JP2003332167A - 電子部品及びその製造方法 - Google Patents
電子部品及びその製造方法Info
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Abstract
層モジュールを提供する。 【解決手段】機能層(21、22)と、導体層51、5
2とを含む。有機樹脂材料層22及び無機機能材料層2
1のそれぞれは、各厚みT1、T2が5μm以下の薄膜
であって、互いに隣接する。導体層51、52は、有機
樹脂材料層22または無機機能材料層21の少なくとも
一方に隣接している。
Description
製造方法に関する。本発明に係る電子部品には、コンデ
ンサ、インダクタ、LCフィルタ、共振器、これらを含
む多層基板、更には、これらと能動素子とを組み合わせ
た各種積層モジュール等が広く含まれる。
るコンデンサ、インダクタ及びその複合部品は、スクリ
ーン印刷を用いて製造するのが一般的であり、その量産
技術は既に確立している。
の電子機器分野における電子部品の小型化、高密度化、
高機能化への指向は著しいものがあり、スクリーン印刷
技術を主とする従来技術ではそのような要求に応えるこ
とが困難になりつつある。
周波多層基板では、焼結フェライトや焼結セラミックを
用いた複数の機能層を、必要数だけ積層し、多層化した
ものは、既に知られている。これらの材料を用いて多層
基板を構成することにより、小型化が図れるというメリ
ットがある。
セラミック基板を用いた場合、焼成工程や厚膜印刷工程
等の製造工程数が多いこと、焼成時に発生するクラッ
ク、反りに代表される焼成材料特有の問題が多いこと、
プリント基板との熱膨張係数の違い等によるクラックが
発生しやすいこと等、多くの問題を抱えること等から、
有機樹脂材料への要求が年々高まっている。
の複数枚を積層する多層化構造も知られているが、この
多層化構造では、十分な誘電率、または、十分な透磁率
を得ることも困難である。このため、単に有機樹脂材料
を利用した積層モジュールでは、十分な特性を得ること
ができず、形状的にも大きなものとなり、小型化、薄型
化を図ることが困難であるという問題点がある。
例えば、特開平8−69712号公報、特開平11−1
92620号公報は、有機材料に無機機能材料を混合し
たハイブリッド材料を用いて機能層を構成する手法を開
示している。しかし、いずれも十分な高周波特性や磁気
特性を得られていない。
シート工法による複数材料を多層化する例が示されてい
るが、工程数が多い等の問題点がある。しかも、ここで
検討されている周波数は数百MHz程度であり、数GH
z以上の高周波領域における性能については何ら、検討
されていない。
型、かつ、高性能で、しかも電気的特性の優れた電子部
品を提供することである。
子部品を製造するのに適した製造方法を提供することで
ある。
ため、本発明に係る電子部品は、機能層と、導体層とを
含む。前記機能層は、有機樹脂材料層と、無機機能材料
層とを含む。前記有機樹脂材料層及び前記無機機能材料
層のそれぞれは、5μm以下の薄膜であって、互いに隣
接する。
前記無機機能材料層の少なくとも一方に隣接している。
は、機能層を含み、機能層は有機樹脂材料層と無機機能
材料層とを含む。有機樹脂材料層及び無機機能材料層の
それぞれは互いに隣接する。このように、有機樹脂材料
層及び無機機能材料層のそれぞれを、互いに隣接させた
機能層は、有機樹脂材料層が応力緩和層として働くこと
になるので、焼結フェライト基板や焼結セラミック基板
を用いた従来の積層基板と異なって、加工工程におい
て、クラックや層間剥離が生じにくく、機械的強度に優
れているので、製品としての信頼性に優れている。
有機樹脂材料を単独で用いた場合よりも、電気的特性、
例えば、誘電率やQ値を向上させることができる。この
ため、高性能の電子部品を得ることができる。
のそれぞれが、互いに独立する層として存在するので、
有機樹脂材料に無機機能材料を混合したハイブリッド機
能材料層よりも、特性のばらつきが小さくなり、歩留が
向上する。
のそれぞれは、5μmと薄いため、これらの層を互いに
隣接させた機能層は、パンチまたはドリル等を用いて、
貫通ビアホール、インナービアホール、ブラインドビア
ホール及びサーマルビアホールのための孔を簡単に形成
できる。このようにして形成されたホール内に導電性ぺ
ースト(Agなど)を充填して、層間において位置ズレ
を生じることなく、各種ビアを確実に形成し得る。これ
により、電気的接続導体層及び放熱路が構成される。
層のそれぞれを、互いに隣接させた機能層は、無機機能
材料層を構成する機能材料の種類を選択することによ
り、所望の電気的及び磁気的特性を持たせることができ
る。例えば、無機機能材料として、誘電体材料を用いた
場合には、誘電体材料の材料選択により、誘電率の調整
が容易となり、焼結セラミックを用いた積層基板と異な
って、低誘電率化も可能であるとともに、有機樹脂材料
を用いた積層基板よりもQ値が高く、高周波領域(10
0MHz以上、特に100MHz以上10GHz以下の
領域)での使用に好適なものを実現できる。
金属磁性体材料等を選択使用することにより、優れた磁
気特性を利用した用途や、磁気シールドを目的とした用
途にも、自由に対応できる。
波帯域で、比較的高いQや誘電率εを得ることも可能で
ある。このような特性は、例えばストリップライン、イ
ンピーダンス整合回路、遅延回路及びアンテナ回路等を
構成する場合に要求される。しかも、機械的強度に優れ
た機能層を得ることができる。
料層の組み合わせを、任意数含むことができる。組み合
わせは、基本的には、有機樹脂材料層及び無機機能材料
層が交互に配置されるようにする。
ぞれは、5μm以下の薄膜である。互いに隣接する有機
樹脂材料層及び無機機能材料層のそれぞれが、5μm以
下の薄膜であるので、薄膜による種々の利点が得られ
る。まず、薄膜化による一般的な利点として、小型、低
背化が可能である。また、機能層をコンデンサ要素とし
て利用する場合には、大容量化を達成できる。
含んでおり、導体層は、有機樹脂材料層または無機機能
材料層の少なくとも一方に隣接している。これにより、
導体層を介して、有機樹脂材料層または無機機能材料層
の電気的特性を取り出す電子部品を得ることができる。
料層を1層づつ含む機能層毎に設けてもよいし、有機樹
脂材料層及び無機機能材料層を任意複数層含む機能層に
設けてもよい。導体層のパターンは任意である。
は、まず、前記有機樹脂材料層及び前記無機機能材料層
のそれぞれを、薄膜形成方法により形成する。
機能材料層の上に、前記導体層膜を、薄膜形成方法によ
って形成する。
形成することができる。無機機能材料層は、スパッタ
法、気相成長法(CVD)等の薄膜技術によって形成す
ることができる。導体層は、スパッタ法、蒸着法、イオ
ンプレーティング法、溶射法、イオンビーム法、CVD
法またはスピンコート法等の各種の成膜技術によって形
成することができる。
は、添付図面を参照し、更に詳しく説明する。添付図面
は、単に、例示に過ぎない。
る。図1によって表現された電子部品には、コンデン
サ、インダクタまたはそれらの組み合わせ等が含まれ得
る。これらの電子部品は、回路の一部として、他の回路
要素とともに電子回路を構成するものであってもよい
し、それ自体独立する部品形態をとっていてもよい。
2)と、導体層51、52とを含む。これらは、支持層
9によって支持されている。支持層9は、機能層の一部
であってもよいし、機能層とは異なる層であってもよ
い。
22と、無機機能材料層21とを含む。有機樹脂材料層
22及び無機機能材料層21のそれぞれは、各厚みT
1、T2が5μm以下の薄膜であって、互いに隣接す
る。
または無機機能材料層21の少なくとも一方に隣接して
いる。
機能層を含み、機能層は有機樹脂材料層22と無機機能
材料層21とを含む。有機樹脂材料層22及び無機機能
材料層21のそれぞれは互いに隣接する。このように、
有機樹脂材料層22及び無機機能材料層21のそれぞれ
を、互いに隣接させた機能層は、有機樹脂材料層22が
応力緩和層として働くことになるので、焼結フェライト
基板や焼結セラミック基板を用いた従来の積層基板と異
なって、加工工程において、クラックや層間剥離が生じ
にくく、機械的強度に優れているので、製品としての信
頼性に優れている。
で、有機樹脂材料層を単独で用いた場合よりも、電気的
特性、例えば、誘電率やQ値を向上させることができ
る。このため、高性能の電子部品を得ることができる。
料層21のそれぞれが、互いに独立する層として存在す
るので、有機樹脂材料及び無機機能材料を混合したハイ
ブリッド機能層よりも、特性のばらつきが小さくなり、
歩留が向上する。
料層21のそれぞれを、互いに隣接させた機能層は、パ
ンチまたはドリル等を用いて、貫通ビアホール、インナ
ービアホール、ブラインドビアホール及びサーマルビア
ホールのための孔を簡単に形成できる。このようにして
形成されたホール内に導電性ぺースト(Agなど)を充
填して、層間において位置ズレを生じることなく、各種
ビアを確実に形成し得る。このため、電気的接続導体層
及び放熱路を構成することができる。
材料層21のそれぞれを、互いに隣接させた機能層は、
無機機能材料層21を構成する機能材料の種類を選択す
ることにより、所望の電気的及び磁気的特性を持たせる
ことができる。例えば、無機機能材料として、誘電体材
料を用いた場合には、誘電体材料の材料選択により、誘
電率の調整が容易となり、焼結セラミックを用いた積層
基板と異なって、低誘電率化も可能であるとともに、有
機樹脂材料を用いた積層基板よりもQ値が高く、高周波
領域(100MHz以上、特に100MHz以上10G
Hz以下の領域)での使用に好適なものを実現できる。
金属磁性体材料等を選択使用することにより、優れた磁
気特性を利用した用途や、磁気シールドを目的とした用
途にも、自由に対応できる。
波帯域で、比較的高いQや誘電率εを得ることも可能で
ある。このような特性は、例えばストリップライン、イ
ンピーダンス整合回路、遅延回路及びアンテナ回路等を
構成する場合に要求される。しかも、機械的強度に優れ
た機能層を得ることができる。
を示す断面図である。図において、図1に現れた構成部
分と同一の構成部分については、同一の参照符号を付
し、重複説明は省略する。この実施例では、有機樹脂材
料層22及び無機機能材料層21は、各3層による交互
配置とし、このようにして形成された機能層の両側に導
体層51、52を配置してある。
能材料層21の組み合わせを、任意数含むことができ
る。組み合わせは、基本的には、有機樹脂材料層22及
び無機機能材料層21が交互に配置されるようにする。
1のそれぞれは、5μm以下の薄膜である。このよう
に、互いに隣接する有機樹脂材料層22及び無機機能材
料層21のそれぞれが、5μm以下の薄膜であるので、
薄膜による種々の利点が得られる。
小型、低背化が可能である。また、機能層をコンデンサ
要素として利用する場合には、大容量化を達成できる。
このような薄膜の有機樹脂材料層22は、例えば、蒸着
によって形成することができる。無機機能材料層21
は、スパッタ法、気相成長法(CVD)等の薄膜技術に
よって形成することができる。
1、52を含んでおり、導体層51、52は、有機樹脂
材料層22または無機機能材料層21の少なくとも一方
に隣接している。これにより、導体層51、52を介し
て、有機樹脂材料層22または無機機能材料層21の電
気的特性を取り出す電子部品を得ることができる。
及び無機機能材料層21を1層づつ含む機能層毎に設け
てもよいし、有機樹脂材料層22及び無機機能材料層2
1を任意複数層含む機能層に設けてもよい。図示実施例
において、導体層51は、無機機能絶縁層21の表面に
付着され、導体層52は支持層9と有機樹脂材料層22
との間に付着されている。
る。導体層51、52は、スパッタ法、蒸着法、イオン
プレーティング法、溶射法、イオンビーム法、CVD法
またはスピンコート法等の各種の成膜技術によって形成
することができる。
を示す断面図である。図において、図1に現れた構成部
分と同一の構成部分については、同一の参照符号を付
し、重複説明は省略する。この実施例では、有機樹脂材
料層22及び無機機能材料層21は交互配置とし、この
ようにして形成された機能層の片面に、パターン化され
た導体層51を配置してある。
材料層22を構成する有機樹脂材料は、特に限定される
ものではなく、成形性、加工性、積層時の接着性、電気
的特性に優れた有機樹脂材料の中から適宜選択して用い
ることができる。具体的には、熱硬化性有機樹脂材料、
熱可塑性有機樹脂材料等が好ましい。
樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ビニ
ルエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリフェニレンエー
テル(オキサイド)樹脂、ビスマレイミドトリアジン
(シアネートエステル)樹脂、フマレート樹脂、ポリブ
タジエン樹脂またはビニルベンジル樹脂等が挙げられ
る。
リエステル樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポ
リエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタ
レート樹脂、ポリエチレンサルファイド樹脂、ポリエー
テルエーテルケトン樹脂、ポリテトラフルオロエチレン
樹脂、グラフト樹脂、ポリアリレート樹脂等が挙げられ
る。
ポキシ樹脂、低誘電率エポキシ樹脂、ポリブタジエン樹
脂、BTレジン等が、ベースレジンとして好ましい。
よいし、2種以上を混合して用いてもよい。2種以上を
混合して用いる場合の混合比は、任意である。
材料層21を構成する無機機能材料としては、誘電体材
料及び磁性材料を用いることができる。本発明に用いる
誘電体材料は、高周波帯域において、有機樹脂材料より
も大きい比誘電率と、Qとを持つ誘電体材料であればよ
い。特に本発明に用いる誘電体材料は、比誘電率が10
〜20000、誘電正接が0.05以下のものを使用す
ることが好ましい。比較的高い誘電率を得るためには、
特に以下の材料を得ることが好ましい。
クス、チタン−バリウム−スズ系セラミックス、鉛−カ
ルシウム系セラミックス、二酸化チタン系セラミック
ス、チタン酸バリウム系セラミックス、チタン酸鉛系セ
ラミックス、チタン酸ストロンチウム系セラミックス、
チタン酸カルシウム系セラミックス、チタン酸ビスマス
系セラミックス、チタン酸マグネシウム系セラミック
ス、CaWO4系セラミックス、Ba(Mg,Nb)O3
系セラミックス、Ba(Mg,Ta)O3系セラミック
ス、Ba(Co,Mg,Nb)O3系セラミックス、B
a(Co,Mg,Ta)O3系セラミックス。二酸化チ
タン系セラミックスとは、二酸化チタンのみを含有する
もののほか、他の少量の添加物を含有するものを含み、
二酸化チタンの結晶構造が保持されているものをいう。
また、他のセラミックスも同様である。特に、二酸化チ
タン系セラミックスは、ルチル構造を有するものが好ま
しい。
めには、以下の材料を用いることが好ましい。
カリウムウイスカ、チタン酸カルシウムウイスカ、チタ
ン酸バリウムウイスカ、酸化亜鉛ウイスカ、ガラスチョ
ップ、ガラスビーズ、カーボン繊維、酸化マグネシウム
(タルク)。
を混合して用いてもよい。2種以上を混合して用いる場
合、その混合比は任意である。
る誘電体材料の一つの例として、2GHzでの比誘電率
が5〜10000、誘電正接が0.01〜0.0000
2であるものを挙げることができる。このような構成に
より、高いQと比誘電率の無機機能材料層21を得るこ
とが可能である。
多結晶のアルミナでもよく、これらも含めて機能材料の
種類は、例えば、以下の組成を主成分とする誘電体であ
ることが好ましい。併せて2GHzにおける比誘電率ε
およびQ値を示す。
0]、Al2O3[ε=9.8、Q=40000]、Mg
TiO3[ε=17、Q=22000]、ZnTiO
3[ε=26、Q=800]、Zn2TiO4[ε=1
5、Q=700]、TiO2[ε=104、Q=150
00]、CaTiO3[ε=170、Q=1800]、
SrTiO3[ε=255、Q=700]、SrZrO3
[ε=30、Q=1200]、BaTi2O5[ε=4
2、Q=5700]、BaTi4O9[ε=38、Q=9
000]、Ba2Ti9O20[ε=39、Q=900
0]、Ba2(Ti,Sn)9O20[ε=37、Q=50
00]、ZrTiO4[ε=39、Q=7000]、
(Zr,Sn)TiO4[ε=38、Q=7000]、
BaNd2Ti5O14[ε=83、Q=2100]、Ba
Sm2Ti O14[ε=74、Q=2400]、Bi2O 3
−BaO−Nd2O3−TiO2系[ε=88、Q=20
00]、PbO−BaO−Nd2O3−TiO2系[ε=
90、Q=5200]、(Bi2O3、PbO)−BaO
−Nd2O3−TiO2系[ε=105、Q=250
0]、La2Ti2O7[ε=44、Q=4000]、N
d2Ti2O7[ε=37、Q=1100]、(Li,S
m)TiO3[ε=81、Q=2050]、Ba(Mg
1/3Ta2/3)O3[ε=25、Q=35000]、Ba
(Zn1/3Ta2/3)O3[ε=30、Q=1400
0]、Ba(Zn1/3Nb2/3)O3[ε=41、Q=9
200]、Sr(Zn1/3Nb2/3)O3[ε=40、Q
=4000]等。
るものである。
aO−Nd2O3−TiO2系、Bi2O3−BaO−Nd2
O3−TiO2系、BaTi4O9、Ba2Ti9O20、Ba
2(Ti,Sn)9O20系、MgO−TiO2系、ZnO
−TiO2系、MgO−SiO2系、Al2O3等。
る誘電体材料の他の例としては、比誘電率が20〜20
000、誘電正接が0.5〜0.0001であるものも
有効である。このような誘電体材料を用いることで、よ
り高い比誘電率の無機機能材料層21を得ることが可能
である。具体的には以下の組成を主成分とする誘電体材
料から選択されるものが好ましい。併せて2GHzにお
ける比誘電率εを示す。
Pb)TiO3系[ε=6000]、Ba(Ti,Z
r)O3系[ε=9000]、(Ba,Sr)TiO3系
[ε=7000]。
i,Zr)O3系の組成を主成分とする誘電体材料から
選択される。誘電体材料は、単結晶や多結晶でもよい。
としては、フェライト及び金属磁性体材料を用いること
ができる。フェライトとしては、Mn−Mg−Zn系、
Ni−Zn系、Mn−Zn系などであり、Mn−Mg−
Zn系、Ni−Zn系などが好ましい。
鉄−シリコン系合金、鉄−アルミ−珪素系合金(商標
名:センダスト)、鉄−ニッケル系合金(商標名:パー
マロイ)、アモルファス系(鉄系、コバルト系)などが
好ましい。磁性体材料の透磁率μは、10〜10000
00であることが好ましい。また、バルクの絶縁性は、
高い方が機能層としての絶縁性が向上して好ましい。
構成する有機樹脂材料に、難燃剤を含ませることもでき
る。本発明に用いられる難燃剤としては、難燃化のため
に用いられている種々の難燃剤を用いることができる。
具体的には、ハロゲン化リン酸エステル、ブロム化エポ
キシ樹脂等のハロゲン化物、また、リン酸エステルアミ
ド系等の有機化合物や、三酸化アンチモン、水酸化アル
ミニウム等の無機材料を用いることができる。
す。
5−5線に沿った断面図、図6は図4及び図5に示した
コンデンサの内部電極構造を示す斜視図、図7は図5の
A7部の拡大図である。図示されたコンデンサは、基体
1と、内部電極となる複数の導体層51〜58と、端子
電極61、62とを含んでいる。導体層51〜58は基
体1の内部に埋設されており、奇数参照符号が付された
導体層51、53、55、57はその一端が端子電極6
1に接続され、偶数参照符号が付された導体層52、5
4、56、58はその一端が端子電極62に導通接続さ
れている。導体層51〜58のうち、隣接する導体層間
には、誘電体層として働く機能層が存在する。
目すると、図7に拡大して示すように、導体層51−5
2間には、有機樹脂材料層22と、無機機能材料層21
とを含む機能層が存在する。有機樹脂材料層22及び無
機機能材料層21のそれぞれは、各厚みT1、T2が5
μm以下の薄膜であって、互いに隣接する。有機樹脂材
料層22及び無機機能材料層21は、各3層による交互
配置とし、このようにして形成された機能層の両側に導
体層51、52を配置してある。層数が任意であること
は、既に述べた通りである。
52間の機能層を、有機樹脂材料層22と無機機能材料
層21とを隣接させて構成してあるので、有機樹脂材料
層22が応力緩和層として働くことになる。このため、
加工工程において、クラックや層間剥離が生じにくく、
機械的強度に優れたものとなる。
で、有機機能材料層を単独で用いた場合よりも、誘電率
やQ値を向上させることができる。このため、高性能の
コンデンサを得ることができる。誘電率やQ値を向上さ
せるのに適した材料については、既に詳説した通りであ
る。
料層21のそれぞれが、互いに独立する層として存在す
るので、有機樹脂材料及び無機機能材料を混合したハイ
ブリッド機能層よりも、誘電率やQ値のばらつきが小さ
くなり、歩留が向上する。
料層21のそれぞれを、隣接させた機能層は、孔や凹部
を簡単に形成できる。このようにして形成された孔や凹
部に導電性ぺースト(Agなど)を充填して、内部電極
を構成する導体層51〜58と接続する端子電極61、
62を形成することができる。
材料層21のそれぞれは、5μm以下の薄膜であるの
で、小型、低背化が可能である。また、機能層をコンデ
ンサ要素として利用する場合には、大容量化を達成でき
る。このような薄膜の有機樹脂材料層22は、例えば、
蒸着によって形成することができる。無機機能材料層2
1は、スパッタ法、気相成長法(CVD)等の薄膜技術
によって形成することができる。
る。導体層51〜58は、スパッタ法、蒸着法、イオン
プレーティング法、溶射法、イオンビーム法、CVD法
またはスピンコート法等の各種の成膜技術によって形成
することができる。
うなLC複合部品の一例として、LCフィルタ回路を示
している。図示されたLCフィルタ回路は、例えば、3
個のコンデンサC01〜C03と、2つのインダクタL
01、L02とを含んでいる。また、入出力端子となる
端子電極61、62及びアース端子として用いられる端
子電極63を有する。
蔵するLC複合部品の断面図、図10は図9のA10部
の拡大断面図である。図において、先に図示された構成
部分と同一の構成部分については、同一の参照符号を付
してある。図示されたLC複合部品は、コンデンサ部分
11とインダクタ部分12とを積層した構造を持つ。G
NDはグランド電極である。
C01、C02、C03を含んでいる。コンデンサ部分
11において、内部電極を構成する複数の導体層のう
ち、隣接する導体層間、例えば、導体層51−52間の
機能層の構成は、既に図7を参照して説明した通りであ
り、重複説明は省略する。
蛇行状等の適当なパターンを持つ導体層531、532
を含んでいる。導体層531は図8のインダクタL01
を構成し、導体層532は図8のインダクタL02を構
成する。
示すように、有機樹脂材料層22と、無機機能材料層2
1とを含む機能層を有する。有機樹脂材料層22及び無
機機能材料層21のそれぞれは、各厚みT1、T2が5
μm以下の薄膜であって、互いに隣接する。有機樹脂材
料層22及び無機機能材料層21は、各複数層による交
互配置とし、無機機能材料層21の上に導体層531
(または532)を配置してある。有機樹脂材料層22
及び無機機能材料層21の層数が任意であることは、既
に述べた通りである。
料層21は磁性体材料または誘電体材料でなる。その詳
細については、既に述べたので、重複説明は省略する。
品は、導体層51−52間の機能層を、有機樹脂材料層
22と無機機能材料層21とを隣接させて構成してある
ので、有機樹脂材料層22が応力緩和層として働くこと
になる。このため、加工工程において、クラックや層間
剥離が生じにくく、機械的強度に優れたものとなる。
で、有機機能材料層を単独で用いた場合よりも、誘電
率、透磁率及びQ値を向上させることができる。このた
め、高性能のLC複合部品を得ることができる。誘電
率、透磁率及びQ値を向上させるのに適した材料につい
ては、既に詳説した通りである。
料層21のそれぞれが、互いに独立する層として存在す
るので、有機樹脂材料及び無機機能材料を混合したハイ
ブリッド機能層よりも、誘電率、透磁率、Q値のばらつ
きが小さくなり、歩留が向上する。
料層21のそれぞれを、隣接させた機能層は、孔や凹部
を簡単に形成できる。このようにして形成された孔や凹
部に導電性ぺーストを塗布して、内部電極を構成する導
体層531、532と接続する端子電極61、62、6
3を形成することができる。
材料層21のそれぞれは、5μm以下の薄膜であるの
で、小型、低背化が可能である。無機機能材料層21
は、スパッタ法、気相成長法(CVD)等の薄膜技術に
よって形成することができる。導体層531、532
は、スパッタ法、蒸着法、イオンプレーティング法、溶
射法、イオンビーム法、CVD法またはスピンコート法
等の各種の成膜技術によって形成することができる。
通信機器RF部の一例 本発明に係る電子部品に、積層モジュールが含まれるこ
とは前述した通りである。図11は本発明に係る積層モ
ジュールの用いられる移動体通信機器に含まれるRF部
の一例を示すブロック図であり、GSM/DCSデュア
ルバンド対応の構成を示している。回路自体は、周知の
ものである。移動体通信機器によっては、DCSバンド
の代わりに、PCSバンドを用いるものもあり、本発明
は、このような場合も含む。
NTと、フロントエンド部FEと、送信部Txと、受信
部Rxとを含む。更に、フェーズ.ロック.ループPL
L、電圧制御発振器VCO3、ミキサMIX3、フェー
ズ.デティクタPHD、ループフィルタ(Loop Filte
r)等を含んでいる。
信部DCS/Txとに分かれている。送信部DCS/T
xは、電圧制御発振器VCO1、パワーアンプ部PA
1、カプラーCOP1、電力検出部APC1及びローパ
スフィルタLPF1等を備える。
振器VCO2、パワーアンプ部PA2、カプラーCOP
2、電力検出部APC2及びローパスフィルタLPF2
等を備える。
信部DCS/Rxとに分かれている。受信部DCS/R
xは、弾性表面波素子(SAW素子)等でなるバンドパ
スフィルタBPF1、バルーンBAL1、ローノイズア
ンプLNA1及びミキサMIX1等を備える。受信部G
SM/Rxも同様に、弾性表面波素子(SAW素子)等
でなるバンドパスフィルタBPF2、バルーンBAL
2、ローノイズアンプLNA2及びミキサMIX2等を
備える。
IP及び送受信切換器SW1、SW2を含んでいる。送
受信切換器SW1は、外部から供給される制御信号によ
って制御され、送信部DCS/Txまたは受信部DCS
/Rxを、ダイプレクサDIPに選択的に接続する。
る制御信号によって制御され、送信部GSM/Txまた
は受信部GSM/RxをダイプレクサDIPに選択的に
接続する。
GSM/Rx、送信部DCS/Tx及び受信部DCS/
Rxは、ダイプレクサDIPを介して、アンテナANT
に選択的に接続される。
RF部において、送信部GSM/Tx、DCS/Txに
含まれるパワーアンプ部PA1、PA2を積層モジュー
ル化したPA積層モジュール、電圧制御発振器VCO
1、VCO2またはVCO3を積層モジュール化したV
CO積層モジュール、及び、フロントエンド部FEを積
層モジュール化したFE積層モジュールの具体例を開示
する。
積層モジュール) 図12は、図11に図示された送信部DCS/Txに含
まれるパワーアンプ部PA1の一例を示す回路図であ
る。図において、Vapc1端子は、出力制御用に設け
られた端子で、パワーアンプ部PA1の出力は、Vap
c1端子に印加される電圧レベルにより制御される。V
apc1端子に印加される電圧は、図1において、カプ
ラCOP1を介して電力検出部APC1により検出され
た電力検出信号である。
3段構成でなるMMIC(MicrowaveMonolithic IC)1
と、入力整合回路部IM1と、出力整合回路部OM1
と、バイアス回路部BC1とを含んでいる。
信号を増幅する役割を担い、入力整合回路部IM1は、
Pin1端子でのインピーダンス(50Ω)をMMIC
1の入力インピーダンスに整合させ、Pin1端子から
入力された信号をインピーダンス不整合による損失なく
MMIC1の入力へ伝送する役割を担う。
力インピーダンスをPout1端子で見たインピーダン
ス(50Ω)に整合させ、MMIC1から出力された信
号をインピーダンス不整合による損失を生じることな
く、Pout1端子へ伝送させる役割を担い、バイアス
回路部BC1は、MMIC1に含まれる半導体を増幅素
子として動作させる役割を担う。
とコンデンサC1がL型に接続された回路で構成され
る。更に、入力整合回路部IM1にはコンデンサC2が
備えられている。
クタL2とコンデンサC3とのL型回路、2段目がイン
ダクタL3とコンデンサC4とのL型回路、3段目がイ
ンダクタL4とコンデンサC5とのL型回路である。出
力整合回路OM1の出力端にはコンデンサC6が接続さ
れている。
L5〜L7は、MMIC1で増幅された信号をVcc端
子へ漏洩させないよう、理想的には、インピーダンスを
無限大にすることが求められる。このため、通常、(λ
/4)長パターンまたは(λ/4)長パターンに相当す
るインピーダンスを持つインダクタ素子により構成され
る。インダクタL5〜L7のそれぞれには、接地コンデ
ンサC8〜C10が接続されている。
/Txに含まれるパワーアンプ部PA2の具体的な回路
図を示している。図において、Vapc2端子は、出力
制御用に設けられた端子で、パワーアンプ部PA2の出
力は、Vapc2端子に印加される電圧レベルにより制
御される。また、Vapc2端子に印加される電圧は、
図11において、カプラCOP2を介して電力検出部A
PC2により検出された電力検出信号である。
3段構成でなるMMIC2と、入力整合回路部IM2
と、出力整合回路部OM2と、バイアス回路部BC2と
を含んでいる。
信号を増幅する役割を担い、入力整合回路部IM2は、
Pin2端子でのインピーダンス(50Ω)をMMIC
2の入力インピーダンスに整合させ、Pin2端子から
入力された信号をインピーダンス不整合による損失なく
MMIC2の入力へ伝送する役割を担う。
力インピーダンスをPout2端子で見たインピーダン
ス(50Ω)に整合させ、MMIC2から出力された信
号をインピーダンス不整合による損失を生じさせること
なく、Pout2端子へ伝送させる役割を担い、バイア
ス回路部BC2は、MMIC2に含まれる半導体を増幅
素子として動作させる役割を担う。
とコンデンサC11がL型に接続された回路で構成され
る。更に、入力整合回路部IM2にはコンデンサC12
が備えられている。
クタL10とコンデンサC13とのL型回路、2段目が
インダクタL11とコンデンサC14とのL型回路、3
段目がインダクタL2とコンデンサC15とのL型回路
である。出力整合回路OM2の出力端にはコンデンサC
16が接続されている。
L13〜L15は、MMIC2で増幅された信号を漏洩
させないよう、理想的には、インピーダンスを無限大に
することが求められる。このため、通常、(λ/4)長
パターンまたは(λ/4)長パターンに相当するインピ
ーダンスを持つインダクタ素子により構成される。イン
ダクタL13〜L15のそれぞれには、接地コンデンサ
C18〜C20が接続されている。
アンプ部PA1、PA2を積層モジュール化したPA積
層モジュールの分解斜視図、図15は図14に示したP
A積層モジュールの完成状態における斜視図、図16は
同じく内部の接続構造を概略的に示す断面図である。積
層基板100における受動素子の配置については、特に
限定はない。図14〜図16は採用し得る一例を示すに
すぎない。参照符号90はシールドである。
ンド対応のPA積層モジュールを示している。GSM側
では、周波数範囲が880〜915MHzで、出力電力
が、例えば、35.0dBmであるのに対し、DCS側
では周波数範囲が1710〜1785MHzで、出力電
力が、例えば、32.0dBmであり、互いに異なる仕
様であるので、同一の積層基板100において、GSM
側及びDCS側で互いに独立し、GSM用とDCS用の
2回路に分けて並列に配列される。
基板100と、能動素子であるMMIC1、MMIC2
と、受動素子と、電源端子(Vcc1、Vcc2)、信
号端子(Vapc1、Vapc2)、(Pin1、Pi
n2)、(Pout1、Pout2)(図12参照、以
下同様)と、接地用パターンGNDと、貫通ビアホール
40と、ブラインドビアホール30と、インナービアホ
ール20とを含む。
9枚の機能層101〜109を含む。機能層101〜1
09は順次に積層されている。機能層101〜109
は、有機樹脂材料層と、無機機能材料層とを含む。有機
樹脂材料層及び無機機能材料層のそれぞれは、各厚みが
5μm以下の薄膜であって、互いに隣接する。有機樹脂
材料層及び無機機能材料層は、任意複数層による交互配
置とする。層数は任意である。これらの点については、
既に述べた通りである。
は、積層基板100の表面側に位置する機能層101の
上に配置されている。MMIC1、MMIC2の電極
は、機能層101上に形成された導体パターンに接続さ
れる。接続手段としては、図の面実装手段の他、ワイヤ
ーボンディング等も採用できる。
子(Vapc1、Vapc2)、(Pin1、Pin
2)、(Pout1、Pout2)は、図6において、
積層基板100の最下層である機能層109の裏面に形
成された導体パターン50に接続される。
厚み方向に貫通し、一端が、積層基板100の裏面にお
いて、電源端子(Vcc1、Vcc2)、信号端子(V
apc1、Vapc2)、(Pin1、Pin2)、
(Pout1、Pout2)を構成する導体パターン5
0に接続され、または、接地用パターンGNDに導通し
ている。
00の表面または裏面に設けられた導体パターン50
と、次層の導体パターン50との間を接続する。インナ
ービアホール20は、積層基板100の内部に形成され
た導体パターン50を接続する。ブラインドビアホール
30は、一端が積層基板100の内部で終端されてお
り、インナービアホール20は両端が積層基板100の
内部で終端されている。
層モジュールにおいて、積層基板100は、複数の機能
層101〜109を積層して構成されている。機能層1
01〜109の一部または全部は、有機樹脂材料層と、
無機機能材料層とを含む。有機樹脂材料層及び無機機能
材料層のそれぞれは、各厚みが5μm以下の薄膜であっ
て、互いに隣接する。有機樹脂材料層及び無機機能材料
層は、任意複数層による交互配置とする。このような機
能層101〜109は、フェライト等を用いた従来の積
層基板と異なって、加工工程において、クラックや層間
剥離が生じにくく、機械的強度に優れているので、製品
としての信頼性に優れている。また、層間の絶縁抵抗が
クラックによって劣化することがないので、コンデンサ
を形成するのに都合がよい。
層とを交互に配置した機能層101〜109は、パンチ
またはドリル等を用いて、貫通ビアホール40、インナ
ービアホール20、ブラインドビアホール30及びサー
マルビアホール41を簡単に形成できる。このようにし
て形成されたホール内に導電性ぺースト(Agなど)を
充填して、層間において位置ズレを生じることなく、各
種ビアを確実に形成し得る。これにより、電気的接続導
体層及び放熱路を構成することができる。
とを交互に配置した機能層101〜109は、機能材料
の種類を選択することにより、所望の電気的及び磁気的
特性を持たせることができる。例えば、無機機能材料と
して、誘電体材料を用いた場合には、誘電体材料の材料
的選択により、誘電率の調整が容易となり、焼結セラミ
ック基板よりも低誘電率化も可能であるとともに、有機
樹脂材料基板よりも高いQが得られ、高周波領域(10
0MHz以上、特に100MHz以上10GHz以下の
領域)での使用に好適なものを実現できる。
使用することにより、優れた磁気特性を利用した用途や
磁気シールドを目的とした用途に、自由に対応できる。
域で、比較的高いQや誘電率εを得ることも可能であ
る。このような特性は、例えばストリップライン、イン
ピーダンス整合回路、遅延回路及びアンテナ回路等を構
成する場合に要求される。しかも、機械的強度に優れた
積層基板100を実現することができる。
は、電源端子(Vcc1、Vcc2)、信号端子(Va
pc1、Vapc2)、(Pin1、Pin2)、(P
out1、Pout2)を構成する導体パターン50及
び接地用パターンGNDは、積層基板100の裏面に設
けられている。したがって、MMIC1、MMIC2の
設けられている表面側とは反対側の裏面側を、マザーボ
ード等に面付けするPA積層モジュールが得られる。
て、貫通ビアホール40は、積層基板100を厚み方向
に貫通し、一端が、電源端子(Vcc1、Vcc2)、
信号端子(Vapc1、Vapc2)、(Pin1、P
in2)、(Pout1、Pout2)を構成する導体
パターン50または接地用パターンGNDに導通する。
したがって、マザーボード等に面付けする際、裏面側に
おいて、外部回路と接続し、その電気回路を、貫通ビア
ホール40を通して、積層基板100の内部及び積層基
板100の表面に導くことができる。
基板100の表面に搭載されたMMIC1、MMIC
2、及び、積層基板100の内部に形成された受動素子
のための導体パターン50を、電源端子(Vcc1、V
cc2)、信号端子(Vapc1、Vapc2)、(P
in1、Pin2)、(Pout1、Pout2)また
は接地用パターンGNDと接続することができる。
ブラインドビアホール30を含む。ブラインドビアホー
ル30は、機能層101の表面または機能層109の裏
面に設けられた導体パターン50と、次層の機能層10
2または109に設けられた導体パターン50との間を
接続する。したがって、ブラインドビアホール30を用
いて、積層基板100の内部に形成された導体パターン
50を、裏面に導体パターン50として設けられた信号
端子または接地用パターンGNDと接続することができ
る。
ンナービアホール20とを含む。インナービアホール2
0は積層基板100の内部に形成された導体パターン5
0の間を接続するものであって、積層基板100の裏面
には出ない。このため、貫通ビアホール40及びブライ
ンドビアホール30の適切な配置により、積層基板10
0の裏面側における端子の形状や配置に自由度が増すと
ともに、接地用パターンGNDの面積も確保できる。接
地用パターンが裏面の面積の80%以上の面積を占有す
るPA積層モジュールを実現することができる。
2では、機能層101の表面に、コンデンサC12、C
16〜C20を、チップコンデンサ70(図14、図1
5参照)として搭載し、また、インダクタL9、L1
0、L16を導体パターンとして形成する。コンデンサ
C11を構成するコンデンサ電極等も形成されている。
形成する。図12及び図13において、点線円で囲まれ
ていない受動素子が積層基板100の内部及び表面に配
置される。L1、L2、L8、L9、L10、L16は
導体パターン50である。
際、裏面側において、外部回路と接続し、その電気回路
を、貫通ビアホール40及びブラインドビアホール30
を通して、積層基板100の内部及び積層基板100の
表面に導くことができる。
ビアホール30を用いて、積層基板100の表面に搭載
されたMMIC1、MMIC2、及び、積層基板100
の内部に形成された受動素子のための導体パターンを、
電源端子(Vcc1、Vcc2)、信号端子(Vapc
1、Vapc2)、(Pin1、Pin2)、(Pou
t1、Pout2)または接地用パターンGNDと接続
することができる。
の裏面には現れない。このため、裏面において、端子の
形状や配置に自由度が増すとともに、接地用パターンの
面積も確保できる。
機樹脂材料層及び無機機能材料層とを交互に配置した構
成でなる。有機樹脂材料層及び無機機能材料層を構成す
る有機樹脂材料及び無機機能材料については、既に詳説
したとおりであり、誘電率の調整が容易となり、焼結セ
ラミックでなる積層基板と比べて、低誘電率化が可能で
あるとともに、有機樹脂材料による積層基板と比較し
て、高いQが得られ、高周波領域(100MHz以上、
特に100MHz以上10GHz以下の領域)での使用
に好適である。
合は、優れた磁気特性を利用した用途や磁気シールドを
目的とした使用に適している。さらに、高周波帯域で、
比較的高いQやμを得ることも可能である。
CO積層モジュール) 図17はVCO(電圧制御発振器)の回路構成の一例を
示している。図示のVCOは、例えば、図11に示した
回路において、VCO1〜VCO3の少なくとも一つを
構成するために用いられる。図において、電源端子Vc
c3に供給された動作電圧は、抵抗R31〜R33によ
って分圧され、発振回路6に供給される。電源端子Vc
c3にはコンデンサC37が接続されている。
号は、インダクタL31を介して、コンデンサC32、
バリキャップダイオードD31に供給される。インダク
タL31の出力端にはコンデンサC32が接続されてい
る。
は、コンデンサC33を介して、共振回路5が接続さ
れ、共振回路5の後段には発振回路6が接続されてい
る。共振回路5は、コンデンサC34及びストリップラ
インL32によって定まる共振周波数を持つ。
2等を備える。発振回路6は、抵抗R31〜R33によ
って分圧された電圧によってバイアスされ、共振回路5
の回路定数、バリキャップダイオードD31の有する容
量値、コンデンサC33、C35、C36、C39、及
び、インダクタL33等を発振定数として発振動作を
し、コンデンサC40を介して、信号端子Vout3か
ら発振信号を出力する。
をモジュール化したVCO積層モジュールの分解斜視
図、図19は図18に示したVCO積層モジュールの内
部構造を概略的に示す拡大断面図である。積層基板10
0における受動素子の配置については、特に限定はな
い。図は採用し得る一例を示すにすぎない。
ように、8枚の機能層101〜108を順次に積層して
構成されている。機能層101〜108は、有機樹脂材
料層及び無機機能材料層とを交互に配置した構成でな
る。
2、及び、バリキャップダイオードD31、並びに、抵
抗R31〜R33は、積層基板100の表面側に位置す
る機能層101の上に配置されている。他の回路要素
は、積層基板100の内部に埋設される。
端子Vin3、信号端子Vout3は、図18、図19
において、積層基板100の最下層である機能層108
の裏面に形成された導体パターン50に接続される。ま
た、図17の接地線は、接地用パターンGNDに接続さ
れる。
厚み方向に貫通し、一端が、積層基板100の裏面にお
いて、電源端子Vcc3、信号端子Vin3、信号端子
Vout3を構成する導体パターン50に接続されてい
る。
00の表面または裏面に設けられた導体パターン50
と、次層の導体パターン50との間を接続する。インナ
ービアホール20は、積層基板100の内部に形成され
た導体パターン50を接続する。ブラインドビアホール
30は、一端が積層基板100の内部で終端されてお
り、インナービアホール20は両端が積層基板100の
内部で終端されている。
板100を構成する機能層101〜108は、有機樹脂
材料層及び無機機能材料層とを交互に配置した構成であ
る。このような機能層101〜108は、加工工程にお
いて、クラックや層間剥離が生じにくく、機械的強度に
優れているので、製品としての信頼性に優れている。ま
た、層間の絶縁抵抗がクラックによって劣化することが
ないので、コンデンサを形成するのに都合がよい。
層とを交互に配置して構成した積層基板は、パンチまた
はドリル等を用いて、貫通ビアホール40、インナービ
アホール20、ブラインドビアホール30及びサーマル
ビアホール41を簡単に形成できる。このため、層間に
おいて位置ズレを生じることなく、各種ビアを確実に形
成し得る。
とを交互に配置した機能層は、無機機能材料の種類を選
択することにより、所望の電気的及び磁気的特性を持た
せることができる。例えば、無機機能材料として、誘電
体材料を用いた場合には、誘電体材料の材料的選択によ
り、誘電率の調整が容易となり、焼結セラミックによる
積層基板よりも低誘電率化が可能である。これらの材料
については、既に詳説したので、詳細は省略する。
c3、信号端子Vin3、信号端子Vout3を構成す
る導体パターン50及び接地用パターンGNDは、積層
基板100の裏面に設けられている。したがって、積層
基板100の裏面側を、マザーボード等に面付けするこ
とができる。
て、貫通ビアホール40は、積層基板100を厚み方向
に貫通し、一端が、電源端子Vcc3、信号端子Vin
3、信号端子Vout3を構成する導体パターン50に
導通する。したがって、マザーボード等に面付けする
際、裏面側において、外部回路と接続し、その電気回路
を、貫通ビアホール40を通して、積層基板100の内
部及び積層基板100の表面に導くことができる。
基板100の表面に搭載された部品、及び、積層基板1
00の内部に形成された受動素子のための導体パターン
50を、電源端子Vcc3、信号端子Vin3、信号端
子Vout3と接続することができる。
に、ブラインドビアホール30と、インナービアホール
20とを含む。ブラインドビアホール30は、機能層1
01の表面または機能層109の裏面に設けられた導体
パターン50と、次層の機能層102または109に設
けられた導体パターン50との間を接続する。インナー
ビアホール20は積層基板100の内部に形成された導
体パターン50を接続する。
ール30とともに、電源端子Vcc3、信号端子Vin
3、信号端子Vout3または接地用パターンGNDの
ために用いられる。内部の導体パターン間の接続に用い
られるインナービアホール20は積層基板100の裏面
には出ない。このため、貫通ビアホール40、ブライン
ドビアホール30及びインナービアホール20の適切な
組み合わせにより、積層基板100の裏面側における端
子の形状や配置に自由度をもたせるとともに、接地用パ
ターンの面積も確保できる。
E積層モジュール) 図20は本発明に係るFE積層モジュールの回路構成の
一例を示している。図示のFE積層モジュールは、例え
ば、図11に示した回路において、フロントエンド部F
Eに、送信部TxのローパスフィルタLPF1、LPF
2を組合わせた回路構成を有する。
回路において、ローパスフィルタLPF1はインダクタ
L41と、コンデンサC41〜C43とを含んでいる。
ローパスフィルタLPF2はインダクタL51と、コン
デンサC51〜C53とを含んでいる。
ダイオードD61と、抵抗R61と、コンデンサC61
と、インダクタL61とを含み、抵抗R61の一端が切
替信号端子VC3に接続されている。また、DCS/T
x側は、ダイオードD62と、コンデンサC62と、イ
ンダクタL62と、インダクタL63とを含み、コンデ
ンサC62及びインダクタL63の接続点が切替信号端
子VC4に接続されている。
が、ダイオードD71と、抵抗R71と、コンデンサC
71と、インダクタL71とを含み、抵抗R71の一端
が切替信号端子VC1に接続されている。また、GSM
/Tx側は、ダイオードD72と、コンデンサC72
と、インダクタL72と、インダクタL73とを含み、
コンデンサC72及びインダクタL73の接続点が切替
信号端子VC2に接続されている。
ンサC81、C82、C83と、インダクタL81とを
含み、GSM側がコンデンサC84、C85と、インダ
クタL82とを含んでいる。
部にあって、DCS側のコンデンサC82と、GSM側
のコンデンサC85及びインダクタL82の並列回路と
の接続点に接続されている。
係るFE積層モジュールが図20の回路に限定されるも
のでないことは論をまたない。
ンド回路をモジュール化したFE積層モジュールの完成
状態を示す斜視図、図22は図21に示したFE積層モ
ジュールの分解斜視図、図23は図22に示したFE積
層モジュールの内部構造を概略的に示す拡大断面図であ
る。積層基板100における受動素子の配置について
は、特に限定はない。図は採用し得る一例を示すにすぎ
ない。
ように、13枚の機能層101〜113を順次に積層し
て構成されている。機能層101〜113は、有機樹脂
材料層及び無機機能材料層とを交互に配置した構成でな
る。
1、D72、及び、抵抗R61、R71は、積層基板1
00の表面側に位置する機能層101の上に配置されて
いる。他の回路要素は、積層基板100の内部に埋設さ
れる。
及び切替信号端子VC1〜VC4は、図21、図22に
おいて、積層基板100の最下層である機能層113の
裏面に形成された導体パターン50に接続される。ま
た、図20の接地線は接地用パターンGNDに接続され
る。
厚み方向に貫通し、一端が、積層基板100の裏面にお
いて、導体パターン50に接続されている。
00の表面または裏面に設けられた導体パターン50
と、次層の導体パターン50との間を接続する。ブライ
ンドビアホール30を接続した導体パターン50は、信
号端子ST1〜ST4及び切替信号端子VC1〜VC4
のうち、貫通ビアホール40の導体パターン50に接続
されなかった残りを接続するために用いられる。
0の内部に形成された導体パターン50を接続する。ブ
ラインドビアホール30は、一端が積層基板100の内
部で終端されており、インナービアホール20は両端が
積層基板100の内部で終端されている。
100を構成する機能層101〜113は、有機樹脂材
料層及び無機機能材料層とを交互に配置した構成よりな
る。このような機能層101〜113は、加工工程にお
いて、クラックや層間剥離が生じにくく、機械的強度に
優れているので、製品としての信頼性に優れている。ま
た、層間の絶縁抵抗がクラックによって劣化することが
ないので、コンデンサを形成するのに都合がよい。
層とを交互に配置して構成した積層基板100は、パン
チまたはドリル等を用いて、貫通ビアホール40、イン
ナービアホール20及びブラインドビアホール30を簡
単に形成できる。このため、層間において位置ズレを生
じることなく、各種ビアを確実に形成し得る。
とを交互に配置した機能層は、無機機能材料の種類を選
択することにより、所望の電気的及び磁気的特性を持た
せることができる。例えば、無機機能材料として、誘電
体材料を用いた場合には、誘電体材料の材料的選択によ
り、誘電率の調整が容易となり、低誘電率化も可能であ
る。これらの材料については、既に詳説したので、詳細
は省略する。
〜ST4及び切替信号端子VC1〜VC4及び接地用パ
ターンGNDは、積層基板100の裏面に設けられてい
る。したがって、積層基板100の裏面側を、マザーボ
ード等に面付けすることができる。
て、貫通ビアホール40は、積層基板100を厚み方向
に貫通し、一端が、信号端子VC1〜VC4、ST1〜
ST4の何れかに接続される。また、接地用パターンG
NDの何れかに導通する。したがって、マザーボード等
に面付けする際、裏面側において、外部回路と接続し、
その電気回路を、貫通ビアホール40を通して、積層基
板100の内部及び積層基板100の表面に導くことが
できる。
て、受動素子のための導体パターン50を、信号端子S
T1〜ST4または切替信号端子VC1〜VC4と接続
することができる。
の内部に形成された導体パターン50の間を接続する。
これらの内部接続に当たっては、貫通ビアホール40は
用いない。このため、積層基板100の裏面側における
端子配置の形状や配置に自由度が増すとともに、接地用
パターンの面積も確保できる。
型、かつ、高性能で、しかも電気的特性の優れた積層モ
ジュールを提供することができる。
る。
図である。
図である。
造を示す斜視図である。
複合部品の断面図である。
動体通信機器に含まれるRF部の一例を示すブロック図
である。
まれるパワーアンプ部PA1の回路図の一例を示してい
る。
まれるパワーアンプ部PA2の一例を示す回路図であ
る。
A1、PA2を積層モジュール化したPA積層モジュー
ルの分解斜視図である。
態における斜視図である。
接続構造を概略的に示す断面図である。
を示す電気回路図である。
ル化したVCO積層モジュールの分解斜視図である。
構造を概略的に示す拡大断面図である。
の一例を示している。
モジュール化したFE積層モジュールの完成状態を示す
斜視図である。
視図である。
造を概略的に示す拡大断面図である。
Claims (12)
- 【請求項1】 機能層と、導体層とを含む電子部品であ
って、 前記機能層は、有機樹脂材料層と、無機機能材料層とを
含み、 前記有機樹脂材料層及び前記無機機能材料層のそれぞれ
は、5μm以下の薄膜であって、互いに隣接しており、 前記導体層は、前記有機樹脂材料層または前記無機機能
材料層の少なくとも一方に隣接している電子部品。 - 【請求項2】 請求項1に記載された電子部品であっ
て、前記無機機能材料層は、誘電体層または磁性体層の
何れかである電子部品。 - 【請求項3】 請求項1または2の何れかに記載された
電子部品であって、前記有機樹脂材料層及び前記無機機
能材料層は、交互に配置されている電子部品。 - 【請求項4】 請求項1乃至3の何れかに記載された電
子部品であって、前記導体層は、少なくとも1組の前記
有機樹脂材料層及び前記無機機能材料層を間に挟んで、
その両側に配置されている電子部品。 - 【請求項5】 請求項1乃至3の何れかに記載された電
子部品であって、前記導体層は、前記有機樹脂材料層及
び前記無機機能材料層の間に配置されている電子部品。 - 【請求項6】 請求項1乃至5の何れかに記載された電
子部品であって、前記導体層は、パターン化されている
電子部品。 - 【請求項7】 請求項1乃至6の何れかに記載された電
子部品であって、コンデンサである電子部品。 - 【請求項8】 請求項1乃至6の何れかに記載された電
子部品であって、インダクタである電子部品。 - 【請求項9】 請求項1乃至6の何れかに記載された電
子部品であって、コンデンサ及びインダクタを含む電子
部品。 - 【請求項10】 請求項1乃至9の何れかに記載された
電子部品であって、前記機能層及び前記導体層の組み合
わせは、積層基板を構成する電子部品。 - 【請求項11】 請求項10に記載された電子部品であ
って、更に、能動素子を含んでおり、前記能動素子は前
記積層基板に搭載されている電子部品。 - 【請求項12】 請求項1乃至11の何れかに記載され
た電子部品を製造する方法であって、 前記有機樹脂材料層及び前記無機機能材料層のそれぞれ
を、薄膜形成方法により形成し、 更に、前記有機樹脂材料層または前記無機機能材料層の
上に、前記導体層膜を、薄膜形成方法によって形成する
工程を含む電子部品の製造方法。
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WO2006013753A1 (ja) * | 2004-08-06 | 2006-02-09 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 高周波複合部品 |
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JP2012028799A (ja) * | 2011-09-20 | 2012-02-09 | Hitachi Metals Ltd | インダクタ内蔵部品及びこれを用いたdc−dcコンバータ |
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