JP2012126078A - 光学素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】チタン系のゾルゲル材料を基板1に塗布し、真空乾燥を施して乾燥ゾルゲル皮膜であるチタニアゾル層2を形成し、その上に、型3を用いた型押し成形によりラインアンドスペース構造を転写後離型して、微細構造を有するチタニアゾル層4を形成する。次いで、加熱によりゾルゲル材料の脱水縮合反応を促進して硬化させることで、ラインアンドスペース構造を有する酸化チタン構造部5を形成する。
【選択図】図1
Description
2、4、9、11、24 チタニアゾル層
3、10 型
5、13 酸化チタン構造部
6、12 ガラス基板
8、18 剥離層
14、16 直角プリズム
15 積層酸化チタン構造部
19 乾燥ゾル層
21 積層用転写基板
23 積層基板
25 積層構造部
Claims (7)
- 微細構造を有する光学素子の製造方法において、
基板にゾルゲル材料を塗布し、乾燥させて乾燥ゾルゲル皮膜を形成する工程と、
前記乾燥ゾルゲル皮膜に型を押しつけて微細構造を転写した後、前記型を離型する工程と、
前記微細構造が転写された前記乾燥ゾルゲル皮膜を、前記ゾルゲル材料の脱水縮合反応を促進する温度に加熱して硬化処理する工程と、を有することを特徴とする光学素子の製造方法。 - 微細構造を有する光学素子の製造方法において、
第1の基板にゾルゲル材料を塗布し、乾燥させて乾燥ゾルゲル皮膜を形成する工程と、
前記乾燥ゾルゲル皮膜に型を押しつけて微細構造を転写した後、前記型を離型する工程と、
前記微細構造が転写された前記乾燥ゾルゲル皮膜の微細構造頂部を第2の基板に接触させ、前記ゾルゲル材料の脱水縮合反応を促進する温度に加熱して硬化処理するとともに前記第2の基板と接合させる工程と、を有することを特徴とする光学素子の製造方法。 - 微細構造を有する光学素子の製造方法において、
剥離層を有する第1の基板を準備する工程と、
前記第1の基板の前記剥離層にゾルゲル材料を塗布し、乾燥させて乾燥ゾルゲル皮膜を形成する工程と、
前記乾燥ゾルゲル皮膜に型を押しつけて微細構造を転写した後、前記型を離型する工程と、
前記微細構造が転写された前記乾燥ゾルゲル皮膜の微細構造頂部を第2の基板に接触させ、前記ゾルゲル材料の脱水縮合反応を促進する温度に加熱して硬化処理するとともに前記第2の基板と接合させる工程と、
前記剥離層を溶融し、前記第1の基板を剥離する工程と、を有することを特徴とする光学素子の製造方法。 - 前記乾燥ゾルゲル皮膜は、前記基板に塗布されたゾルゲル材料に真空乾燥を施すことで形成されることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の光学素子の製造方法。
- 前記微細構造が、サブ波長以下のピッチで、アスペクト比1.5以上のラインアンドスペース構造、ホール構造またはポスト構造であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の光学素子の製造方法。
- 前記第2の基板は、前記微細構造に積層される積層用微細構造を有することを特徴とする請求項2ないし5のいずれか1項に記載の光学素子の製造方法。
- 前記第2の基板は、前記微細構造に積層される積層用乾燥ゾルゲル皮膜を有することを特徴とする請求項2ないし5のいずれか1項に記載の光学素子の製造方法。
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EP3112924B1 (en) * | 2015-06-30 | 2021-07-28 | ams AG | Optical hybrid lens and method for producing an optical hybrid lens |
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005053006A (ja) * | 2003-08-06 | 2005-03-03 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 微小成形体の製造方法 |
JP2007246295A (ja) * | 2006-03-13 | 2007-09-27 | Asahi Glass Co Ltd | 機能薄膜付きガラス板の製造方法及び製造装置 |
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---|---|---|---|---|
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AU3474900A (en) * | 1999-02-05 | 2000-08-25 | Corning Incorporated | Optical fiber component with shaped optical element and method of making same |
DE10001135A1 (de) * | 2000-01-13 | 2001-07-19 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Oberflächenreliefs durch Prägen thixotroper Schichten |
US7141275B2 (en) * | 2004-06-16 | 2006-11-28 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Imprinting lithography using the liquid/solid transition of metals and their alloys |
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PL2122419T3 (pl) * | 2007-02-15 | 2015-12-31 | Leibniz Institut Fuer Neue Mat Gemeinnuetzige Gmbh | Sposób przenoszenia struktur powierzchniowych, takich jak warstwy interferencyjne, hologramy i inne wysokoreferencyjne mikrostruktury optyczne |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005053006A (ja) * | 2003-08-06 | 2005-03-03 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 微小成形体の製造方法 |
JP2007246295A (ja) * | 2006-03-13 | 2007-09-27 | Asahi Glass Co Ltd | 機能薄膜付きガラス板の製造方法及び製造装置 |
JP2009080434A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-16 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 光学素子製造方法および光学素子 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015210416A (ja) * | 2014-04-28 | 2015-11-24 | 日本電気硝子株式会社 | 光学素子及びその製造方法 |
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