JP5541424B2 - 高周波モジュール - Google Patents
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Description
本発明は、配線基板に設けられた、高周波信号を取り扱う電子部品であるRFICと、整合回路と、他の電子部品とを備える高周波モジュールに関する。
近年、携帯電話やスマートフォン、携帯情報端末などの通信端末装置の多機能化および高機能化が進むと共に小型化が要求されており、装置に内蔵される各種の電子部品の高機能化および小型化が要望されている。そこで、各種の電子部品を配線基板に内蔵することにより高集積化されて、高機能化および小型化が図られたモジュールが提案されている(例えば、特許文献1参照)。図9に示す従来のモジュール500では、配線基板501に電子部品502が内蔵されると共に、配線基板501の実装面501aに、受動素子やICなどの他の電子部品(図示省略)が実装されることにより、モジュール500の高機能化および小型化が図られている。
ところで、モジュール500に内蔵される電子部品502が高周波信号(RF信号)を取り扱うRFICである場合に、取り扱われる高周波信号に起因する電子部品502からの輻射ノイズが問題となっている。すなわち、電子部品502や、電子部品502に接続される配線パターンから高周波信号に起因する電磁波が輻射されることによるノイズにより、モジュール500に設けられた他の電子部品が誤動作したり、その特性が劣化したりするおそれがある。
そこで、従来のモジュール500では、電子部品502の一面を隙間無く覆う形状のグランドパターン503が配線基板501に設けられることにより、電子部品502からの輻射ノイズが、モジュール500に設けられた他の電子部品に与える影響の低減が図られている。
上記したように、電子部品502の一面を隙間無く覆う形状のグランドパターン503を配線基板501設けることにより、電子部品502からの輻射ノイズが他の電子部品に与える影響を低減することができるが、その一方で、配線基板501に電子部品502の一面を隙間無く覆う形状のグランドパターン503が設けられることにより、配線基板501の厚みが増すため、モジュール500の小型化の妨げとなっている。また、配線基板501に、例えばインダクタ素子やキャパシタ素子などの各種受動素子が設けられて整合回路等が形成されている場合に、グランドパターン503と受動素子との配置関係によっては、グランドパターン503と受動素子とが結合することで、受動素子の特性が変化したり、当該受動素子により形成される回路のQ値が劣化するなどの問題が生じる。
この発明は、上記した課題に鑑みてなされたものであり、配線基板に設けられた、高周波信号を取り扱う電子部品であるRFICからの輻射ノイズが他の電子部品に与える影響を低減できると共に、モジュールの小型化を図ることができる技術を提供することを目的とする。
上記した目的を達成するために、本発明の高周波モジュールは、配線基板に設けられた、高周波信号を取り扱う電子部品であるRFICと、整合回路と、他の電子部品とを備える高周波モジュールにおいて、前記配線基板は磁性体層を備え、前記RFICは、前記磁性体層の一方主面側に設けられ、前記他の電子部品は、前記磁性体層の他方主面側に設けられて、前記整合回路を形成するインダクタ素子が前記磁性体層に設けられていることを特徴としている。
このように構成された発明では、高周波信号を取り扱う電子部品であるRFICは、配線基板が備える磁性体層の一方主面側に設けられ、他の電子部品は、磁性体層の他方主面側に設けられているため、取り扱われる高周波信号に起因するRFICからの輻射ノイズ(電磁波)は磁性体層(磁性体)通過することにより発熱して損失するので、RFICからの輻射ノイズが他の電子部品に与える影響を低減することができる。また、整合回路を形成するインダクタ素子が磁性体層に設けられており、インダクタ素子のインダクタンスが増大するためインダクタ素子を小型化することができるので、高周波モジュールの小型化を図ることができる。
また、前記RFICは、入力された前記高周波信号をベースバンド信号に復調し、前記ベースバンド信号を前記高周波信号に変調する機能を有し、前記他の電子部品は、前記ベースバンド信号を取り扱うICであるとよい。
このように構成すると、入力された高周波信号がRFICにより復調されたベースバンド信号を取り扱うICに、高周波信号に起因するRFICからの輻射ノイズが影響を与えるのを防止することができる。
また、前記他の電子部品は、前記インダクタ素子と共に前記整合回路を形成する受動素子であってもよい。
このように構成すると、高周波信号に起因するRFICからの輻射ノイズが影響を与えて整合回路の特性が変化するのを防止することができる。
また、前記RFICおよび前記他の電子部品のいずれか一方が前記配線基板に内蔵されているとよい。
このように構成すれば、RFICおよび電子部品のいずれか一方が配線基板に内蔵されるので、高周波モジュールの小型化を図ることができる。
また、前記インダクタ素子は、前記磁性体層の厚み方向にらせん状に形成された2個のコイルパターンを備え、前記両コイルパターンは隣接配置されて所定の相互インダクタンスで結合していてもよい。
このように構成されると、両コイルパターンが所定の相互インダクタンスで結合されて磁性体層に隣接配置されており、より少ない巻数でインダクタ素子を形成できるので、インダクタ素子を小型化できると共に、インダクタ素子から放射される磁界ノイズを低減することができる。
また、前記両コイルパターンは、少なくとも互いのらせん形状の巻回軸が重ならないように隣接配置されており、前記磁性体層内に前記両コイルパターンに生じる磁界による閉磁路が形成されるとよい。
このように構成されると、両コイルパターンが、少なくとも互いのらせん形状の巻回軸が重ならないように配置されて、磁性体層内に両コイルパターンに生じる磁界による閉磁路が形成されるので、インダクタ素子から放射される磁界ノイズを低減することができる。
また、前記整合回路および前記RFICが接続されており、アンテナ素子から入力された前記高周波信号が前記整合回路を介して前記RFICに入力されたり、前記RFICから出力された高周波信号が前記整合回路を介してアンテナ素子から放射されたりするとよい。
このように構成することにより、アンテナ素子から入力された高周波信号が整合回路を介してRFICに入力されたり、RFICから出力された高周波信号が整合回路を介してアンテナ素子から放射されたりする実用的な構成の高周波モジュールを提供することができる。
また、前記RFICは、RFID用ICであるとよい。
このように構成すると、RFID(Radio
Frequency IDentification System)用のICを搭載すると共に、RFID用ICからの輻射ノイズが他の電子部品に与える影響が低減された実用的な構成の高周波モジュールを提供することができる。
Frequency IDentification System)用のICを搭載すると共に、RFID用ICからの輻射ノイズが他の電子部品に与える影響が低減された実用的な構成の高周波モジュールを提供することができる。
本発明によれば、高周波信号を取り扱う電子部品であるRFICと、他の電子部品との間に磁性体層が配置されているため、高周波信号に起因するRFICからの輻射ノイズ(電磁波)は磁性体において発熱して損失する。したがって、RFICからの輻射ノイズが他の電子部品に与える影響を低減することができる。また、整合回路を形成するインダクタ素子が磁性体層に設けられており、インダクタ素子のインダクタンスが増大する。したがって、インダクタ素子を小型化することができ、ひいては高周波モジュールの小型化を図ることができる。
<第1実施形態>
本発明の第1実施形態たる高周波モジュールが搭載された通信端末装置について、図1〜図6を参照して説明する。図1は本発明の第1実施形態にかかる高周波モジュールが搭載される通信端末装置の機能ブロック図である。図2は図1の整合回路の等価回路を示す図である。図3は図1の高周波モジュールを示す断面図である。図4は図3の高周波モジュールが備える配線基板の分解図である。図5は図4の配線基板が備える各樹脂層を示す図である。図6は図4の配線基板に設けられたインダクタ素子の配置関係を示す図である。
本発明の第1実施形態たる高周波モジュールが搭載された通信端末装置について、図1〜図6を参照して説明する。図1は本発明の第1実施形態にかかる高周波モジュールが搭載される通信端末装置の機能ブロック図である。図2は図1の整合回路の等価回路を示す図である。図3は図1の高周波モジュールを示す断面図である。図4は図3の高周波モジュールが備える配線基板の分解図である。図5は図4の配線基板が備える各樹脂層を示す図である。図6は図4の配線基板に設けられたインダクタ素子の配置関係を示す図である。
図1に示すように、通信端末装置1は、NFC(Near Field Communication)デバイスとして構成されており、マザーボード等(図示省略)に搭載されるホストIC2と、高周波モジュール3と、アンテナ素子4とを備えている。
ホストIC2は、高周波モジュール3への給電用の電源回路や、所定のアプリケーションを実行することにより高周波モジュール3を制御するマイクロプロセッサなどを備えている。通信端末装置1は、高周波モジュール3から出力されるベースバンド信号に含まれる情報に基づいて所定の処理を行うアプリケーションがホストIC2において実行されて高周波モジュール3が制御されることにより、FeliCa(ソニー株式会社の登録商標)に代表される近距離通信規格を利用した電子マネーの決済等に使用される。
また、ホストIC2において所定のアプリケーションが実行されて高周波モジュール3が制御されることにより、通信端末装置1が、他の非接触ICカード(RFタグ)と近距離通信を行うリーダ・ライタ装置として機能したり、通信端末装置1と他のNFCデバイスとの間でピア・ツー・ピア(P2P)通信を実行したりできる。
高周波モジュール3は、通信端末装置1のマザーボード等に搭載されてRFID(Radio Frequency IDentification)システムを構成するためのものであり、外部から入力される通信用の高周波信号(RF信号)を取り扱う電子部品であるRFIC31と、RFIC31およびアンテナ素子4の間に設けられたインピーダンスマッチング用の整合回路32と、ホストRFIC31に接続されたセキュアIC33とを備えている。
RFIC31は、RFID用ICにより形成されており、NFC規格に基づく近距離通信に必要な機能を有しており、アンテナ素子4および整合回路32を介して入力される外部のリーダ・ライタ装置(図示省略)から出力された通信用のRF信号をベースバンド信号に復調して処理したり、復調されたベースバンド信号に含まれる情報(制御コマンド)やホストIC2からの制御指令に基づいて所定の方式で符号化されたベースバンド信号をASK変調等の所定の変調方式によりRF信号に変調して整合回路32およびアンテナ素子4を介して出力する機能を有する。
また、図2に示すように、整合回路32は、インダクタ素子L1,L2およびキャパシタ素子C1,C2により一般的なL型のローパスフィルタにより形成されており、平衡端子Piがアンテナ素子4に接続され、平衡端子PoがRFIC31に接続されている。なお、後述するように、インダクタ素子L1,L2は相互インダクタンスMで結合するように配置されている。
セキュアIC33は、電子マネーの決済等に必要な、携帯端末装置1を識別するための識別コードや暗号処理するための暗号コード等を格納するメモリや、暗号処理を実行するCPUなどを備えるものであり、RFIC31により復調されたベースバンド信号に含まれる制御コマンドや、ホストICからの制御指令などに基づいて所定の処理を実行することにより、前記電子マネーの決済等に必要な所定の情報が含まれるベースバンド信号を出力する。
なお、セキュアIC33が備えるメモリは書換可能な不揮発性のメモリにより形成されており、ホストIC2により実行されるアプリケーションにより、適宜、セキュアIC33のメモリに格納される識別コードや暗号コード等の情報の書き換えが実行される。
次に、高周波モジュール3の構成について説明する。なお、図3〜図5では、説明を容易なものとするため、本発明の説明に必要な構成のみ図示されている。
高周波モジュール3は、多層樹脂配線基板30を備え、RFIC31、整合回路32およびセキュアIC33などの各種の電子部品が多層樹脂配線基板30に設けられている。多層樹脂配線基板30は、誘電体層30a〜30d,30hと、磁性体層30e〜30gとを備え、磁性体層30e〜30gは、誘電体層30a〜30dと誘電体層30hとの間に配置されている。なお、整合回路32は、コイルパターン32a,32bにより構成されるインダクタ素子L1,L2およびキャパシタ素子C1,C2を構成するキャパシタ素子32c,32dにより形成されている。
また、多層樹脂配線基板30の表面(一方主面)には、表面実装部品を実装するための表面端子301が形成され、裏面(他方主面)には、高周波モジュール3を通信端末装置1のマザーボード等に接続するための裏面端子302が形成されている。また、各樹脂層30a〜30hには、面内導体パターン303や層間導体パターン304(ビア導体)が設けられており、これらの導体パターン303,304により、各種の受動素子が形成されたり、多層樹脂配線基板30に設けられた各種の電子部品が電気的に接続される。
そして、磁性体層30e〜30gには、厚み方向にらせん形状に形成された2個のコイルパターン32a,32bによりそれぞれ形成されたインダクタ素子L1,L2が設けられている。また、図6に示すように、両コイルパターン32a,32bは、層方向に隣接配置されており、磁界MFが両コイルパターン32a,32bの巻回中心を貫くことにより相互インダクタンスMで結合されている。
なお、インダクタ素子L1は、磁性体層30f,30gにそれぞれ形成されたコイルパターン32aが層間導体パターン304により接続されることによりらせん形状に形成され、インダクタ素子L2は、誘電体層30dおよび磁性体層30eにそれぞれ形成されたコイルパターン32bが層間導体パターン304に接続されることによりらせん形状に形成されている。
また、磁性体層30e〜30gの一方主面側である、多層樹脂配線基板30の表面に設けられた表面端子301には、RFIC31や、インダクタ素子L1,L2と共に整合回路32を形成するキャパシタ素子C1,C2としてキャパシタ素子32c,32dが設けられている。また、磁性体層30e〜30gの他方主面側の誘電体層30b,30cには、セキュアIC33が内蔵されている。
セキュアIC33は、SiやGaAsなどの半導体基板33a上に設けられた集積回路に接続されたポスト電極33bおよびポスト電極33bの側面を覆って形成された樹脂封止層33cを有する再配線層を備え、所謂、CSP(チップサイズパッケージ)に形成されており、樹脂封止増33cから露出するポスト電極33bの端面と層間導体パターン304とが直接接続される。
また、誘電体層30a〜30d,30hは、ポリイミドや液晶ポリマなどの耐熱性を有する熱可塑性樹脂により形成され、磁性体層30e〜30gは、ポリイミドや液晶ポリマなどの熱可塑性樹脂にフェライト粉末等の磁性体粉末が混合されて形成される。また、表面端子301、裏面端子302、面内導体パターン303および層間導体パターン304は、銀や銅などを主成分とする比抵抗の小さな金属材料により形成される。なお、一般的な樹脂基板材料と比較すると、低損失で優れた高周波伝送特性を有しているため、液晶ポリマにより各樹脂層30a〜30hを形成するとよい。
次に、高周波モジュール3の製造方法について簡単に説明する。
まず、図5(a)〜(h)に示すように、スクリーン印刷やレーザ加工等を用いた周知の手法を用いて面内導体パターン303や層間導体パターン304が形成されることにより、各誘電体層30a〜30d,30hおよび各磁性体層30e〜30gが準備される。そして、図4および図5(f),(g)に示すように、開口OPを有する誘電体層30b,30cが仮圧着されることにより形成されるキャビティに、樹脂封止層33cから露出するポスト電極33bの端面が上側を向くようにセキュアIC33が配置される。そして、他の樹脂層30a,30d〜30hが図4に示す順に重ねられた後、熱圧着されることにより高周波モジュール3が製造される。
以上のように、この実施形態では、通信用のRF信号をを取り扱う電子部品であるRFIC31は、多層樹脂基板30が備える磁性体層30e〜30gの一方主面側に設けられ、他の電子部品であるセキュアIC33は、磁性体層30e〜30gの他方主面側に設けられているため、取り扱われる高周波信号に起因するRFIC31からの輻射ノイズ(電磁波)は磁性体層30e〜30g(磁性体)を通過することにより発熱して損失するので、RFIC31からの輻射ノイズが、セキュアIC33などの他の電子部品に与える影響を低減することができ、RFIC31とセキュアIC33との間のアイソレーション特性を向上することができる。
また、整合回路32を形成する各インダクタ素子L1,L2が磁性体層30e〜30gに設けられており、インダクタ素子L1,L2の各インダクタンスが増大するためインダクタ素子L1,L2を小型化することができるので、高周波モジュール3の小型化を図ることができる。
また、従来のように、電子部品の一面を隙間無く覆う形状に形成されたグランドパターンと、多層樹脂基板30に設けられた各種の受動素子とが結合することにより、受動素子の特性が変化したり、当該受動素子により形成される回路のQ値が劣化するなどの問題が生じるおそれがない。
また、各磁性体層30e〜30gは、樹脂材料に磁性体粉末が混合されて形成されたものであるため、誘電体層30a〜30d,30hと比較すると剛性が高く、多層樹脂配線基板30の剛性を向上することができる。したがって、高周波モジュール3のたわみ強度を向上させることができると共に、多層樹脂配線基板30に実装されるRFIC31や、内蔵されるセキュアIC33の機械的強度を補強することができる。
また、RFIC31とセキュアIC33との間に磁性体層30e〜30gが配置されているため、入力されたRF信号がRFIC31により復調されたベースバンド信号を取り扱うセキュアIC33に、RF信号に起因するRFIC31からの輻射ノイズが影響を与えるのを防止することができる。
また、セキュアIC33が多層樹脂配線基板30に内蔵されるので、高周波モジュール3の小型化を図ることができる。
また、両コイルパターン32a,32bが所定の相互インダクタンスMで結合されて磁性体層30e〜30gに層方向に隣接配置されており、より少ない巻数でインダクタ素子L1,L2を形成できるので、インダクタ素子L1,L2を小型化できると共に、インダクタ素子L1,L2から放射される磁界ノイズを低減することができる。
<第2実施形態>
本発明の第2実施形態たる高周波モジュールが搭載された通信端末装置について、図7および図8を参照して説明する。図7は本発明の第2実施形態にかかる高周波モジュールを示す断面図である。図8は図7の高周波モジュールが備える配線基板に設けられたインダクタ素子の配置関係を示す図である。この実施形態が上記した第1実施形態と異なるのは、図7に示すように、磁性体層30e〜30gの一方主面側の多層樹脂配線基板30表面の表面端子301ににセキュアIC33が設けられて、磁性体層30e〜30gの他方主面側の誘電体層30b,30cにRFIC31が内蔵されている点である。また、コイルパターン32a,32bは、少なくとも互いのらせん形状の巻回軸が重ならないように磁性体層30e〜30gの面方向に隣接配置されて各インダクタ素子L1,L2が形成されている。そして、図8に示すように、磁性体層30e〜30g内に、両コイルパターン32a,32bに生じる磁界MFによる閉磁路が形成されるように、各インダクタ素子L1,L2が配置されている。その他の構成は上記した第1実施形態と同様の構成であるため、同一符号を付すことによりその構成の説明は省略する。
本発明の第2実施形態たる高周波モジュールが搭載された通信端末装置について、図7および図8を参照して説明する。図7は本発明の第2実施形態にかかる高周波モジュールを示す断面図である。図8は図7の高周波モジュールが備える配線基板に設けられたインダクタ素子の配置関係を示す図である。この実施形態が上記した第1実施形態と異なるのは、図7に示すように、磁性体層30e〜30gの一方主面側の多層樹脂配線基板30表面の表面端子301ににセキュアIC33が設けられて、磁性体層30e〜30gの他方主面側の誘電体層30b,30cにRFIC31が内蔵されている点である。また、コイルパターン32a,32bは、少なくとも互いのらせん形状の巻回軸が重ならないように磁性体層30e〜30gの面方向に隣接配置されて各インダクタ素子L1,L2が形成されている。そして、図8に示すように、磁性体層30e〜30g内に、両コイルパターン32a,32bに生じる磁界MFによる閉磁路が形成されるように、各インダクタ素子L1,L2が配置されている。その他の構成は上記した第1実施形態と同様の構成であるため、同一符号を付すことによりその構成の説明は省略する。
この実施形態では、RFIC31は、SiやGaAsなどの半導体基板31a上に設けられた集積回路に接続されたポスト電極31bおよびポスト電極31bの側面を覆って形成された樹脂封止層31cを有する再配線層を備え、所謂、CSPに形成されており、樹脂封止層31cから露出するポスト電極31bの端面と層間導体パターン304とが直接接続される。また、RFIC31の半導体基板31aの集積回路形成面と反対側の面には、放熱用の層間導体パターン304aが接続されており、RFIC31の熱が多層樹脂基板30の外部に放熱されるように構成されている。
また、各磁性体層30e〜30gには、それぞれ面方向に隣接してコイルパターン32a,32bが形成されている。そして、各磁性体層30e〜30gに形成された各コイルパターン32a,32bが、それぞれ層間導体パターン304により接続されることにより、らせん形状のインダクタ素子L1,L2が形成されている。
このように構成すると、上記した第1実施形態と同様の効果を奏することができると共に、以下の効果を奏することができる。すなわち、各インダクタ素子L1,L2を形成する両コイルパターン32a,32bが、少なくとも互いのらせん形状の巻回軸が重ならないように配置されて、磁性体層30e〜30g内に両コイルパターン32a,32bに生じる磁界MFによる閉磁路が形成されるので、インダクタ素子L1,L2から放射される磁界ノイズを低減することができる。
また、各インダクタ素子L1,L2と共に整合回路32を形成する受動素子であるキャパシタ素子C1,C2(キャパシタ素子32c,32d)と、RFIC31とが磁性体層30e〜30gを間に挟んで配置されているため、RF信号に起因するRFIC31からの輻射ノイズがキャパシタ素子C1,C2に影響を与えて整合回路32の特性が変化するのを防止することができる。
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、上記したもの以外に種々の変更を行なうことが可能である。例えば、上記した実施形態では、高周波モジュール3として、RFIDシステムを構成するためのものを例に挙げて説明したが、本発明が適用される高周波モジュールとしてはこれに限られるものではない。
また、RFIC31およびセキュアIC33のいずれか一方が多層樹脂基板30に必ずしも内蔵されている必要はなく、RFIC31とセキュアIC33とが、磁性体層30e〜30gを挟んで配置されていればよい。また、配線基板を磁性体層のみで形成してもよく、この場合、磁性体層のいずれか一方面にRFIC31を配置し、他方面にセキュアIC33を配置すればよい。
本発明は、配線基板に設けられた、高周波信号を取り扱う電子部品であるRFICと、整合回路と、他の電子部品とを備える高周波モジュールに広く適用することができる。
3,3a 高周波モジュール
4 アンテナ素子
30 多層樹脂配線基板(配線基板)
30e〜30g 磁性体層
31 RFIC
32 整合回路
33 セキュアIC(他の電子部品)
L1,L2 インダクタ素子
C1,C2 キャパシタ素子(受動素子)
4 アンテナ素子
30 多層樹脂配線基板(配線基板)
30e〜30g 磁性体層
31 RFIC
32 整合回路
33 セキュアIC(他の電子部品)
L1,L2 インダクタ素子
C1,C2 キャパシタ素子(受動素子)
Claims (8)
- 配線基板に設けられた、高周波信号を取り扱う電子部品であるRFICと、整合回路と、他の電子部品とを備える高周波モジュールにおいて、
前記配線基板は磁性体層を備え、
前記RFICは、前記磁性体層の一方主面側に設けられ、前記他の電子部品は、前記磁性体層の他方主面側に設けられて、
前記整合回路を形成するインダクタ素子が前記磁性体層に設けられている
ことを特徴とする高周波モジュール。 - 前記RFICは、入力された前記高周波信号をベースバンド信号に復調し、前記ベースバンド信号を前記高周波信号に変調する機能を有し、
前記他の電子部品は、前記ベースバンド信号を取り扱うICであることを特徴とする請求項1に記載の高周波モジュール。 - 前記他の電子部品は、前記インダクタ素子と共に前記整合回路を形成する受動素子であることを特徴とする請求項1または2に記載の高周波モジュール。
- 前記RFICおよび前記他の電子部品のいずれか一方が前記配線基板に内蔵されていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の高周波モジュール。
- 前記インダクタ素子は、前記磁性体層の厚み方向にらせん状に形成された2個のコイルパターンを備え、
前記両コイルパターンは隣接配置されて所定の相互インダクタンスで結合していることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の高周波モジュール。 - 前記両コイルパターンは、少なくとも互いのらせん形状の巻回軸が重ならないように隣接配置されており、前記磁性体層内に前記両コイルパターンに生じる磁界による閉磁路が形成されることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の高周波モジュール。
- 前記整合回路および前記RFICが接続されており、
アンテナ素子から入力された前記高周波信号が前記整合回路を介して前記RFICに入力されること、および/または前記RFICから出力された高周波信号が前記整合回路を介してアンテナ素子から放射されることを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載の高周波モジュール。 - 前記RFICは、RFID用ICであることを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の高周波モジュール。
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