JP2012123864A - サスペンション用フレキシャー基板、サスペンション、ヘッド付サスペンションおよびハードディスクドライブ - Google Patents

サスペンション用フレキシャー基板、サスペンション、ヘッド付サスペンションおよびハードディスクドライブ Download PDF

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Abstract

【課題】 本発明は、配線の高密度化を妨げることなく、また、配線設計の自由度を制限することなく、さらに、書込配線と読取配線との間のクロストークの弊害も抑制したまま、さらなる低インピーダンス化を達成することができるサスペンション用フレキシャー基板、サスペンション、ヘッド付サスペンションおよびハードディスクドライブを提供することを目的とするものである。
【解決手段】 積層型の配線構成において、配線の長手方向に垂直な方向の断面における一対の配線間の対向する表面の形状を、弓状に形成することにより、上記課題を解決する。
【選択図】 図3

Description

本発明は、ハードディスクドライブ(HDD)に用いられるサスペンション用フレキシャー基板に関するものである。
近年、インターネットの普及等によりパーソナルコンピュータの情報処理量の増大や情報処理速度の高速化が要求されてきており、それに伴って、パーソナルコンピュータに組み込まれているハードディスクドライブ(HDD)も大容量化や情報伝達速度の高速化が必要となってきている。
ハードディスクドライブは磁気記録媒体である磁気ディスク、それを高速回転させるスピンドルモータ、磁気ディスクに対して情報を読取または書込する磁気ヘッド、それを高精度に保持しつつ移動させるための各部品、これらの駆動制御回路および信号処理回路などによって構成されている。
そして、このハードディスクドライブに用いられる磁気ヘッドを支持している磁気ヘッドサスペンションと呼ばれる部品も、従来の金ワイヤ等の信号線を接続するタイプから、ステンレスのばねに直接銅配線等の信号線が形成されている、いわゆるワイヤレスサスペンションと呼ばれる配線一体型(フレキシャー)に移行している。
このようなサスペンション用フレキシャー基板における配線は、一般的には、図6に示すように、一対の書込配線(W1、W2)と一対の読取配線(R1、R2)とが、金属基板101の上に形成された絶縁層102の同一表面上に、各々配設された構成をしている(特許文献1)。
上述のような一対の配線は、例えば、差動伝送により電気信号の伝送が行われ、一対の配線間には、分布定数回路としての差動伝送路の特性インピーダンスである差動インピーダンスが存在する。この差動インピーダンスは、磁気ヘッドやプリアンプの低インピーダンス化に伴い、インピーダンスマッチングの観点から、低インピーダンス化することが要求されている。
近年においては、上述のような低インピーダンス化や配線の高密度化に伴い、図7に示すような積層型配線も用いられている。図7に示す例においては、金属基板111の上に形成された第1の絶縁層112の同一表面上に、第1の書込配線(W1)と第1の読取配線(R1)とが形成されており、各々、第1の配線の上には、第2の絶縁層113を介して、対となる第2の配線が形成されている。具体的には、第1の書込配線(W1)の上には、第2の絶縁層113を介して、対となる第2の書込配線(W2)が形成されており、同様に、第1の読取配線(R1)の上には、第2の絶縁層113を介して、対となる第2の読取配線(R2)が形成されている。
ここで、配線を形成する場合には、一般に、配線の垂直面を大きく形成する加工よりも、水平面を大きく形成する加工の方が、容易である。アスペクト比の高い配線加工が不要だからである。
また、一対の配線間の距離(例えば、W1とW2の間の距離)を小さく形成するには、図6のような配線構成よりも、図7のような積層型の配線構成の方が形成容易である。図6のような配線構成の場合には、アスペクト比の高い配線加工が要求されるが、図7のような積層型の配線構成の場合には、一対の配線間に介在する第2絶縁層の厚さを薄く形成するだけで良いからである。
それゆえ、図7のような積層型配線の構成を用いれば、図6のような配線の構成よりも、一対の配線間の対向する面積をより容易に大きく形成することができ、かつ、一対の配線間の距離をより容易に小さく形成することができることになり、一対の配線間の電気的結合容量をより容易に大きくすることができる。
したがって、図7のような積層型配線の構成を用いれば、図6のような配線の構成よりも、低インピーダンスとなるサスペンション用フレキシャー基板を、より容易に得ることができる。
特開2004−133988号公報
ここで、サスペンション用フレキシャー基板のさらなる低インピーダンス化を達成するためには、上述のような積層型の配線構成において、一対の配線間の対向する面積を、より大きく形成することが必要になる。
しかしながら、一対の配線間の対向する面積をより大きく形成するために、配線の幅を大きく形成する方法を用いた場合には、配線の高密度化を妨げるとともに、設計の自由度を制限してしまうことになる。
また、上述のような配線の幅を大きく形成する方法を用いた場合には、書込配線と読取配線との間の距離が狭まる事によって、クロストークによる弊害も懸念される。
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、配線の高密度化を妨げることなく、また、配線設計の自由度を制限することなく、さらに、書込配線と読取配線との間のクロストークの弊害も抑制したまま、さらなる低インピーダンス化を達成することができるサスペンション用フレキシャー基板、サスペンション、ヘッド付サスペンションおよびハードディスクドライブを提供することを目的とする。
本発明者は、種々研究した結果、積層型の配線構成において、配線の長手方向に垂直な方向の断面における一対の配線間の対向する表面の形状を弓状に形成することによって、配線の幅を拡大することなく、上記課題を解決できることを見出して本発明を完成したものである。
すなわち、本発明の請求項1に係る発明は、金属基板の上に、第1の絶縁層を介して、磁気ヘッドと読取回路とを電気的に接続する読取配線と、前記磁気ヘッドと書込回路とを電気的に接続する書込配線が、形成されているサスペンション用フレキシャー基板において、前記読取配線および前記書込配線は、各々2本で1対となる差動配線であって、各々第1の配線の上には、第2の絶縁層を介して、対となる第2の配線が形成されており、
前記読取配線および前記書込配線の少なくともどちらか1対の配線の、長手方向に垂直な方向の断面における前記第2の配線に対向する前記第1の配線の表面は、前記第2の配線に対して凸型の弓状の形状になっており、かつ、前記第1の配線に対向する前記第2の配線の表面は、前記第1の配線に対して凹型の弓状の形状になっていることを特徴とするサスペンション用フレキシャー基板である。
また、本発明の請求項2に係る発明は、前記第2の配線に対向する前記第1の配線の表面の凸型の弓状の形状が、前記第1の配線の表面の両端を直線で結んだ中点から前記第2の配線に向かって垂直に伸ばした線上に位置する点を頂点にして、前記第1の配線の表面の両端に滑らかに降下する曲線形状であって、前記第1の配線の表面の両端を直線で結んだ長さをL1とし、前記第1の配線の表面の両端を直線で結んだ中点と前記頂点を直線で結んだ長さをH1とした場合の前記L1と前記H1の関係が、
0.02≦H1/L1≦0.1
であることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用フレキシャー基板である。
また、本発明の請求項3に係る発明は、前記第1の配線に対向する前記第2の配線の表面の凹型の弓状の形状が、前記第2の配線の表面の両端を直線で結んだ中点から前記第2の配線に向かって垂直に伸ばした線上に位置する点を頂点にして、前記第2の配線の表面の両端に滑らかに降下する曲線形状であって、前記第2の配線の表面の両端を直線で結んだ長さをL2とし、前記第2の配線の表面の両端を直線で結んだ中点と前記頂点を直線で結んだ長さをH2とした場合の前記L2と前記H2の関係が、
0.02≦H2/L2≦0.1
であることを特徴とする請求項1〜2のいずれかに記載のサスペンション用フレキシャー基板である。
また、本発明の請求項4に係る発明は、前記第2の配線の上にはカバー層が形成されており、前記第2の配線の長手方向に垂直な方向の断面における前記第2の配線の、前記第1の配線に対向する表面とは反対側の表面は、前記カバー層に対して凸型の弓状の形状になっていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のサスペンション用フレキシャー基板である。
また、本発明の請求項5に係る発明は、前記金属基板には、前記読取配線および/または前記書込配線の長手方向に沿って、少なくとも部分的に開口が形成されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のサスペンション用フレキシャー基板である。
また、本発明の請求項6に係る発明は、請求項1〜5のいずれかに記載のサスペンション用フレキシャー基板を含むことを特徴とするサスペンションである。
また、本発明の請求項7に係る発明は、請求項6に記載のサスペンションと、前記サスペンションに実装された磁気ヘッドスライダとを有することを特徴とするヘッド付サスペンションである。
また、本発明の請求項8に係る発明は、請求項7に記載のヘッド付サスペンションを含むことを特徴とするハードディスクドライブである。
本発明によれば、積層型の配線構成において、配線の長手方向に垂直な方向の断面における一対の配線間の対向する表面の形状を弓状に形成することによって、配線の幅を拡大することなく、一対の配線間の対向する表面の面積を拡大することができ、一対の差動配線間の電気的結合容量を大きくすることができる。
したがって、配線の高密度化を妨げることなく、また、配線設計の自由度を制限することなく、さらに、書込配線と読取配線との間のクロストークの弊害も抑制したまま、さらなる低インピーダンス化を達成したサスペンション用フレキシャー基板を得ることができる。
本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の一例を示す概略平面図である。 本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の構成例を説明する図であり、(a)は図1におけるA−A断面図であり、(b)は第1配線および第2配線の表面形状の説明図である。 本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の他の構成例を説明する図であり、(a)は図1におけるA−A断面図であり、(b)は第1配線および第2配線の表面形状の説明図である。 本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の製造方法の一例を示す模式的工程図である。 図4に続く、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の製造方法の一例を示す模式的工程図である。 従来のサスペンション用フレキシャー基板の構成例を示す概略断面図である。 従来のサスペンション用フレキシャー基板の他の構成例を示す概略断面図である。
以下、本発明のサスペンション用フレキシャー基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、およびハードディスクドライブについて詳細に説明する。
[サスペンション用フレキシャー基板]
まず、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板について説明する。
図1は、本発明のサスペンション用フレキシャー基板の一例を示す概略平面図である。
図1に示されるサスペンション用フレキシャー基板1は、先端部分に磁気ヘッドスライダを実装するためのジンバル部2と、末端部分に読取回路または書込回路と接続するための接続端子部3とを有し、ジンバル部2と接続端子部3との間に、前記磁気ヘッドと読取回路とを電気的に接続する読取配線4と、前記磁気ヘッドと書込回路とを電気的に接続するための書込配線5を有するものである。
ここで、読取配線4と書込配線5は、相互の電気的な影響を極力避けるため、および/またはサスペンション用フレキシャー基板の力学的平衡を保つため、各々、サスペンション用フレキシャー基板の外周に沿うように配設されている。なお、図1においては、図面上側の配線を読取配線4、図面下側の配線を書込配線5と表示しているが、この配置は逆であってもよく、特には限定されない。また、図1には詳細を示していないが、読取配線4および書込配線5は、それぞれ、一対の差動配線である。
図2は、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の構成例を説明する図であり、(a)は図1におけるA−A断面図であり、(b)は第1配線および第2配線の表面形状の説明図である。ここで、図2(b)においては、本発明に係る配線の表面を実線で表している。
図2(a)に示されるように、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板1においては、金属基板11の上に形成された第1の絶縁層12の同一表面上に、第1の書込配線(W1)と第1の読取配線(R1)とが形成されており、各々、第1の配線(W1、R1)の上には、第2の絶縁層13を介して、対となる第2の配線(W2、R2)が形成されている。具体的には、第1の書込配線(W1)の上には、第2の絶縁層13を介して、対となる第2の書込配線(W2)が形成されており、同様に、第1の読取配線(R1)の上には、第2の絶縁層13を介して、対となる第2の読取配線(R2)が形成されている。
そして、図2(b)に示されるように、第2の配線(W2、R2)に対向する第1の配線(W1、R1)の表面(FF1)は、第2の配線(W2、R2)に対して凸型の弓状の形状になっており、かつ、第1の配線(W1、R1)に対向する第2の配線(W2、R2)の表面(FF2)は、第1の配線(W1、R1)に対して凹型の弓状の形状になっている。
このような構成にすることによって、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板においては、配線の幅を拡大することなく、一対の配線間の対向する表面の面積を拡大することができ、一対の差動配線間の電気的結合容量を大きくすることができる。
それゆえ、サスペンション用フレキシャー基板における配線の高密度化を妨げることなく、また、配線設計の自由度を制限することなく、さらに、書込配線と読取配線との間のクロストークの弊害も抑制したまま、さらなる低インピーダンス化を達成したサスペンション用フレキシャー基板を得ることができる。
ここで、上述の配線表面(FF1、FF2)の弓状の形状は、その曲率が大きいほど表面の面積を拡大することができ、一対の差動配線間の電気的結合容量をより大きくできることが期待されるが、配線の加工性や、第2絶縁層の被覆性等を勘案すると、極端な曲率とすることは好ましくない。
また、上述の曲率が小さい場合には、配線の表面が平坦な場合に比べて優位性を発現するだけの面積拡大を達成することが困難になり、一対の差動配線間の電気的結合容量を大きくする効果も薄れてしまう。
それゆえ、図2(b)に示すように、第2の配線(W2、R2)に対向する第1の配線(W1、R1)の表面(FF1)の凸型の弓状の形状は、第1の配線の表面(FF1)の両端(E1L、E1R)を直線で結んだ中点(M1)から第2の配線(W2、R2)に向かって垂直に伸ばした線上に位置する点を頂点(P1)にして、第1の配線の表面の両端(E1L、E1R)に滑らかに降下する曲線形状であって、第1の配線の表面の両端(E1L、E1R)を直線で結んだ長さ(L1)と、前記中点(M1)と前記頂点(P1)を直線で結んだ長さ(H1)との関係が、
0.02≦H1/L1≦0.1
であることが好ましい。
また、同様に、第1の配線(W1、R1)に対向する第2の配線(W2、R2)の表面(FF2)の凹型の弓状の形状は、第2の配線の表面(FF2)の両端(E2L、E2R)を直線で結んだ中点(M2)から第2の配線(W2、R2)に向かって垂直に伸ばした線上に位置する点を頂点(P2)にして、第2の配線の表面(FF2)の両端(E2L、E2R)に滑らかに降下する曲線形状であって、第2の配線の表面の両端(E2L、E2R)を直線で結んだ長さ(L2)と、前記中点(M2)と前記頂点(P2)を直線で結んだ長さ(H2)との関係が、
0.02≦H2/L2≦0.1
であることが好ましい。
また、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板においては、電気信号の減衰や、配線の腐食、劣化を抑制するために、前記第2の配線(W2、R2)の上に、カバー層が形成されていることが好ましい。
そして、図2(a)および(b)に示されるように、第2の配線(W2、R2)の、第1の配線(W1、R1)に対向する表面とは反対側の表面(BF2)は、前記カバー層18に対して凸型の弓状になっていることが好ましい。カバー層18による被覆性が向上するからである。
例えば、従来のサスペンション用フレキシャー基板の構成の場合には、図7に示すように、第2の配線(W2、R2)の、第1の配線(W1、R1)に対向する表面とは反対側の表面は、カバー層114に対して平坦な形状であるため、カバー層114は第2の配線(W2、R2)の端部で急に配線厚の差に相当する段差を降下することになり、場合によっては、第2の配線(W2、R2)の端部が、カバー層114で被覆されずに露出してしまい、その結果、配線の腐食や劣化を招く恐れがある。
一方、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板においては、図2に示すように、第2の配線(W2、R2)の、第1の配線(W1、R1)に対向する表面とは反対側の表面は、カバー層18に対して凸型の弓状になっているため、カバー層18は緩やかに段差を降下することができ、第2の配線(W2、R2)の端部が、カバー層18で被覆されずに露出してしまうという弊害を防止することができる。
また、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板においては、図3に示されるように、金属基板11に、読取配線(R1、R2)および/または書込配線(W1、W2)の長手方向に沿って、少なくとも部分的に開口が形成されていてもよい。
このような構成にすることで、差動配線間のインピーダンス差を調整することや、高周波特性を向上させることができるからである。また、金属基板11の曲げ剛性を調整するという効果も得られる。
上記の開口の幅は、上述のような効果を奏するために、例えば、図3において、第1書込配線(W1)の左端から左側の金属基板11までの距離が10μm以上あり、同様に、第1読取配線(R1)の右端から右側の金属基板11までの距離が10μm以上あることが好ましい。
次に、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板を構成する各要素について説明する。
[金属基板]
金属基板11の材料としては、所望の導電性およびばね性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えばステンレススティール等を挙げることができる。金属基板11の厚さは、例えば10μm〜30μmの範囲内、中でも15μm〜25μmの範囲内であることが好ましい。
[第1絶縁層]
第1絶縁層12は、金属基板11の表面上に形成される絶縁層である。第1絶縁層12の材料としては、所望の絶縁性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えばポリイミド(PI)等を挙げることができる。また、第1絶縁層12の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。第1絶縁層12の厚さは、例えば5μm〜30μmの範囲内、中でも10μm〜20μmの範囲内であることが好ましい。
[第1書込配線、第1読取配線]
第1書込配線W1および第1読取配線R1は、第1絶縁層12上に形成される配線である。
第1書込配線W1および第1読取配線R1の材料としては、所望の導電性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば銅(Cu)等を挙げることができる。
第1書込配線W1および第1読取配線R1の厚さとしては、例えば、4μm〜18μmの範囲内であることが好ましい。第1書込配線W1および第1読取配線R1の厚さが小さすぎると、所望の導電性を得ることができない可能性があり、第1書込配線W1および第1読取配線R1の厚さが大きすぎると、配線回路基板の剛性が高くなる可能性があるからである。
一方、第1書込配線W1および第1読取配線R1の線幅としては、例えば10μm〜300μmの範囲内であることが好ましい。第1書込配線W1および第1読取配線R1の線幅が小さすぎると、充分な低インピーダンス化を図ることができない可能性があり、第1書込配線W1および第1読取配線R1の線幅が大きすぎると、配線回路基板の充分な高密度化を図ることができない可能性があるからである。
また、第1書込配線W1および第1読取配線R1は、その表面にニッケル(Ni)、金(Au)による配線めっき層が形成されていても良い。
[第2絶縁層]
第2絶縁層15は、第1書込配線W1および第1読取配線R1上に形成される絶縁層である。通常は、第1書込配線W1および第1読取配線R1を覆うように第2絶縁層15が形成される。
第2絶縁層15の材料については、上述した第1絶縁層12と同様である。また、第1書込配線W1および第1読取配線R1の上に形成された第2絶縁層15の厚さ(第1書込配線W1および第1読取配線R1の頂部から第2絶縁層15の頂部までの距離)は、例えば5μm〜18μmの範囲内であることが好ましい。上記厚さが小さすぎると、伝送特性の悪化およびピンホールによるショートの可能性があり、上記厚さが大きすぎると、サスペンション用フレキシャー基板全体の厚さが大きくなる可能性があるからである。
[第2書込配線、第2読取配線]
第2書込配線W2および第2読取配線R2は、第2絶縁層15上に形成される配線である。第2書込配線W2および第2読取配線R2の材料は、上述した第1書込配線W1および第1読取配線R1と同様である。また、第2書込配線W2および第2読取配線R2は、その表面にニッケル(Ni)、金(Au)による配線めっき層が形成されていても良い。
第2書込配線W2および第2読取配線R2の寸法(厚さおよび線幅)は、上述した第1書込配線W1および第1読取配線R1と同様である。
[カバー層]
カバー層18の材料としては、例えば、ポリイミド(PI)等を挙げることができる。また、カバー層18の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。なお、カバー層18の材料は、上述した第1絶縁層12および第2絶縁層15と同じであっても良く、異なっていても良い。カバー層18の厚さは、例えば3μm〜30μmの範囲内であることが好ましい。
[シード層]
本発明においては、第1書込配線W1および第1読取配線R1と、第1絶縁層12との間に、第1シード層14が形成されていることが好ましい。電解めっき法により、容易に第1書込配線W1および第1読取配線R1を形成することができるからである。
また、同様に、第2書込配線W2および第2読取配線R2と、第2絶縁層15との間には、第2シード層17が形成されていることが好ましい。
第1シード層14および第2シード層17は、通常、金属薄膜層であり、例えばCu(銅)を含む金属薄膜層であることが好ましい。
第1シード層14および第2シード層17の厚さは、例えば0.05μm〜2.0μmの範囲内であり、0.1μm〜1.0μmの範囲内であることが好ましい。
第1シード層14および第2シード層17の形成方法は、特に限定されるものではないが、例えばスパッタリング法等を挙げることができる。
[拡散防止層]
また、本発明においては、第1シード層14と第1絶縁層12との間に、第1拡散防止層13が形成されていることが好ましい。第1書込配線W1および第1読取配線R1の材料が第1絶縁層12に拡散することを抑制することができるからである。
また、同様に、第2シード層17と第2絶縁層15との間には、第2拡散防止層16が形成されていることが好ましい。
第1拡散防止層13および第2拡散防止層16は、通常、金属薄膜層であり、例えばCr(クロム)を含む金属薄膜層であることが好ましい。
第1拡散防止層13および第2拡散防止層16の厚さは、例えば0.05nm〜2.0μmの範囲内である。
第1拡散防止層13および第2拡散防止層16の形成方法は、特に限定されるものではないが、例えばスパッタリング法等を挙げることができる。
[サスペンション用フレキシャー基板の製造方法]
次に、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の製造方法について説明する。なお、本発明のサスペンション用フレキシャー基板の製造方法は、上述した構成を有するサスペンション用フレキシャー基板を得ることができる方法であれば特に限定されるものではない。以下、図3に示す金属基板11に開口が形成されている形態の本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の製造方法について説明する。
図4および図5は、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板の製造方法の一例を示す模式的工程図である。図4および図5に示されるサスペンション用フレキシャー基板の製造方法においては、まず、金属基板11(例えばステンレススティール)を用意し、その上に、ポリイミドを塗布、加工することによって第1絶縁層12を形成する(図4(a))。
次に、第1絶縁層12の上に、スパッタリング法により第1拡散防止層13(例えばCr薄膜層)を全面形成し(図4(b))、次いで、第1拡散防止層13の上に、スパッタリング法により第1シード層14(例えばCu薄膜層)を全面形成する(図4(c))。
その後、第1シード層14の上に、ドライフィルムレジストをラミネートし、露光現像を行うことにより、レジストパターンを形成し、所定の電解Cuめっきを行うことにより、表面が凸型弓状の第1書込配線W1および第1読取配線R1を形成する(図4(d))。
次に、レジストパターンを剥離し、第1書込配線W1および第1読取配線R1が形成されていない部分の不要な第1シード層14および第1拡散防止層13を、ウェットエッチングにより除去する(図4(e))。
次に、第1書込配線W1および第1読取配線R1が形成されている側の上に、第1書込配線W1、第1読取配線R1、および第1絶縁層12を覆うようにポリイミドを塗布、加工することによって第2絶縁層15を形成する(図4(f))。
次に、第2絶縁層15の上に、スパッタリング法により第2拡散防止層16(例えばCr薄膜層)を全面形成し(図4(g))、次いで、第2拡散防止層16の上に、スパッタリング法により第2シード層17(例えばCu薄膜層)を全面形成する(図5(h))。
その後、第2シード層17の上に、ドライフィルムレジストをラミネートし、露光現像を行うことにより、レジストパターンを形成し、所定の電解Cuめっきを行うことにより、第2書込配線W2および第2読取配線R2を形成する(図5(i))。
次に、レジストパターンを剥離し、第2書込配線W2および第2読取配線R2が形成されていない部分の不要な第2シード層17および第2拡散防止層16を、ウェットエッチングにより除去する(図5(j))。
次に、第2書込配線W2、第2読取配線R2、および第2絶縁層15を覆うようにポリイミドを塗布、加工することによってカバー層18を形成し、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板を得る(図5(k))。
最後に、金属基板11の裏面側にドライフィルムレジストをラミネートし、露光現像を行うことによりレジストパターンを形成し、レジストパターンから露出する金属基板11をウェットエッチングして所望の開口部19を形成する(図5(l))。
[サスペンション]
次に、本発明のサスペンションについて説明する。本発明のサスペンションは、上述したサスペンション用基板を含むことを特徴とするものである。
本発明のサスペンションは、上述したサスペンション用フレキシャー基板1と、ジンバル部2が形成されている表面とは反対側のサスペンション用フレキシャー基板1の表面に備え付けられたロードビームとを有するものである。ロードビームは、一般的なサスペンションに用いられるロードビームと同様のものを用いることができる。
本発明によれば、上述したサスペンション用フレキシャー基板を用いることで、より低インピーダンス化を達成したサスペンションとすることができる。
[ヘッド付サスペンション]
次に、本発明のヘッド付サスペンションについて説明する。本発明のヘッド付サスペンションは、上述したサスペンションと、該サスペンションに実装された磁気ヘッドスライダとを有するものである。
サスペンションについては、上述した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、磁気ヘッドスライダは、一般的なヘッド付サスペンションに用いられる磁気ヘッドスライダと同様のものを用いることができる。
本発明によれば、上述したサスペンションを用いることで、より低インピーダンス化を達成したヘッド付サスペンションとすることができる。
[ハードディスクドライブ]
次に、本発明のハードディスクドライブについて説明する。本発明のハードディスクドライブは、上述したヘッド付サスペンションを含むことを特徴とするものである。
本発明のハードディスクドライブは、少なくともヘッド付サスペンションを有し、通常は、さらにディスク、スピンドルモータ、アームおよびボイスコイルモータを有する。ヘッド付サスペンションについては、上述した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、その他の部材についても、一般的なハードディスクドライブに用いられる部材と同様のものを用いることができる。
本発明によれば、上述したヘッド付サスペンションを用いることで、より高機能化されたハードディスクドライブとすることができる。
以上、本発明のサスペンション用フレキシャー基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、およびハードディスクドライブについて説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。
以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。
(実施例1)
上述で説明した製造方法に従って、図3に示すような金属基板に開口部を有する構成の本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板を得た。
ここで、金属基板11には厚さ20μmのステンレススティールを用い、第1絶縁層12には厚さ10μmのポリイミドを用いた。
第1拡散防止層13には厚さ0.06μmのCr(クロム)を用い、第1シード層14には厚さ0.3μmのCu(銅)を用いた。
第1書込配線W1および第1読取配線R1は、硫酸銅180g/L、硫酸60g/L、塩素イオン50g/Lを用いて、電流密度3A/cm2で電解めっき形成することにより、いずれも線幅が35μm、配線中央部の厚さが12.5μm、配線端部の厚さが9μmのCu(銅)配線となるようにした。
すなわち、本実施例において、第1の配線(W1、R1)の表面(FF1)の凸型の弓状の形状は、第1の配線の表面の両端(E1L、E1R)を直線で結んだ中点(M1)から第2の配線に向かって垂直に伸ばした線上に位置する点を頂点(P1)にして、第1の配線の表面の両端(E1L、E1R)に滑らかに降下する曲線形状であって、第1の配線の表面の両端(E1L、E1R)を直線で結んだ長さをL1とし、前記中点(M1)と前記頂点(P1)を直線で結んだ長さをH1とした場合の前記L1と前記H1の関係は、
H1=12.5−9=3.5(μm)
L1=35(μm)
であることから、
H1/L1=0.1
である。
第1書込配線W1と第1読取配線R1との距離は、図1に示すように、サスペンション用フレキシャー基板における位置によって異なるが、最も距離が小さくなる位置において、各配線中央部間の距離が40μmとなるようにした。
この位置における金属基板11の開口部19は、第1書込配線W1と第1読取配線R1との配置が、図3(a)に示すような配置において、第1書込配線(W1)の左端から左側の金属基板11までの距離が10μmであり、同様に、第1読取配線(R1)の右端から右側の金属基板11までの距離が10μmとした。
第2絶縁層15にはポリイミドを用い、第1の配線(W1、R1)と第2の配線(W2、R2)との間の厚さが10μmとなるようにした。
第2拡散防止層16には、上述の第1拡散防止層13と同様に、厚さ0.06μmのCr(クロム)を用い、第2シード層17には、上述の第1シード層14と同様に、厚さ0.3μmのCu(銅)を用いた。
第2書込配線W2および第2読取配線R2は、上述の第1書込配線W1および第1読取配線R1と同様に電解めっき形成することにより、いずれも線幅が35μm、配線端部の厚さが4μmのCu(銅)配線となるようにした。
具体的には、第1の配線(W1、R1)に対向する第2の配線(W2、R2)の表面(FF2)の凹型の弓状の形状は、第2の配線の表面(FF2)の両端(E2L、E2R)を直線で結んだ中点(M2)から第2の配線(W2、R2)に向かって垂直に伸ばした線上に位置する点を頂点(P2)にして、第2の配線の表面の両端(E2L、E2R)に滑らかに降下する曲線形状であって、第2の配線の表面の両端(E2L、E2R)を直線で結んだ長さ(L2)は、35μmであり、前記中点(M2)と前記頂点(P2)を直線で結んだ長さ(H2)は、3.5μmであった。すなわち、H2/L2=0.1である。
なお、各配線(W1、R1、W2、R2)の長手方向に垂直な方向の断面における第2の配線(W2、R2)の、第1の配線(W1、R1)に対向する表面とは反対側の表面(BF2)は、カバー層18に対して凸型の弓状の形状であった。
カバー層18には、ポリイミドを用い、第2書込配線W2および第2読取配線R2の上に形成されるカバー層18の厚さが7μmとなるようにした。
得られたサスペンション用フレキシャー基板における特性インピーダンスは、40.0Ωであった。
(比較例1)
各配線(W1、R1、W2、R2)の、長手方向に垂直な方向の断面における第1書込配線W1および第1読取配線R1の表面(FF1)が、平坦な形状(H1が0μmに相当)であり、同様に、各配線(W1、R1、W2、R2)の、長手方向に垂直な方向の断面における第1の配線(W1、R1)に対向する第2の配線(W2、R2)の表面(FF2)が、平坦な形状(H2が0μmに相当)であり、各配線(W1、R1、W2、R2)の、長手方向に垂直な方向の断面における第2の配線(W2、R2)の、第1の配線(W1、R1)に対向する表面とは反対側の表面(BF2)が、平坦な形状であること以外は、実施例1と同様な構成を有する比較例1のサスペンション用フレキシャー基板の特性インピーダンスは、41.5Ωであった。
上述のように、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板においては、配線の長手方向に垂直な方向の断面における一対の配線間の対向する表面の形状を弓状に形成することによって、配線の幅を拡大することなく、一対の配線間の対向する表面の面積を拡大することができ、低インピーダンス化を達成したサスペンション用フレキシャー基板を得ることができた。
したがって、本発明に係るサスペンション用フレキシャー基板を用いることで、従来の構成のものより低インピーダンス化が達成されたサスペンション、ヘッド付サスペンションおよびハードディスクドライブを得ることができる。
1・・・サスペンション用フレキシャー基板
2・・・ジンバル部
3・・・接続端子部
4・・・読取配線
5・・・書込配線
11・・・金属基板
12・・・第1絶縁層
13・・・第1拡散防止層
14・・・第1シード層
15・・・第2絶縁層
16・・・第2拡散防止層
17・・・第2シード層
18・・・カバー層
19・・・開口部
100、110・・・サスペンション用フレキシャー基板
101、111・・・金属基板
102・・・絶縁層
112・・・第1絶縁層
113・・・第2絶縁層
114・・・カバー層
W1・・・第1書込配線
W2・・・第2書込配線
R1・・・第1読取配線
R2・・・第2読取配線
E1L、E1R・・・第1配線端部
E2L、E2R・・・第2配線端部
M1、M2・・・中点
P1、P2・・・頂点
FF1・・・第1配線の表面
FF2・・・第1配線に対向する第2配線の表面
BF2・・・第2配線の反対側の表面

Claims (8)

  1. 金属基板の上に、第1の絶縁層を介して、磁気ヘッドと読取回路とを電気的に接続する読取配線と、前記磁気ヘッドと書込回路とを電気的に接続する書込配線が、形成されているサスペンション用フレキシャー基板において、
    前記読取配線および前記書込配線は、各々2本で1対となる差動配線であって、各々第1の配線の上には、第2の絶縁層を介して、対となる第2の配線が形成されており、
    前記読取配線および前記書込配線の少なくともどちらか1対の配線の、長手方向に垂直な方向の断面における前記第2の配線に対向する前記第1の配線の表面は、前記第2の配線に対して凸型の弓状の形状になっており、かつ、前記第1の配線に対向する前記第2の配線の表面は、前記第1の配線に対して凹型の弓状の形状になっていることを特徴とするサスペンション用フレキシャー基板。
  2. 前記第2の配線に対向する前記第1の配線の表面の凸型の弓状の形状が、前記第1の配線の表面の両端を直線で結んだ中点から前記第2の配線に向かって垂直に伸ばした線上に位置する点を頂点にして、前記第1の配線の表面の両端に滑らかに降下する曲線形状であって、
    前記第1の配線の表面の両端を直線で結んだ長さをL1とし、前記第1の配線の表面の両端を直線で結んだ中点と前記頂点を直線で結んだ長さをH1とした場合の前記L1と前記H1の関係が、
    0.02≦H1/L1≦0.1
    であることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用フレキシャー基板。
  3. 前記第1の配線に対向する前記第2の配線の表面の凹型の弓状の形状が、前記第2の配線の表面の両端を直線で結んだ中点から前記第2の配線に向かって垂直に伸ばした線上に位置する点を頂点にして、前記第2の配線の表面の両端に滑らかに降下する曲線形状であって、
    前記第2の配線の表面の両端を直線で結んだ長さをL2とし、前記第2の配線の表面の両端を直線で結んだ中点と前記頂点を直線で結んだ長さをH2とした場合の前記L2と前記H2の関係が、
    0.02≦H2/L2≦0.1
    であることを特徴とする請求項1〜2のいずれかに記載のサスペンション用フレキシャー基板。
  4. 前記第2の配線の上にはカバー層が形成されており、前記第2の配線の長手方向に垂直な方向の断面における前記第2の配線の、前記第1の配線に対向する表面とは反対側の表面は、前記カバー層に対して凸型の弓状の形状になっていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のサスペンション用フレキシャー基板。
  5. 前記金属基板には、前記読取配線および/または前記書込配線の長手方向に沿って、少なくとも部分的に開口が形成されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のサスペンション用フレキシャー基板。
  6. 請求項1〜5のいずれかに記載のサスペンション用フレキシャー基板を含むことを特徴とするサスペンション。
  7. 請求項6に記載のサスペンションと、前記サスペンションに実装された磁気ヘッドスライダとを有することを特徴とするヘッド付サスペンション。
  8. 請求項7に記載のヘッド付サスペンションを含むことを特徴とするハードディスクドライブ。
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