JP2012124404A - フォトダイオードおよびその製造方法 - Google Patents
フォトダイオードおよびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012124404A JP2012124404A JP2010275496A JP2010275496A JP2012124404A JP 2012124404 A JP2012124404 A JP 2012124404A JP 2010275496 A JP2010275496 A JP 2010275496A JP 2010275496 A JP2010275496 A JP 2010275496A JP 2012124404 A JP2012124404 A JP 2012124404A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- contact layer
- light absorption
- compound semiconductor
- semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Light Receiving Elements (AREA)
Abstract
【課題】フォトダイオードを構成している光吸収層を含むメサ部側壁における電流リークの問題が解消できるようにする。
【解決手段】基板101の上に形成された第1導電型の第1化合物半導体からなる下側コンタクト層102と、下側コンタクト層102の上に形成された第1化合物半導体からなる電子走行層103と、電子走行層103の上に形成された第2化合物半導体からなる光吸収層104と、光吸収層104の上に形成された第2導電型の第1化合物半導体からなる上側コンタクト層105と、下側コンタクト層102に形成された第1電極106および上側コンタクト層105に形成された第2電極107とを少なくとも備え、基板101の上で、電子走行層103は、光吸収層104および上側コンタクト層105より広い面積に形成されている。
【選択図】 図1
【解決手段】基板101の上に形成された第1導電型の第1化合物半導体からなる下側コンタクト層102と、下側コンタクト層102の上に形成された第1化合物半導体からなる電子走行層103と、電子走行層103の上に形成された第2化合物半導体からなる光吸収層104と、光吸収層104の上に形成された第2導電型の第1化合物半導体からなる上側コンタクト層105と、下側コンタクト層102に形成された第1電極106および上側コンタクト層105に形成された第2電極107とを少なくとも備え、基板101の上で、電子走行層103は、光吸収層104および上側コンタクト層105より広い面積に形成されている。
【選択図】 図1
Description
本発明は、光通信用などに用いることができる広帯域フォトダイオードおよびその製造方法に関するものである。
フォトダイオードは、長波長帯(1.3μm帯〜1.5μm帯)の光通信システムに、レシーバ装置の受光デバイスとして広く使用されている。光通信システムでは、伝送容量の増大により動作速度の高速化が要求されており、高速動作が可能な化合物半導体によるフォトダイオードが主に用いられている(特許文献1,2,3参照)。
例えば、InP系やGaAs系の化合物半導体を用い、p型半導体層,ノンドープ(i型)半導体層、n型半導体層から構成したpin構造のフォトダイオードが用いられている。このフォトダイオードは、入射した光が、バイアス電界の印加されたi型半導体層(光吸収層)で吸収された後、電子と正孔に変換されて電気信号として検出される。光吸収層としては、低濃度に不純物が導入されている場合もある。
また、より高い周波数応答と飽和出力の改善を目的とし、電子走行層を加えたフォトダイオードが提案されている(特許文献4参照)。例えば、図5に示すように、電子走行層503を備えるフォトダイオードがある。図5に例示するフォトダイオードは、まず、基板501、コンタクト層502,電子走行層503,光吸収層504,コンタクト層505を備えている。
なお、下側コンタクト層502および上側コンタクト層505には、電極506および電極507が形成され、コンタクト層505の光入射領域には、反射防止膜508が形成されている。また、電子走行層503,光吸収層504,コンタクト層505より構成されるメサ部の側面には、有機樹脂からなるパッシベーション膜511が形成されている。
このフォトダイオードでは、光の入射により光吸収層504でキャリアが発生し、この発生したキャリアが電子走行層503を移動(走行)するようにし、キャリアの発生と走行を分離している。これにより、上記フォトダイオードによれば、走行速度の大きなキャリア(電子)のみを使用することができ、応答速度や出力振幅特性が改善できる。
大久保 哲 他、「低温クエン酸系異方性選択エッチングを用いたGaAs HJFRT作製プロセス」、信学技報、TECHNICAL REPORT OF IEICE、ED96−122,15〜20頁、1996年。
しかしながら、上述したフォトダイオードでは、動作時において、メサ部側壁のパッシベーション膜との界面近傍に、電流リークが発生して性能の劣化を招くという問題がある。メサ部は、公知のパターニング技術で形成しており、メサ部の側壁は化合物半導体の結晶構造が不完全な状態となっており、これを原因として表面準位が生じている。この表面準位は、いわゆる発生再結合中心として振る舞うので、電圧印加時に発生再結合電流が流れ、電流リークが増大し、素子性能の劣化を招いている。
本発明は、以上のような問題点を解消するためになされたものであり、フォトダイオードを構成している光吸収層を含むメサ部側壁における電流リークの問題が解消できるようにすることを目的とする。
本発明に係るフォトダイオードは、基板の上に形成された第1導電型の第1化合物半導体からなる下側コンタクト層と、この下側コンタクト層の上に形成された第1化合物半導体からなる電子走行層と、この電子走行層の上に形成された第2化合物半導体からなる光吸収層と、この光吸収層の上に形成された第2導電型の第1化合物半導体からなる上側コンタクト層と、下側コンタクト層に形成された第1電極および上側コンタクト層に形成された第2電極とを少なくとも備え、第2化合物半導体は、対象とする光の波長に対応するバンドギャップエネルギーを有し、第1化合物半導体は、第2化合物半導体より大きなバンドギャップエネルギーを有し、下側コンタクト層および上側コンタクト層は、不純物を導入することで導電型とされ、電子走行層は、下側コンタクト層および上側コンタクト層よりも不純物濃度が低い状態とされ、電子走行層は、光吸収層および上側コンタクト層より広い面積に形成されている。
上記フォトダイオードにおいて、電子走行層および光吸収層の間に形成された第1導電型の第1化合物半導体からなる電界制御層を備えるようにしてもよい。なお、電界制御層は、不純物を導入することで第1導電型とされ、電子走行層および光吸収層は、下側コンタクト層,電界制御層、および上側コンタクト層よりも不純物濃度が低い状態とされていればよい。
上記フォトダイオードにおいて、光吸収層と上側コンタクト層との間に配置され、第2導電型の第2化合物半導体からなる第2導電型光吸収層を備えるようにしてもよい。
また、本発明に係るフォトダイオードの製造方法は、基板の上に第1導電型の第1化合物半導体からなる下側コンタクト層を形成する工程と、下側コンタクト層の上に第1化合物半導体からなる第1半導体層を形成する工程と、第1半導体層の上に、第1化合物半導体よりバンドギャップエネルギーが小さく、対象とする光の波長に対応するバンドギャップエネルギーを有する第2化合物半導体からなる第2半導体層を形成する工程と、第2半導体層の上に第2導電型の第1化合物半導体からなる第3半導体層を形成する工程と、第3半導体層を第1マスクパターンを用いて第1エッチャントで選択的にエッチングして上側コンタクト層を形成する工程と、第2半導体層を第1マスクパターンを用いて第2エッチャントで選択的にエッチングして光吸収層を形成する工程と、第1半導体層を第1マスクパターンより面積の大きい第2マスクパターンを用いて第1エッチャントで選択的にエッチングして光吸収層および上側コンタクト層より広い面積の電子走行層を形成する工程と、下側コンタクト層に接続する第1電極および上側コンタクト層に接続する第2電極を形成する工程とを少なくとも備える。
上記フォトダイオードの製造方法において、第2半導体層の形成の前に、第1半導体層の上に、第1導電型の第1化合物半導体からなる第4半導体層を形成する工程と、光吸収層を形成した後の電界制御層を形成する前に、第4半導体層を第1マスクパターンを用いて第1エッチャントで選択的にエッチングして電界制御層を形成する工程とを備えるようにしてもよい。
上記フォトダイオードの製造方法において、第3半導体層の形成の前に、第2半導体層の上に、第2導電型の第2化合物半導体からなる第5半導体層を形成する工程と、上側コンタクト層を形成した後の光吸収層を形成する前に、第5半導体層を第1マスクパターンを用いて第2エッチャントで選択的にエッチングして第2導電型光吸収層を形成する工程とを備えるようにしてもよい。
以上説明したように、本発明によれば、下側コンタクト層の上に形成される電子走行層を、光吸収層および上側コンタクト層より広い面積としたのでフォトダイオードを構成している光吸収層を含むメサ部側壁における電流リークの問題が解消できるようになるという優れた効果が得られる。
以下、本発明の実施の形態について図を参照して説明する。
[実施の形態1]
はじめに、本発明の実施の形態1について説明する。図1は、本発明の実施の形態1におけるフォトダイオードの構成を模式的に示す断面図である。
はじめに、本発明の実施の形態1について説明する。図1は、本発明の実施の形態1におけるフォトダイオードの構成を模式的に示す断面図である。
このフォトダイオードは、基板101の上に形成された第1導電型の第1化合物半導体からなる下側コンタクト層102と、下側コンタクト層102の上に形成された第1化合物半導体からなる電子走行層103と、電子走行層103の上に形成された第2化合物半導体からなる光吸収層104と、光吸収層104の上に形成された第2導電型の第1化合物半導体からなる上側コンタクト層105と、下側コンタクト層102に形成された第1電極106および上側コンタクト層105に形成された第2電極107とを少なくとも備え、基板101の上で、電子走行層103は、光吸収層104および上側コンタクト層105より広い面積に形成されている。なお、電子走行層103は、下側コンタクト層102の上に接して形成されている。
ここで、光吸収層104は、対象とする光の波長に対応するバンドギャップエネルギーを有する第2化合物半導体から構成され、下側コンタクト層102,電子走行層103,および上側コンタクト層105は、第2化合物半導体より大きなバンドギャップエネルギーを有する第1化合物半導体から構成され、下側コンタクト層102および上側コンタクト層105は、不純物を導入することで導電型とされ、電子走行層103は、下側コンタクト層102および上側コンタクト層105よりも不純物濃度が低い状態とされていればよい。
例えば、基板101は、GaAsからなる半導体基板であればよい。また、下側コンタクト層102は、より高濃度に不純物が導入されたn+型のAlGaAs(n+−AlGaAs)から構成されていればよい。この場合、上述した第1導電型がn型となり、第2導電型がp型となる。また、電子走行層103は、不純物が導入されたn型のAlGaAs(n−AlGaAs)から構成されていればよい。
また、光吸収層104は、動作時に必要以上空乏化しない様に適正なドーピングレベルに調整されたp型のGaAs(p+−GaAs)から構成されていればよい。また、上側コンタクト層105は、より高濃度に不純物が導入されたp+型のAlGaAs(p+−AlGaAs)から構成されていればよい。例えば、Siを不純物として導入することで、GaAs,AlGaAsはn型とすることができる。また、例えば、Znを不純物として導入することで、GaAs,AlGaAsはp型とすることができる。上述の場合、第1化合物半導体がAlGaAsであり、第2化合物半導体がGaAsである。
なお、電子走行層103,光吸収層104,および上側コンタクト層105は、所望とする形状にパターニングされ、一部の下側コンタクト層102は露出し、この露出領域に、第1電極106が形成されている。また、本実施の形態では、上側コンタクト層105を形成している領域が受光領域となるので、上側コンタクト層105の中央部が開放されるように、第2電極107が形成されている。例えば、リング状の第2電極107が、上側コンタクト層105の周縁部に接して形成されている。また、第2電極107以外の領域の上側コンタクト層105(受光領域)の上には、反射防止膜108が形成されている。
ここで、光吸収層104および上側コンタクト層105によりメサ部が構成され、このメサ部および電子走行層103は、各々の中心部が一致するように積層され、メサ部より広い面積に電子走行層103が形成されている。従って、メサ部の周囲に、電子走行層103の延在部103aが形成されることになる。また、メサ部の側壁から延在部103aの上面にかけて、パッシベーション膜111を備え、素子の保護を行っている。パッシベーション膜111は、例えば、ベンゾシクロブテン(BCB)の単層、下層のBCB膜と上層のSiN膜との2層、または下層のSiN膜と中下層のSiO2膜と中上層のBCB膜と上層のSiN膜との4層などから構成することができる。
従来の構造(図5)では、メサ側面の電子走行層は、垂直に加工されているためにすべて空乏化し、先に述べた様に発生再結合電流が流れる。一方、本実施の形態では、延在部103aを設けたことにより、電子走行層の上面のみが空乏化する。ただし、空乏化は光吸収層の電子走行層側の端から二次元的に広がるので、光吸収層の電位降下が増大し、電子走行層の電位降下と空乏化広がりは相対的に狭くなる。このため、電子走行層表面に起因する発生再結合電流が低減される。この結果、本実施の形態によれば、メサ部の側壁におけるリーク電流を抑制することができるようになる。また、パッシベーション膜111を設ける場合、メサ部側壁(パッシベーション膜111との界面)におけるリーク電流がより流れやすい状態となっているので、延在部103aを設けることがより効果的である。
次に、本実施の形態におけるフォトダイオードの製造方法について、図2A〜図2Dを用いて説明する。まず図2Aに示すように、GaAsからなる基板101の上に、n+−AlGaAsからなる下側コンタクト層102,電子走行層103となるn−AlGaAs層(第1半導体層)201,光吸収層104となるp+−GaAs層(第2半導体層)202,および上側コンタクト層105となるp+−AlGaAs層(第3半導体層)203を順次堆積する。これらは、よく知られたMOVPE法により形成すればよい。
次に、公知のリソグラフィー技術およびエッチング技術によりp+−GaAs層202およびp+−AlGaAs層203をメサ構造にパターニングし、図2Bに示すように、n−AlGaAs層201の上に光吸収層104および上側コンタクト層105を形成する。例えば、まず、リソグラフィー技術で形成した図示しないマスクパターン(第1マスクパターン)をマスクとし、塩酸をエッチャント(エッチング液)としたウエットエッチングにより、p+−AlGaAs層203を選択的にエッチングすることで、上側コンタクト層105が形成できる。
また、同じマスクパターンを用い、アンモニアおよび過酸化水素の混合液をエッチング液としたウエットエッチングにより、p+−GaAs層202を選択的にエッチングすることで、光吸収層104が形成できる。アンモニアおよび過酸化水素によりエッチング液によれば、n−AlGaAs層201に対して選択的にp+−GaAs層202をエッチングすることができる。なお、光吸収層104を形成した後、上記マスクパターンは除去する。図2Bは、マスクパターンを除去した後の状態を示している。
次に、公知のリソグラフィー技術およびエッチング技術によりn−AlGaAs層201をパターニングし、図2Cに示すように、延在部103aを備える状態に電子走行層103を形成する。このパターニングでは、上述した上側コンタクト層105および光吸収層104の形成に用いたマスクパターンより面積の大きいマスクパターン(不図示:第2マスクパターン)を用い、塩酸をエッチング液としたウエットエッチングによりn−AlGaAs層201を選択的にエッチングすればよい。なお、図2Cは、マスクパターンを除去した後の状態を示している。
次に、図2Dに示すように、第1電極106および第2電極107を形成する。第1電極106はチタン層/白金層/金層の3層構造、第2電極107は白金層/チタン層/白金層/金層の4層構造とし、各半導体層にオーミック接続していればよい。また、反射防止膜108を形成する。これらは、よく知られたリフトオフ法により形成すればよい。この後、例えばベンゾシクロブテンを塗布することで、メサ部、延在部103aを含めた下側コンタクト層102の上に樹脂膜を形成し、この樹脂膜をパターニングすることで、図1に示すように、パッシベーション膜111を形成する。
あるいは、例えばBCBを塗布することで、メサ部、延在部103aを含めた下側コンタクト層102の上に樹脂膜を形成し、この樹脂膜をパターニングしたうえでさらにこの上にプラズマCVD法などを用いてSiN膜を成長させ、さらにこのSiN膜をパターニングすることで、パッシベーション膜111を形成してもよい。あるいは、プラズマCVDなどを用いてSiN膜を成長させ、この上にプラズマCVD法などを用いてSiO2膜を成長させ、この上にさらに例えばBCBを塗布し、このBCB膜をパターニングしたうえでさらにこの上にプラズマCVDなどを用いてSiN膜を成長させ、さらにこれら下地のSiN膜並びに最上層のSiN膜をパターニングすることで、パッシベーション膜111を形成してもよい。
本実施の形態におけるフォトダイオードは、第1電極106および第2電極107の間に逆方向のバイアス電圧を印加することで、光吸収層104はほぼ中性とした状態で電子走行層103を空乏化させる。この動作状態で、上側コンタクト層105より光が入射すると、光吸収層104で電子・正孔対が発生する。発生した電子および正孔のうち、電子は電子走行層103に拡散し、第1電極106および第2電極107に接続している外部回路(不図示)に電流が出力される。ここで、光吸収層104は、バイアス状態で空乏化しないように一定以上の不純物濃度とし、電子走行層103は空乏化するように低い不純物濃度に設定する。光吸収層104は、ほとんどの領域が中性となることが好ましいが、一部は空乏化しても構わない。
上述した本実施の形態におけるフォトダイオードの製造方法によれば、光吸収層104を構成する化合物半導体と電子走行層103を構成する化合物半導体との、エッチャントに対するエッチングの選択性(エッチング速度の違い)を利用することで、電子走行層103に延在部103aを形成することを可能としている。なお、上述では、電子走行層103と等しい層厚で延在部103aを形成したが、これに限るものではない。例えば、延在部103aを電子走行層103より薄く形成してもよい。この場合、電子走行層103の上部が、メサ部を構成することになる。
[実施の形態2]
次に、本発明の実施の形態2について説明する。図3は、本発明の実施の形態2におけるフォトダイオードの構成を示す断面図である。このフォトダイオードは、基板301の上に形成された第1導電型の第1化合物半導体からなる下側コンタクト層302と、下側コンタクト層302の上に形成された第1化合物半導体からなる電子走行層303と、電子走行層303の上に形成された第1導電型の第1化合物半導体からなる電界制御層304と、電界制御層304の上に形成された第2化合物半導体からなる光吸収層305を備える。
次に、本発明の実施の形態2について説明する。図3は、本発明の実施の形態2におけるフォトダイオードの構成を示す断面図である。このフォトダイオードは、基板301の上に形成された第1導電型の第1化合物半導体からなる下側コンタクト層302と、下側コンタクト層302の上に形成された第1化合物半導体からなる電子走行層303と、電子走行層303の上に形成された第1導電型の第1化合物半導体からなる電界制御層304と、電界制御層304の上に形成された第2化合物半導体からなる光吸収層305を備える。
また、このフォトダイオードは、光吸収層305の上に形成された第2導電型の第2化合物半導体からなる第2導電型光吸収層306と、第2導電型光吸収層306の上に形成された第2導電型の第2化合物半導体からなる上側コンタクト層307と、下側コンタクト層302に形成された第1電極308および上側コンタクト層307に形成された第2電極309とを少なくとも備え、基板301の上で、電子走行層303は、光吸収層305および上側コンタクト層307より広い面積に形成されている。なお、電子走行層303は、下側コンタクト層302の上に接して形成されている。
ここで、光吸収層305および第2導電型光吸収層306は、対象とする光の波長に対応するバンドギャップエネルギーを有する第2化合物半導体から構成され、下側コンタクト層302,電子走行層303,電界制御層304,および上側コンタクト層307は、第2化合物半導体より大きなバンドギャップエネルギーを有する第1化合物半導体から構成され、下側コンタクト層302,電界制御層304,第2導電型光吸収層306,および上側コンタクト層307は、不純物を導入することで各々の導電型とされ、電子走行層303および光吸収層305は、下側コンタクト層302,電界制御層304、および上側コンタクト層307よりも不純物濃度が低い状態とされていればよい。
例えば、基板301は、GaAsからなる半導体基板であればよい。また、下側コンタクト層302は、より高濃度に不純物が導入されたn+−AlGaAsから構成されていればよい。この場合、上述した第1導電型がn型となり、第2導電型がp型となる。また、電子走行層303は、より低濃度に不純物が導入されたn-−AlGaAsから構成されていればよい。また、電界制御層304は、n−AlGaAsから構成されていればよい。
また、光吸収層305は、ノンドープのGaAsから構成されていればよい。また、第2導電型光吸収層306は、p−GaAsから構成されていればよい。また、上側コンタクト層307は、p+−AlGaAsから構成されていればよい。上述の場合、第1化合物半導体がAlGaAsであり、第2化合物半導体がGaAsである。
なお、電子走行層303,電界制御層304,光吸収層305,第2導電型光吸収層306,および上側コンタクト層307は、所望とする形状(メサ構造)にパターニングされ、一部の下側コンタクト層302は露出し、この露出領域に、第1電極308が形成されている。また、受光領域となる上側コンタクト層307の中央部が開放されるように、第2電極309が形成されている。例えば、リング状の第2電極309が、上側コンタクト層307の周縁部に接して形成されている。また、第2電極309以外の領域の上側コンタクト層307(受光領域)の上には、反射防止膜310が形成されている。
ここで、本実施の形態では、メサ構造とされているメサ部は、電子走行層303の途中まで形成され、電子走行層303の下部は、メサ部より広い面積に形成されて延在部303aを備える。延在部303aは、上記メサ部の周囲に配置されている。また、メサ部の側壁から延在部303aの上面にかけて、パッシベーション膜311を備え、素子の保護を行っている。パッシベーション膜311は、例えば、ベンゾシクロブテン(BCB)の単層、下層のBCB膜と上層のSiN膜との2層、または下層のSiN膜と中下層のSiO2膜と中上層のBCB膜と上層のSiN膜との4層などから構成することができる。
このように延在部303aを設けたことにより、本実施の形態によれば、実施の形態1の場合と同様に、空乏化は光吸収層の電子走行層側の端から二次元的に広がるので、光吸収層の電位降下が増大し、電子走行層の電位降下と空乏化広がりは相対的に狭くなる。この結果、電子走行層表面に起因する発生再結合電流が低減される。
この結果、本実施の形態によれば、メサ部の側壁におけるリーク電流を抑制することができるようになる。また、パッシベーション膜311を設ける場合、メサ部側壁(パッシベーション膜311との界面)におけるリーク電流がより流れやすい状態となっているので、延在部303aを設けることがより効果的である。なお、本実施の形態では、延在部303aを電子走行層303より薄く形成したが、これに限るものではなく、前述した実施の形態1と同様に、延在部303aを電子走行層303と同じ層厚に形成してもよい。
また、本実施の形態におけるフォトダイオードでは、逆方向のバイアス電圧を印加すると、不純物濃度が低くされている電子走行層303およびノンドープの光吸収層305が空乏化し、動作可能状態となる。一方で、第2導電型光吸収層306は不純物濃度が高いため空乏化しない。このフォトダイオードに光信号を入力すると、光吸収層305および第2導電型光吸収層306で電子・正孔対が発生し、外部回路に電流が出力される。また、第2導電型光吸収層306を備えているので、受光感度をより増大することが可能となる。
なお、本実施の形態でも、光吸収が起こらないバンドギャップエネルギーに設定されている電子走行層303では、電子のみが走行する。このように動作する中で、本実施の形態では、電界制御層304を備えているので、バイアス電圧が印加されている動作時において、電子走行層303の電界強度を低くすることができ、動作に必要なバイアス電圧を低くすることができる。
このことについて、簡単に説明する。電界制御層304を備えることで、電界制御層304のドナー電荷により、光吸収層305の電界強度に対して電子走行層303の電界強度を低くすることができる。光吸収層305内は、光吸収により発生した電子と正孔の両者が走行するのに対し、電子走行層303内では、電子のみが走行するので、電界強度を高くする必要ない。これは、不純物濃度がより低くされている電子走行層303では、電子移動度が高く、あまり高いバイアス電圧を印加しなくても、電子は飽和速度域に達するからである。
このように、電界制御層304を用いることで電子走行層303の電界強度を低くすれば、光吸収層305の厚さを薄くし、この分の電圧降下を電子走行層303に振り分けることができ、より広い空乏層厚を確保することができる。また、電子走行層303の電界強度が低い分だけ、必要なバイアス電圧を下げることができる。言い換えると、一定のバイアス電圧に対して空乏層を広く保つことができるので、電界制御層304を設けることで、接合容量を低減することが可能となる。
次に、本実施の形態におけるフォトダイオードの製造方法について簡単に説明する。まず、図4Aに示すように、GaAsからなる基板301上に、n+−AlGaAsからなる下側コンタクト層302、電子走行層303となるn-−AlGaAs層(第1半導体層)401、電界制御層304となるn−AlGaAs層(第4半導体層)402、光吸収層305となるノンドープのGaAs層(第2半導体層)403、第2導電型光吸収層306となるp−GaAs層(第5半導体層)404、および上側コンタクト層307となるp+−AlGaAs層(第3半導体層)405をエピタキシャル成長により順次堆積する。これらは、よく知られたMOVPE法により形成すればよい。なお、第2導電型光吸収層306となるp−GaAs層404の不純物濃度は、少なくとも本実施の形態におけるフォトダイオードに逆方向のバイアス電圧を印加したときに空乏化しない濃度にまで高めておく必要がある。
次に、公知のリソグラフィー技術およびエッチング技術によりn−AlGaAs層402、ノンドープのGaAs層403、p−GaAs層404、およびp+−AlGaAs層405を所望の形状(メサ構造)にパターニングする。例えば、リソグラフィー技術により形成した図示しないマスクパターン(第1マスクパターン)をマスクとし、AlGaAsの層は、塩酸をエッチャントとしたウエットエッチングにより選択的にエッチングし、GaAsの層は、アンモニアおよび過酸化水素の混合液をエッチャントとしたエッチングにより選択的にエッチングすればよい。
上述したエッチングにより、図4Bに示すように、上側コンタクト層307,第2導電型光吸収層306,光吸収層305,および電界制御層304を形成する。また、電界制御層304を形成した後、上記マスクパターンを用い、n-−AlGaAs層401については、塩酸を用いたウエットエッチングを層厚方向に途中まで行い、n-−AlGaAs層401にメサ部401aとテラス部401bとを形成する。なお、図4Bは、マスクパターンを除去した後の状態を示している。
この後、上述したメサ構造の形成に用いた上記マスクパターンを除去した後、上記メサ構造より広い面積のマスクパターン(不図示:第2マスクパターン)を用いた選択的なエッチングによりn-−AlGaAs層401のテラス部401bをパターニングすることで、図4Cに示すように、延在部303aを備える電子走行層303を形成する。なお、図4Cは、マスクパターンを除去した後の状態を示している。
次に、図4Dに示すように、第1電極308および第2電極309を形成する。第1電極308はチタン層/白金層/金層の3層構造、第2電極309は白金層/チタン層/白金層/金層の4層構造とし、各半導体層にオーミック接続していればよい。また、反射防止膜310を形成する。これらは、よく知られたリフトオフ法により形成すればよい。この後、例えばベンゾシクロブテンを塗布することで、メサ部、延在部303aを含めた下側コンタクト層302の上に樹脂膜を形成し、この樹脂膜をパターニングすることで、図3に示すように、パッシベーション膜311を形成する。
あるいは、例えばBCBを塗布することで、メサ部、延在部303aを含めた下側コンタクト層302の上に樹脂膜を形成し、この樹脂膜をパターニングしたうえでさらにこの上にプラズマCVD法などを用いてSiN膜を成長させ、さらにこのSiN膜をパターニングすることで、パッシベーション膜311を形成してもよい。あるいは、プラズマCVDなどを用いてSiN膜を成長させ、この上にプラズマCVD法などを用いてSiO2膜を成長させ、この上にさらに例えばBCBを塗布し、このBCB膜をパターニングしたうえでさらにこの上にプラズマCVDなどを用いてSiN膜を成長させ、さらにこれら下地のSiN膜並びに最上層のSiN膜をパターニングすることで、パッシベーション膜311を形成してもよい。
なお、本発明は以上に説明した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想内で、当分野において通常の知識を有する者により、多くの変形および組み合わせが実施可能であることは明白である。例えば、上述した実施の形態の説明では、第1導電型をn型とし、第2導電型をp型としたが、これに限るものではなく、第1導電型をp型とし、第2導電型をn型としてもよいことはいうまでもない。
また、上述では、GaAsをアンモニアおよび過酸化水素の混合液でエッチングしたが、これに限るものではなく、例えば、GaAsは、クエン酸系のエッチング液を用いてエッチングしてもよい(非特許文献1参照)
また、上述では、GaAs系の化合物半導体を用いた場合を例に説明したが、これに限るものではなく、InP系などのよく知られたIII−V族化合物半導体を各層の材料として用いる場合についても同様である。また、例えば、窒化物半導体などの他の半導体材料を組み合わせるようにしてもよい。
101…基板、102…下側コンタクト層、103…電子走行層、103a…延在部、104…光吸収層、105…上側コンタクト層、106…第1電極、107…第2電極、108…反射防止膜。
Claims (6)
- 基板の上に形成された第1導電型の第1化合物半導体からなる下側コンタクト層と、
この下側コンタクト層の上に形成された前記第1化合物半導体からなる電子走行層と、
この電子走行層の上に形成された第2化合物半導体からなる光吸収層と、
この光吸収層の上に形成された第2導電型の前記第1化合物半導体からなる上側コンタクト層と、
前記下側コンタクト層に形成された第1電極および前記上側コンタクト層に形成された第2電極と
を少なくとも備え、
前記第2化合物半導体は、対象とする光の波長に対応するバンドギャップエネルギーを有し、
前記第1化合物半導体は、前記第2化合物半導体より大きなバンドギャップエネルギーを有し、
前記下側コンタクト層および前記上側コンタクト層は、不純物を導入することで前記導電型とされ、
前記電子走行層は、前記下側コンタクト層および前記上側コンタクト層よりも不純物濃度が低い状態とされ、
前記電子走行層は、前記光吸収層および前記上側コンタクト層より広い面積に形成されていることを特徴とするフォトダイオード。 - 請求項1記載のフォトダイオードにおいて、
前記電子走行層および前記光吸収層の間に形成された第1導電型の前記第1化合物半導体からなる電界制御層を備え、
前記電界制御層は、不純物を導入することで第1導電型とされ、
前記電子走行層および前記光吸収層は、前記下側コンタクト層,前記電界制御層、および前記上側コンタクト層よりも不純物濃度が低い状態とされていることを特徴とするフォトダイオード。 - 請求項1または2記載のフォトダイオードにおいて、
前記光吸収層と前記上側コンタクト層との間に配置され、第2導電型の前記第2化合物半導体からなる第2導電型光吸収層を備える
ことを特徴とするフォトダイオード。 - 基板の上に第1導電型の第1化合物半導体からなる下側コンタクト層を形成する工程と、
前記下側コンタクト層の上に前記第1化合物半導体からなる第1半導体層を形成する工程と、
前記第1半導体層の上に、前記第1化合物半導体よりバンドギャップエネルギーが小さく、対象とする光の波長に対応するバンドギャップエネルギーを有する第2化合物半導体からなる第2半導体層を形成する工程と、
前記第2半導体層の上に第2導電型の前記第1化合物半導体からなる第3半導体層を形成する工程と、
前記第3半導体層を第1マスクパターンを用いて第1エッチャントで選択的にエッチングして上側コンタクト層を形成する工程と、
前記第2半導体層を前記第1マスクパターンを用いて第2エッチャントで選択的にエッチングして光吸収層を形成する工程と、
前記第1半導体層を前記第1マスクパターンより面積の大きい第2マスクパターンを用いて前記第1エッチャントで選択的にエッチングして前記光吸収層および前記上側コンタクト層より広い面積の電子走行層を形成する工程と、
前記下側コンタクト層に接続する第1電極および前記上側コンタクト層に接続する第2電極を形成する工程と
を少なくとも備えることを特徴とするフォトダイオードの製造方法。 - 請求項4記載のフォトダイオードの製造方法において、
前記第2半導体層の形成の前に、前記第1半導体層の上に、第1導電型の前記第1化合物半導体からなる第4半導体層を形成する工程と、
前記光吸収層を形成した後の前記電界制御層を形成する前に、前記第4半導体層を前記第1マスクパターンを用いて前記第1エッチャントで選択的にエッチングして電界制御層を形成する工程と
を備えることを特徴とするフォトダイオードの製造方法。 - 請求項4または5記載のフォトダイオードの製造方法において、
前記第3半導体層の形成の前に、前記第2半導体層の上に、第2導電型の前記第2化合物半導体からなる第5半導体層を形成する工程と、
前記上側コンタクト層を形成した後の前記光吸収層を形成する前に、前記第5半導体層を前記第1マスクパターンを用いて前記第2エッチャントで選択的にエッチングして前記第2導電型光吸収層を形成する工程と
を備えることを特徴とするフォトダイオードの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010275496A JP2012124404A (ja) | 2010-12-10 | 2010-12-10 | フォトダイオードおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010275496A JP2012124404A (ja) | 2010-12-10 | 2010-12-10 | フォトダイオードおよびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012124404A true JP2012124404A (ja) | 2012-06-28 |
Family
ID=46505531
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010275496A Pending JP2012124404A (ja) | 2010-12-10 | 2010-12-10 | フォトダイオードおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012124404A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016522578A (ja) * | 2013-05-31 | 2016-07-28 | タイコ エレクトロニクス スベンスカ ホールディングス アーベー | 高速光検出器 |
CN113451436A (zh) * | 2021-06-23 | 2021-09-28 | 中国电子科技集团公司第四十四研究所 | 一种氮化物紫外雪崩光电探测器及其制作方法 |
CN114520270A (zh) * | 2020-11-20 | 2022-05-20 | 苏州华太电子技术有限公司 | 一种间接带隙半导体光电探测器件及其制作方法 |
CN114864730A (zh) * | 2021-02-04 | 2022-08-05 | 迈络思科技有限公司 | 高调制速度pin型光电二极管 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01239973A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-25 | Nec Corp | 半導体受光素子 |
JPH04332178A (ja) * | 1991-05-02 | 1992-11-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 受光素子 |
JPH0529642A (ja) * | 1991-07-18 | 1993-02-05 | Hitachi Ltd | 半導体光検出素子 |
JP2000228532A (ja) * | 1999-02-09 | 2000-08-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 多段メサ構造の製作方法 |
JP2002050786A (ja) * | 2000-05-25 | 2002-02-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 受光素子およびその製造方法 |
JP2003174184A (ja) * | 2001-12-04 | 2003-06-20 | Ntt Electornics Corp | フォトダイオード |
JP2003174185A (ja) * | 2001-12-05 | 2003-06-20 | Fujitsu Ltd | 半導体受光素子 |
-
2010
- 2010-12-10 JP JP2010275496A patent/JP2012124404A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01239973A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-25 | Nec Corp | 半導体受光素子 |
JPH04332178A (ja) * | 1991-05-02 | 1992-11-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 受光素子 |
JPH0529642A (ja) * | 1991-07-18 | 1993-02-05 | Hitachi Ltd | 半導体光検出素子 |
JP2000228532A (ja) * | 1999-02-09 | 2000-08-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 多段メサ構造の製作方法 |
JP2002050786A (ja) * | 2000-05-25 | 2002-02-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 受光素子およびその製造方法 |
JP2003174184A (ja) * | 2001-12-04 | 2003-06-20 | Ntt Electornics Corp | フォトダイオード |
JP2003174185A (ja) * | 2001-12-05 | 2003-06-20 | Fujitsu Ltd | 半導体受光素子 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016522578A (ja) * | 2013-05-31 | 2016-07-28 | タイコ エレクトロニクス スベンスカ ホールディングス アーベー | 高速光検出器 |
CN114520270A (zh) * | 2020-11-20 | 2022-05-20 | 苏州华太电子技术有限公司 | 一种间接带隙半导体光电探测器件及其制作方法 |
CN114864730A (zh) * | 2021-02-04 | 2022-08-05 | 迈络思科技有限公司 | 高调制速度pin型光电二极管 |
CN113451436A (zh) * | 2021-06-23 | 2021-09-28 | 中国电子科技集团公司第四十四研究所 | 一种氮化物紫外雪崩光电探测器及其制作方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4220688B2 (ja) | アバランシェホトダイオード | |
JP2762939B2 (ja) | 超格子アバランシェフォトダイオード | |
EP3229279B1 (en) | Avalanche photodiode | |
WO2006123410A1 (ja) | アバランシェフォトダイオード | |
JP5433948B2 (ja) | 半導体受光素子 | |
JPH08181349A (ja) | 超格子アバランシェフォトダイオード | |
JP2013080728A (ja) | アバランシェフォトダイオード及びそれを用いた受信機 | |
JP2010135360A (ja) | アバランシェフォトダイオード | |
JP5327892B2 (ja) | アバランシ・フォトダイオード | |
JPH06350123A (ja) | 組成変調アバランシ・フォトダイオード | |
JP2007311720A (ja) | 半導体受光素子 | |
JP6030416B2 (ja) | アバランシェフォトダイオードおよびその製造方法 | |
JP5497686B2 (ja) | アバランシェフォトダイオード | |
JP2006040919A (ja) | アバランシェフォトダイオード | |
JP3828982B2 (ja) | 半導体受光素子 | |
JP2012124404A (ja) | フォトダイオードおよびその製造方法 | |
JP2003023173A (ja) | pin型受光素子 | |
JP4861388B2 (ja) | アバランシェホトダイオード | |
JP5700561B2 (ja) | 受光素子 | |
JP2015177167A (ja) | アバランシェフォトダイオード | |
JPH08274366A (ja) | 半導体受光素子 | |
JP2018152489A (ja) | アバランシェフォトダイオード | |
JPH05291605A (ja) | 半導体受光素子 | |
JP4786440B2 (ja) | 面入射型受光素子および光受信モジュール | |
US12009450B2 (en) | Optical receiving element and manufacturing method therefor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120322 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130626 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130709 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140218 |