JP2012138496A - コイル内蔵基板 - Google Patents

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【課題】外部への不要な磁束漏洩が防止され、基板の内部または外面に形成されている配線などの導体に対するノイズの重畳が抑制されたコイル内蔵基板を構成する。
【解決手段】コイル内蔵基板101はコイル導体形成層20と非磁性体層31,32を備えている。コイル導体形成層20は、コイル導体9と磁性体とが積層された磁性体層である。非磁性体層31は電子部品搭載面側(第1主面側)に形成され、表面導体膜7を含む。非磁性体層32は実装先の配線基板に対する実装面側(第2主面側)に形成され、表面導体膜7を含む。コイル導体形成層20と非磁性体層31との間には透磁率の高い磁性体層41を備えている。また、コイル導体形成層20と非磁性体層32との間には透磁率の高い磁性体層42を備えている。
【選択図】図2

Description

本発明は、内部にコイルを備え、DC−DCコンバータモジュール等に適用されるコイル内蔵基板に関する。
基板の内部にコイルが構成されたDC−DCコンバータモジュールが特許文献1に開示されている。図1は特許文献1に示されている積層型セラミック電子部品(DC−DCコンバータモジュール)1の断面図である。積層型セラミック電子部品1は、フェライトセラミックからなる基材層2と、基材層2の上下主面上にそれぞれ配置されかつフェライトセラミックからなる表面層3,4とを含む積層構造を有するセラミック積層体5を備えている。また、積層型セラミック電子部品1は、セラミック積層体5の内部および外部に設けられる導体パターンを備えている。導体パターンには大別して面内配線導体6と表面導体膜7と層間接続導体8とがある。面内配線導体6および表面導体膜7は、この積層型セラミック電子部品1を製造する過程において、基材層2または表面層3,4を形成するために積層されるセラミックグリーンシートの主面上に形成されていて、層間接続導体8は上記セラミックグリーンシートを厚み方向に貫通するように設けられている。面内配線導体6はセラミック積層体5の内部に形成されている。
特定の面内配線導体6および特定の層間接続導体8によって、コイル導体9が基材層2の内部に形成されている。この積層型セラミック電子部品1は、たとえばDC−DCコンバータを構成するもので、表面層3の外方に向く主面上には、表面実装型電子部品10および11が搭載される。電子部品10はたとえばICチップであり、表面層3の外方に向く主面上に形成された表面導体膜7にはんだバンプ12を介して電気的に接続される。他方の電子部品11はたとえばチップコンデンサであり、表面層3の外方に向く主面上に形成された表面導体膜7にはんだ13を介して電気的に接続されている。下方の表面層4の外方に向く主面上に形成された表面導体膜7は、図示しないマザー基板上に、この積層型セラミック電子部品1を実装する際の端子電極として用いられている。
一方、低透磁率ではあるが直線性や直流重畳特性のよい開磁路型のインダクタの漏れ磁束の影響を防止することを目的として、高透磁率の外部磁性体層を上下面に配置したシールド型インダクタが特許文献2に開示されている。
国際公開2007/148556号 特公平3−58164号公報
特許文献1に示されている構造のコイル内蔵基板において、コイル導体の周辺に層間接続導体、面内配線導体またはシールド導体などのコイル導体以外の導体が近接して設けられた場合、これらの導体が無い場合に比べて磁束が抑制され、インダクタとしての電気的特性が劣化する。すなわち、得られるインダクタンス値が小さくなり、必要なインダクタンス値を得るためにコイル導体の線幅を細くして巻回数を増すと、Q値および直流抵抗値が劣化する。また、前記コイル導体以外の導体とコイル導体との間で信号が干渉する。例えば、DC/DCコンバータモジュールが構成される場合、コイル導体にスイッチング電流が流れ、このスイッチング電流で生じる磁界が、基板を貫通している電圧出力用の層間接続導体(ビアホール導体)と結合して、出力電圧にノイズが重畳される問題がある。
特許文献2のシールド型インダクタにおいては、外部への不要な磁束漏洩を防止できるが、コイル導体と基板内の他の導体との不要な結合を防止する構造にはなっていない。
本発明は、外部への不要な磁束漏洩が防止され、基板の内部または外面に形成されている配線などの導体に対するノイズの重畳が抑制されたコイル内蔵基板を提供することを目的としている。
(1)本発明の第1の態様は、コイル導体と磁性体とが積層されて基板の全部または主要部を構成する磁性体層を備えたコイル内蔵基板において、
前記コイル導体を含む層であるコイル導体形成層と前記基板の第1主面との間、または前記コイル導体形成層と前記基板の第2主面との間の少なくとも一方に、前記磁性体層より透磁率の高い磁性体層を備えたことを特徴とする。
この構造により、コイル導体による磁界が透磁率の高い磁性体層に集中して磁性体の積層方向への磁界の広がりが抑えられるので、基板の内部または外面に形成されている配線などの導体に重畳されるノイズが抑制される。
(2)本発明の第2の態様は、コイル導体と磁性体とが積層されて基板の全部または主要部を構成する磁性体層を備えたコイル内蔵基板において、
前記コイル導体の形成領域の周辺に、前記磁性体の積層方向に延びる、前記磁性体層より透磁率の高い磁性体領域を備えたことを特徴とする。
この構造により、コイル導体による磁界が透磁率の高い磁性体領域に集中して磁性体の面方向への磁界の広がりが抑えられるので、基板の内部に形成されている、磁性体の積層方向に延びる層間接続導体に重畳されるノイズが抑制される。
(3)前記透磁率の高い磁性体領域は前記基板の第1主面と第2主面とを結ぶ直線上に延びていることが好ましい。この構造により、磁性体の積層体に貫通孔を形成して磁性体ペーストを充填する工程がそのまま適用でき、容易に製造できる。
(4)前記透磁率の高い磁性体領域は前記基板の第1主面および第2主面に垂直な一つの直線上に不連続に設けられていてもよい。この構造により、透磁率の異なる磁性体ペーストの収縮率が異なるために生じる、基板の部品搭載面(上面)および実装先基板への実装面(下面)の凹凸を低減できる。
(5)前記基板は、その第1主面側および第2主面側が非磁性体の層で覆われていることが好ましい。この構造により、磁性体より強度の高い層で被覆することになるので全体の強度が向上する。
本発明によれば、コイル内蔵基板単体で、外部への不要な磁束漏洩が防止され、基板の内部または外面に形成されている配線などの導体に対するノイズの重畳が抑制される。
図1は特許文献1に示されている積層型セラミック電子部品(DC−DCコンバータモジュール)の断面図である。 図2は第1の実施形態のコイル内蔵基板101、およびそれを備えたDC−DCコンバータモジュール111の構成を示す断面図である。 図3(A)は第2の実施形態のコイル内蔵基板102、およびそれを備えたDC−DCコンバータモジュール112の構成を示す断面図である。図3(B)はコイル内蔵基板102のコイル導体形成層での横断面図である。 図4(A)、図4(B)は第3の実施形態のコイル内蔵基板、およびそれを備えたDC−DCコンバータモジュールの構成を示す断面図である。
《第1の実施形態》
図2は第1の実施形態のコイル内蔵基板、およびそれを備えたDC−DCコンバータモジュールの構成を示す断面図である。このDC−DCコンバータモジュール111は、コイル内蔵基板101と、このコイル内蔵基板101の上面に搭載された電子部品(11等)とで構成されている。通常、コイル内蔵基板101の上面には複数の電子部品が搭載されるが、図2ではそれらの電子部品のうち一つ(電子部品11)のみを図示している。
コイル内蔵基板101はコイル導体形成層20と非磁性体層31,32を備えている。コイル導体形成層20は、コイル導体9と磁性体とが積層された磁性体層である。非磁性体層31は電子部品搭載面側(第1主面側)に形成され、表面導体膜7を含む。非磁性体層32は実装先の配線基板に対する実装面側(第2主面側)に形成され、表面導体膜7を含む。
コイル導体形成層20、磁性体層21,22、および非磁性体層31,32には面内配線導体6、層間接続導体8を必要に応じて備えている。
コイル導体形成層20と非磁性体層31との間には透磁率の高い磁性体層41を備えている。また、コイル導体形成層20と非磁性体層32との間には透磁率の高い磁性体層42を備えている。
透磁率の高い磁性体層41と非磁性体層31との間にはコイル導体形成層20と同じ磁性体材料の磁性体層21が設けられている。また、透磁率の高い磁性体層42と非磁性体層32との間にもコイル導体形成層20と同じ磁性体材料の磁性体層22が設けられている。
ここで、コイル導体形成層20、磁性体層21,22の透磁率をμ1、透磁率の高い磁性体層41,42の透磁率をμ2で表すと、μ1<μ2の関係にある。
このように、コイル導体形成層20を層方向に挟むように透磁率の高い磁性体層41,42を配置することにより、コイル導体9によって生じる磁束が透磁率の高い磁性体層41,42を層方向に通るように磁界が分布する。そのため、コイル導体9よる磁束の外部への漏洩が防止される。また、コイル導体9による磁束は積層方向に導かれるので、磁性体の積層方向(垂直方向)への磁束の拡がりが抑制される。そのため、非磁性体層31,32に形成されている面内配線導体6、表面導体膜7および層間接続導体8等に渦電流が流れにくくなる。すなわち、非磁性体層31,32に形成されている面内配線導体6、表面導体膜7および層間接続導体8等へのノイズの重畳が抑制される。
前記透磁率の高い磁性体層41,42は非磁性体層31,32寄りの位置にあってもよい。または、コイル導体形成層20と非磁性体層31,32との間の全体にわたって形成されていてもよい。但し、図2に示したように、透磁率の高い磁性体層41,42がコイル導体形成層20に近接していて、透磁率の高い磁性体層41,42と非磁性体層31,32との間に比較的低透磁率の磁性体層21,22が存在していると、透磁率の高い磁性体層41,42を通る磁束を、非磁性体層31,32に形成されている面内配線導体6、表面導体膜7および層間接続導体8等から離すことができる。そのため、非磁性体層31,32に形成されている面内配線導体6、表面導体膜7および層間接続導体8等へのノイズの重畳がより確実に抑制される。
なお、第1の実施形態では、コイル導体形成層20、磁性体層21,22および透磁率の高い磁性体層41,42の積層体は基板の主要部を構成する磁性体層であり、この磁性体層の第1主面側および第2主面側が非磁性体層31,32の層で覆われている。一般的に非磁性体は磁性体より強度が高いので、第1の実施形態によれば、基板全体に高い強度が得られる。
前記コイル内蔵基板101はグリーンシートプロセスにより製造される。前記コイル導体形成層20および磁性体層21,22は、例えばFe-Ni-Zn-Cu系の酸化物を主成分とする磁性フェライトである。焼成前は、これらのセラミックグリーンシートの積層体である。また、前記非磁性体層31,32は、Fe-Zn-Cu系の酸化物を主成分とする非磁性体フェライトである。焼成前はこのセラミックグリーンシートの積層体である。
前記層間接続導体8は導電性ペーストの焼結体である。焼成前は所定のセラミックグリーンシートに形成された貫通孔に充填された導電性ペースト(未焼結の層間接続導体)である。また、コイル導体9、面内配線導体6、表面導体膜7、層間接続導体8は導電性ペーストの焼結体である。焼成前は所定のセラミックグリーンシート上に印刷された導電性ペーストである。これらの導電性ペーストに含まれる導電性金属は銀または銀/パラジウムを主成分としているものであることが好ましい。
上記の実施形態では、コイル導体形成層20を層方向に挟むように透磁率の高い磁性体層41,42を配置したが、コイル導体形成層20と電子部品搭載面との間とコイル導体形成層20と実装面との間の少なくとも一方に透磁率の高い磁性体層を配置することにより、コイル導体9による磁束の少なくとも一方側への漏洩が防止される効果が得られる。
《第2の実施形態》
図3(A)は第2の実施形態のコイル内蔵基板、およびそれを備えたDC−DCコンバータモジュールの構成を示す断面図である。図3(B)はそのコイル導体形成層での横断面図である。このDC−DCコンバータモジュール112は、コイル内蔵基板102と、このコイル内蔵基板102の上面に搭載された電子部品(11等)とで構成されている。
コイル内蔵基板102はコイル導体形成層20と非磁性体層31,32を備えている。コイル導体形成層20は、コイル導体9と磁性体とが積層された磁性体層である。非磁性体層31は電子部品搭載面側(第1主面側)に形成され、表面導体膜7を含む。非磁性体層32は実装先の配線基板に対する実装面側(第2主面側)に形成され、表面導体膜7を含む。
コイル導体形成層20、磁性体層21,22、および非磁性体層31,32には面内配線導体6、層間接続導体8を必要に応じて備えている。
コイル導体形成層20と磁性体層21,22との積層体は基板の主要部を構成する磁性体層である。この磁性体層のうちコイル導体9の形成領域の周辺に透磁率の高い磁性体領域51,52が設けられている。
ここで、コイル導体形成層20、磁性体層21,22の透磁率をμ1、透磁率の高い磁性体領域51,52の透磁率をμ2で表すと、μ1<μ2の関係にある。
このように、コイル導体9の形成領域の周辺に、磁性体シートの積層方向に延びる透磁率の高い磁性体領域51,52を設けることにより、コイル導体9による磁界が透磁率の高い磁性体領域51,52に集中して通り、磁性体の面方向への磁界の広がりが抑えられる。そのため、基板の内部に形成されている、磁性体の積層方向に延びる層間接続導体8に重畳されるノイズが抑制される。
なお、第2の実施形態によれば、透磁率の高い磁性体領域51,52が基板の第1主面と第2主面とを結ぶ直線上に延びている。そのため、磁性体の積層体に貫通孔を形成して磁性体ペーストを充填する工程をグリーンシートプロセスに加えるだけでよいので、容易に製造できる。
《第3の実施形態》
図4(A)、図4(B)は第3の実施形態のコイル内蔵基板103A,103B、およびそれを備えたDC−DCコンバータモジュール113A,113Bの構成を示す断面図である。第2の実施形態で図3に示した構造と異なるのは、透磁率の高い磁性体領域51,52の形状である。図4(A)の例では、コイル導体9の形成領域の周辺に磁性体の積層方向に延びる透磁率の高い磁性体領域51,52が設けられているが、それぞれ非磁性体層31,32の近傍に形成されていて、コイル導体形成層20と磁性体層21,22との積層体である磁性体層のうち中央部には形成されていない。すなわち、透磁率の高い磁性体領域51,52は基板の第1主面および第2主面に垂直な一つの直線上に不連続に設けられる。
図4(B)の例では、コイル導体9の形成領域の周辺に磁性体の積層方向に延びる透磁率の高い磁性体領域51,52が設けられているが、コイル導体形成層20と磁性体層21,22との積層体である磁性体層のうち中央部にそれぞれ形成されている。
これらの構造により、透磁率の異なるフェライトペーストの収縮率が異なるために生じる、基板の部品搭載面(上面)および実装先基板への実装面(下面)の凹凸を低減できる。
《他の実施形態》
本発明のコイル内蔵基板は、基板内に第1の実施形態で示した透磁率の高い磁性体層41,42および第2の実施形態で示した透磁率の高い磁性体領域51,52の両方を備えたものでもよい。その構造によれば、コイル導体9による磁束が磁性体の面方向については透磁率の高い磁性体層41,42を通過し、磁性体の積層方向については透磁率の高い磁性体領域51,52を通過する。そのため、外部への不要な磁束漏洩が防止され、基板の内部または外面に形成されている配線などの導体に対するノイズの重畳がより効果的に抑制される。
また、本発明のコイル内蔵基板の磁性体層は、コイル導体と磁性体とが積層された基板の全層または主要部の層を構成するものであればよい。
6…面内配線導体
7…表面導体膜
8…層間接続導体
9…コイル導体
11…電子部品
20…コイル導体形成層(磁性体層)
21,22…磁性体層
31,32…非磁性体層
41,42…透磁率の高い磁性体層
51,52…透磁率の高い磁性体領域
101,102,103A,103B…コイル内蔵基板
111,112,113A,113B…DC−DCコンバータモジュール

Claims (5)

  1. コイル導体と磁性体とが積層されて基板の全部または主要部を構成する磁性体層を備えたコイル内蔵基板において、
    前記コイル導体を含む層であるコイル導体形成層と前記基板の第1主面との間、または前記コイル導体形成層と前記基板の第2主面との間の少なくとも一方に、前記磁性体層より透磁率の高い磁性体層を備えたことを特徴とするコイル内蔵基板。
  2. コイル導体と磁性体とが積層されて基板の全部または主要部を構成する磁性体層を備えたコイル内蔵基板において、
    前記コイル導体の形成領域の周辺に、前記磁性体の積層方向に延びる、前記磁性体層より透磁率の高い磁性体領域を備えたことを特徴とするコイル内蔵基板。
  3. 前記透磁率の高い磁性体領域は前記基板の第1主面と第2主面とを結ぶ直線上に延びる、請求項2に記載のコイル内蔵基板。
  4. 前記透磁率の高い磁性体領域は前記基板の第1主面および第2主面に垂直な一つの直線上に不連続に設けられる、請求項2に記載のコイル内蔵基板。
  5. 前記基板の第1主面側および第2主面側が非磁性体の層で覆われている、請求項1〜4のいずれかに記載のコイル内蔵基板。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5541424B2 (ja) * 2012-01-11 2014-07-09 株式会社村田製作所 高周波モジュール
US20160240296A1 (en) * 2015-02-13 2016-08-18 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Coil electronic component and manufacturing method thereof
US20160293315A1 (en) * 2015-04-01 2016-10-06 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Hybrid inductor and manufacturing method thereof
WO2019130912A1 (ja) * 2017-12-26 2019-07-04 株式会社村田製作所 セラミック積層体

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06325939A (ja) * 1993-05-13 1994-11-25 Murata Mfg Co Ltd インダクタ
JP2005217078A (ja) * 2004-01-28 2005-08-11 Kyocera Corp コイル内蔵ガラスセラミック基板
JP2006210616A (ja) * 2005-01-27 2006-08-10 Kyocera Corp コイル内蔵基板
JP2007266245A (ja) * 2006-03-28 2007-10-11 Kyocera Corp コイル内蔵基板
JPWO2007111122A1 (ja) * 2006-03-29 2009-08-06 日立金属株式会社 コイル部品およびその製造方法
WO2010064505A1 (ja) * 2008-12-03 2010-06-10 株式会社村田製作所 電子部品

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06325939A (ja) * 1993-05-13 1994-11-25 Murata Mfg Co Ltd インダクタ
JP2005217078A (ja) * 2004-01-28 2005-08-11 Kyocera Corp コイル内蔵ガラスセラミック基板
JP2006210616A (ja) * 2005-01-27 2006-08-10 Kyocera Corp コイル内蔵基板
JP2007266245A (ja) * 2006-03-28 2007-10-11 Kyocera Corp コイル内蔵基板
JPWO2007111122A1 (ja) * 2006-03-29 2009-08-06 日立金属株式会社 コイル部品およびその製造方法
WO2010064505A1 (ja) * 2008-12-03 2010-06-10 株式会社村田製作所 電子部品

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5541424B2 (ja) * 2012-01-11 2014-07-09 株式会社村田製作所 高周波モジュール
US20160240296A1 (en) * 2015-02-13 2016-08-18 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Coil electronic component and manufacturing method thereof
US10102964B2 (en) * 2015-02-13 2018-10-16 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Coil electronic component and manufacturing method thereof
US20160293315A1 (en) * 2015-04-01 2016-10-06 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Hybrid inductor and manufacturing method thereof
US20190172618A1 (en) * 2015-04-01 2019-06-06 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Hybrid inductor and manufacturing method thereof
US10937581B2 (en) 2015-04-01 2021-03-02 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Hybrid inductor and manufacturing method thereof
WO2019130912A1 (ja) * 2017-12-26 2019-07-04 株式会社村田製作所 セラミック積層体

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