル導体形成層と前記基板の第1主面との間、または前記コイル導体形成層と前記基板の第2主面との間の少なくとも一方に、前記磁性体層より透磁率の高い磁性体層を備えたことを特徴とする。
前記コイル導体の形成領域の周辺に、前記磁性体の積層方向に延びる、前記磁性体層より透磁率の高い磁性体領域を備えたことを特徴とする。
図2は第1の実施形態のコイル内蔵基板、およびそれを備えたDC−DCコンバータモジュールの構成を示す断面図である。このDC−DCコンバータモジュール111は、コイル内蔵基板101と、このコイル内蔵基板101の上面に搭載された電子部品(11等)とで構成されている。通常、コイル内蔵基板101の上面には複数の電子部品が搭載されるが、図2ではそれらの電子部品のうち一つ(電子部品11)のみを図示している。
コイル導体形成層20と非磁性体層31との間には透磁率の高い磁性体層41を備えている。また、コイル導体形成層20と非磁性体層32との間には透磁率の高い磁性体層42を備えている。
図3(A)は第2の実施形態のコイル内蔵基板、およびそれを備えたDC−DCコンバータモジュールの構成を示す断面図である。図3(B)はそのコイル導体形成層での横断面図である。このDC−DCコンバータモジュール112は、コイル内蔵基板102と、このコイル内蔵基板102の上面に搭載された電子部品(11等)とで構成されている。
コイル導体形成層20と磁性体層21,22との積層体は基板の主要部を構成する磁性体層である。この磁性体層のうちコイル導体9の形成領域の周辺に透磁率の高い磁性体領域51,52が設けられている。
図4(A)、図4(B)は第3の実施形態のコイル内蔵基板103A,103B、およびそれを備えたDC−DCコンバータモジュール113A,113Bの構成を示す断面図である。第2の実施形態で図3に示した構造と異なるのは、透磁率の高い磁性体領域51,52の形状である。図4(A)の例では、コイル導体9の形成領域の周辺に磁性体の積層方向に延びる透磁率の高い磁性体領域51,52が設けられているが、それぞれ非磁性体層31,32の近傍に形成されていて、コイル導体形成層20と磁性体層21,22との積層体である磁性体層のうち中央部には形成されていない。すなわち、透磁率の高い磁性体領域51,52は基板の第1主面および第2主面に垂直な一つの直線上に不連続に設けられる。
本発明のコイル内蔵基板は、基板内に第1の実施形態で示した透磁率の高い磁性体層41,42および第2の実施形態で示した透磁率の高い磁性体領域51,52の両方を備えたものでもよい。その構造によれば、コイル導体9による磁束が磁性体の面方向については透磁率の高い磁性体層41,42を通過し、磁性体の積層方向については透磁率の高い磁性体領域51,52を通過する。そのため、外部への不要な磁束漏洩が防止され、基板の内部または外面に形成されている配線などの導体に対するノイズの重畳がより効果的に抑制される。
7…表面導体膜
8…層間接続導体
9…コイル導体
11…電子部品
20…コイル導体形成層(磁性体層)
21,22…磁性体層
31,32…非磁性体層
41,42…透磁率の高い磁性体層
51,52…透磁率の高い磁性体領域
101,102,103A,103B…コイル内蔵基板
111,112,113A,113B…DC−DCコンバータモジュール
Claims (5)
- コイル導体と磁性体とが積層されて基板の全部または主要部を構成する磁性体層を備えたコイル内蔵基板において、
前記コイル導体を含む層であるコイル導体形成層と前記基板の第1主面との間、または前記コイル導体形成層と前記基板の第2主面との間の少なくとも一方に、前記磁性体層より透磁率の高い磁性体層を備えたことを特徴とするコイル内蔵基板。 - コイル導体と磁性体とが積層されて基板の全部または主要部を構成する磁性体層を備えたコイル内蔵基板において、
前記コイル導体の形成領域の周辺に、前記磁性体の積層方向に延びる、前記磁性体層より透磁率の高い磁性体領域を備えたことを特徴とするコイル内蔵基板。 - 前記透磁率の高い磁性体領域は前記基板の第1主面と第2主面とを結ぶ直線上に延びる、請求項2に記載のコイル内蔵基板。
- 前記透磁率の高い磁性体領域は前記基板の第1主面および第2主面に垂直な一つの直線上に不連続に設けられる、請求項2に記載のコイル内蔵基板。
- 前記基板の第1主面側および第2主面側が非磁性体の層で覆われている、請求項1〜4のいずれかに記載のコイル内蔵基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010290503A JP5716391B2 (ja) | 2010-12-27 | 2010-12-27 | コイル内蔵基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010290503A JP5716391B2 (ja) | 2010-12-27 | 2010-12-27 | コイル内蔵基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012138496A true JP2012138496A (ja) | 2012-07-19 |
JP5716391B2 JP5716391B2 (ja) | 2015-05-13 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2010290503A Active JP5716391B2 (ja) | 2010-12-27 | 2010-12-27 | コイル内蔵基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP5716391B2 (ja) |
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