JP2012121738A

JP2012121738A - 無アルカリガラス

Info

Publication number: JP2012121738A
Application number: JP2010271298A
Authority: JP
Inventors: Takahiro Kawaguchi; 貴弘川口; Shinkichi Miwa; 晋吉三和
Original assignee: Nippon Electric Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority date: 2010-12-06
Filing date: 2010-12-06
Publication date: 2012-06-28
Anticipated expiration: 2030-12-06
Also published as: JP5729673B2

Abstract

【課題】生産性（特に耐失透性）に優れると共に、ガラス封止材の熱膨張係数に整合し、しかも歪点が高い無アルカリガラスを創案することにより、ガラス板の製造コストを低廉化しつつ、有機ＥＬディスプレイ内部の気密性を確保し、且つｐ−Ｓｉ・ＴＦＴの製造工程におけるガラス板の熱収縮を低減する。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３１０〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３０〜５％、ＭｇＯ０〜７％、ＣａＯ３〜１０％、ＳｒＯ０〜９％、ＢａＯ０〜１５％、Ｐ_２Ｏ_５０．１〜２．５％を含有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、歪点が６８０℃より高いことを特徴とする。
【選択図】なし

Description

本発明は、無アルカリガラスに関し、特に有機ＥＬディスプレイに好適な無アルカリガラスに関する。

有機ＥＬディスプレイ等の電子デバイスは、薄型で動画表示に優れ、消費電力も少ないことから、携帯電話のディスプレイ等の用途に使用されている。

有機ＥＬディスプレイの基板として、ガラス板が広く使用されている。この用途のガラス板には、主に以下の特性が要求される。
（１）熱処理工程で成膜された半導体物質中にアルカリイオンが拡散する事態を防止するため、実質的にアルカリ金属酸化物を含有しないこと、
（２）ガラス板を低廉化するため、生産性に優れること、特に耐失透性や溶融性に優れること、
（３）ｐ−Ｓｉ・ＴＦＴの製造工程において、熱収縮を低減するため、歪点が高いこと。

上記（３）について詳細に説明する。ｐ−Ｓｉ・ＴＦＴの製造工程には４００〜６００℃の熱処理工程が存在し、この熱処理工程でガラス板に熱収縮と呼ばれる微小な寸法変化が生じる。熱収縮が大きいと、ＴＦＴの画素ピッチにズレが生じ、表示不良の原因となる。ディスプレイの高精細化に伴い、数ｐｐｍ程度の寸法収縮でも表示不良となるおそれがあり、低熱収縮のガラス板が要求されている。なお、ガラス板が受ける熱処理温度が高い程、寸法収縮が大きくなる。

ガラス板の熱収縮を低減する方法として、ガラス板を成形した後、徐冷点付近でアニール処理を行う方法がある。しかし、アニール処理は長時間を要するため、ガラス板の製造コストが高騰してしまう。

他の方法として、ガラス板の歪点を高くする方法がある。歪点が高い程、ｐ−Ｓｉ・ＴＦＴの製造工程で熱収縮が生じ難くなる。例えば、特許文献１には、高歪点のガラス板が開示されている。なお、歪点は、耐熱性の指標になる特性である。

特表２００９−５２５９４２号公報

ところで、有機ＥＬディスプレイは、２枚のガラス板、金属等の陰電極、有機発光層、ＩＴＯ等の陽電極、封止材等で構成される。

従来、封止材としてエポキシ樹脂等の有機樹脂が使用されてきたが、有機樹脂系材料は、酸素や水分の遮断性（ガスバリア性）が低いため、有機発光層の劣化を惹起するという問題があった。このため、ガラス封止材を用いて、ディスプレイ内部の気密性の高める研究が盛んに行われており、既に一部の有機ＥＬディスプレイにおいて実用化されている。

ガラス封止材は、低融点である程、熱膨張係数が高くなる傾向にあり、通常、その熱膨張係数は６０〜８０×１０^−７／℃である。一方、ガラス板は、高歪点である程、熱膨張係数が低くなる傾向にあり、通常、その熱膨張係数は４０×１０^−７／℃以下である（特許文献１参照）。このため、現状では、ガラス封止材とガラス板の熱膨張係数差は大きい状態になっている。よって、有機ＥＬディスプレイ用ガラス板には、上記の（１）〜（３）に加えて、熱膨張係数がガラス封止材の熱膨張係数に整合していることが要求される。ガラス封止材とガラス板の熱膨張係数差が大きいと、封止部分にかかる応力が大きくなって、封止部分が応力破壊し易くなり、結果として、ディスプレイ内部の気密性を確保し難くなる。この応力破壊を抑制するために、ガラス封止材に多量の低膨張フィラーを添加する方法もあるが、低膨張フィラーを過剰に添加すると、ガラス封止材の流動性が低下して、封止不良が発生し易くなり、結果として、ディスプレイ内部の気密性を確保し難くなる。

更に説明すると、無アルカリガラスの場合、熱膨張係数の調整に有効な成分は、アルカリ土類金属酸化物である。例えば、無アルカリガラスの熱膨張係数を高めたい場合は、アルカリ土類金属酸化物の含有量を多くすればよい。しかし、アルカリ土類金属酸化物の含有量を多くすると、耐失透性が低下し易くなる。このような事情から、従来、高い耐失透性を維持しつつ、ガラス封止材の熱膨張係数に整合させることは困難であった。

そこで、本発明は、生産性（特に耐失透性）に優れると共に、ガラス封止材の熱膨張係数に整合し、しかも歪点が高い無アルカリガラスを創案することにより、ガラス板の製造コストを低廉化しつつ、有機ＥＬディスプレイ内部の気密性を確保し、且つｐ−Ｓｉ・ＴＦＴの製造工程におけるガラス板の熱収縮を低減することを技術的課題とする。

本発明者等は、種々の実験を繰り返した結果、無アルカリガラスのガラス組成範囲を厳密に規制すると共に、ガラス特性を所定範囲に規制することにより、上記技術的課題を解決できることを見出し、本発明として、提案するものである。すなわち、本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３１０〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３０〜５％、ＭｇＯ０〜７％、ＣａＯ３〜１０％、ＳｒＯ０〜９％、ＢａＯ０〜１５％、Ｐ_２Ｏ_５０．１〜２．５％を含有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、歪点が６８０℃より高いことを特徴とする。ここで、「実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず」とは、ガラス組成中のアルカリ金属酸化物（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、及びＫ_２Ｏ）の含有量が１０００ｐｐｍ（質量）以下の場合を指す。歪点は、ＡＳＴＭＣ３３６の方法に基づいて測定した値を指す。

本発明の無アルカリガラスは、上記のようにガラス組成範囲が規制されている。このようにすれば、耐失透性や歪点を高めることが可能になり、しかもガラス封止材の熱膨張係数に整合させ易くなる。特に、ガラス組成中にＰ_２Ｏ_５を０．１〜２．５質量％添加すれば、耐失透性や歪点を顕著に高めることができる。

第二に、本発明の無アルカリガラスは、液相温度が１２００℃より低いことが好ましい。ここで、「液相温度」は、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れた後、温度勾配炉中に２４時間保持して、結晶の析出する温度を測定することにより算出可能である。

第三に、本発明の無アルカリガラスは、モル比ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３の値が５．５〜７．５であることが好ましい。

第四に、本発明の無アルカリガラスは、更に、ＳｎＯ_２を０．００１〜１質量％含むことが好ましい。

第五に、本発明の無アルカリガラスは、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数が４０〜５５×１０^−７／℃であることが好ましい。ここで、「３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数」は、ディラトメーターで測定可能である。

第六に、本発明の無アルカリガラスは、１０^２．５ポアズにおける温度が１６６０℃以下であることが好ましい。ここで、「１０^２．５ポアズにおける温度」は、白金球引き上げ法で測定可能である。

第七に、本発明の無アルカリガラスは、液相温度における粘度が１０^４．８ポアズ以上であることが好ましい。なお、「液相温度における粘度」は、白金球引き上げ法で測定可能である。

第八に、本発明の無アルカリガラスは、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。

第九に、本発明の無アルカリガラスは、有機ＥＬデバイス、特に有機ＥＬディスプレイに用いることが好ましい。

本発明の無アルカリガラスにおいて、上記のように各成分の含有量を限定した理由を以下に示す。なお、各成分の含有量の説明において、％表示は、特に断りがない限り、質量％を表す。

ＳｉＯ_２は、ガラスの骨格を形成する成分である。ＳｉＯ_２の含有量は５５〜７５％、好ましくは５５〜７０％、より好ましくは５８〜６５％、更に好ましくは５８〜６２％である。ＳｉＯ_２の含有量が５５％より少ないと、歪点を高めることが困難となる。また、耐酸性が低下し易くなると共に、密度が高くなり過ぎる。一方、ＳｉＯ_２の含有量が７５％より多いと、高温粘度が高くなり、溶融性が低下し易くなることに加えて、クリストバライト等の失透結晶が析出し易くなって、液相温度が上昇し易くなる。

Ａｌ_２Ｏ_３は、ガラスの骨格を形成する成分であり、また歪点を高める成分であり、更に分相を抑制する成分である。Ａｌ_２Ｏ_３の含有量は１０〜２０％、好ましくは１２〜１８％、より好ましくは１４〜１７％である。Ａｌ_２Ｏ_３の含有量が１０％より少ないと、歪点が低下し易くなり、またガラスが分相し易くなる。一方、Ａｌ_２Ｏ_３の含有量が２０％より多いと、ムライトやアノーサイト等の失透結晶が析出し易くなって、液相温度が上昇し易くなる。

モル比ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３の値は、高歪点と高い耐失透性を両立するために重要な成分比率である。上記の通り、両成分とも歪点を高める効果があるが、相対的にＳｉＯ_２の含有量が多くなると、クリストバライト等の失透結晶が析出し易くなる。一方、相対的にＡｌ_２Ｏ_３の含有量が多くなると、ムライトやアノーサイト等のアルカリ土類アルミノシリケート系の失透結晶が析出し易くなる。このため、モル比ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３の値は５．５〜７．５、５．８〜７．５、６．０〜７.５、特に６．０〜７．０が好ましい。

Ｂ_２Ｏ_３は、溶融性を高めると共に、耐失透性を高める成分である。Ｂ_２Ｏ_３の含有量は０〜５％、好ましくは０〜４％、より好ましくは０〜３．５％、更に好ましくは０．５〜３．５％である。Ｂ_２Ｏ_３の含有量が５％より多いと、歪点や耐酸性が低下し易くなる。

ＭｇＯは、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分である。ＭｇＯの含有量は０〜７％、好ましくは０〜６％、より好ましくは０〜５％、更に好ましくは０〜４％、特に好ましくは０〜３．５％である。ＭｇＯの含有量が７％より多いと、耐失透性が低下し易くなる。

ＣａＯは、歪点を低下させずに、高温粘性を下げて、溶融性を顕著に高める成分であると共に、熱膨張係数を効果的に調整できる成分である。また、ＣａＯは、アルカリ土類金属酸化物の中では、導入原料が比較的安価であるため、原料コストを低廉化する成分である。ＣａＯの含有量は３〜１０％、好ましくは４〜１０％、より好ましくは５〜１０％、更に好ましくは５．５〜１０％、特に好ましくは６〜１０％である。ＣａＯの含有量が３％より少ないと、上記効果を享受し難くなる。一方、ＣａＯの含有量が１０％より多いと、ガラスが失透し易くなる。

ＳｒＯは、分相を抑制し、また耐失透性を高める成分である。更に、歪点を低下させずに、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分であると共に、液相温度の上昇を抑制する成分である。ＳｒＯの含有量は０〜９％、好ましくは０〜８％、より好ましくは０〜７％である。ＳｒＯの含有量が９％より多いと、ストロンチウムシリケート系の失透結晶が析出し易くなって、耐失透性が低下し易くなる。

ＢａＯは、アルカリ土類金属酸化物の中では、耐失透性を顕著に高める成分である。ＢａＯの含有量は０〜１５％、好ましくは０〜１２％、より好ましくは１〜１２％、更に好ましくは２〜１２％である。ＢａＯの含有量が１５％より多いと、高温粘度が高くなり過ぎて、溶融性が低下し易くなることに加えて、ＢａＯを含む失透結晶が析出し易くなって、液相温度が上昇し易くなる。

Ｐ_２Ｏ_５は、歪点を高める成分であると共に、アノーサイト等のアルカリ土類アルミノシリケート系の失透結晶の析出を顕著に抑制する成分である。但し、Ｐ_２Ｏ_５を多量に含有させると、ガラスが分相し易くなる。Ｐ_２Ｏ_５の含有量は０．１〜２．５％、好ましくは０．１〜２．０％、より好ましくは０．１〜１．５％、更に好ましくは０．５〜１．５％である。Ｐ_２Ｏ_５の含有量が０．１％より少ないと、上記効果を享受し難くなる。

上記成分以外にも、例えば、任意成分として、以下の成分を添加してもよい。なお、上記成分以外の他成分の含有量は、本発明の効果を的確に享受する観点から、合量で１０％以下、特に５％以下が好ましい。

ＳｎＯ_２は、高温域で良好な清澄作用を有する成分であると共に、歪点を高める成分であり、また高温粘性を低下させる成分である。ＳｎＯ_２の含有量は０〜１％、０．００１〜１％、０．０１〜０．５％、特に０．０５〜０．３％が好ましい。ＳｎＯ_２の含有量が１％より多いと、ＳｎＯ_２の失透結晶が析出し易くなる。なお、ＳｎＯ_２の含有量が０．００１％より少ないと、上記効果を享受し難くなる。

上記の通り、ＳｎＯ_２は、清澄剤として好適であるが、ガラス特性が損なわれない限り、清澄剤として、Ｆ_２、Ｃｌ_２、ＳＯ_３、Ｃ、或いはＡｌ、Ｓｉ等の金属粉末を５％まで添加することができる。また、清澄剤として、ＣｅＯ_２等も５％まで添加することができる。

清澄剤として、Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３も有効である。本発明の無アルカリガラスは、これらの成分の含有を完全に排除するものではないが、環境的観点から、これらの成分を極力使用しないことが好ましい。さらに、Ａｓ_２Ｏ_３を多量に含有させると、耐ソラリゼーション性が低下する傾向にあるため、その含有量は１％以下、０．５％以下、特に０．１％以下が好ましく、実質的に含有させないことが望ましい。ここで、「実質的にＡｓ_２Ｏ_３を含有しない」とは、ガラス組成中のＡｓ_２Ｏ_３の含有量が０．０５％未満の場合を指す。また、Ｓｂ_２Ｏ_３の含有量は２％以下、１％以下、特に０．５％以下が好ましく、実質的に含有させないことが望ましい。ここで、「実質的にＳｂ_２Ｏ_３を含有しない」とは、ガラス組成中のＳｂ_２Ｏ_３の含有量が０．０５％未満の場合を指す。

Ｃｌは、無アルカリガラスの溶融を促進する効果があり、Ｃｌを添加すれば、溶融温度を低温化できると共に、清澄剤の作用を促進し、結果として、溶融コストを低廉化しつつ、ガラス製造窯の長寿命化を図ることができる。しかし、Ｃｌの含有量が多過ぎると、歪点が低下し易くなる。このため、Ｃｌの含有量は３％以下、１％以下、特に０．５％以下が好ましい。なお、Ｃｌの導入原料として、塩化ストロンチウム等のアルカリ土類金属酸化物の塩化物、或いは塩化アルミニウム等の原料を使用することができる。

ＺｎＯは、溶融性を高める成分であるが、多量にＺｎＯを含有させると、ガラスが失透し易くなり、また歪点が低下し易くなる。ＺｎＯの含有量は０〜５％、０〜３％、０〜０．５％、特に０〜０．３％が好ましく、実質的に含有しないことが望ましい。ここで、「実質的にＺｎＯを含有しない」とは、ガラス組成中のＺｎＯの含有量が０．２％以下の場合を指す。

ＴｉＯ_２は、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分であると共に、ソラリゼーションを抑制する成分であるが、ＴｉＯ_２を多量に含有させると、ガラスが着色して、透過率が低下し易くなる。ＴｉＯ_２の含有量は０〜５％、０〜３％、０〜１％、特に０〜０．０２％が好ましい。

Ｙ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｌａ_２Ｏ_３には、歪点、ヤング率等を高める働きがある。しかし、これらの成分の含有量が各々５％より多いと、密度が増加し易くなる。

本発明の無アルカリガラスにおいて、歪点は６８０℃超であり、好ましくは６９０℃以上、より好ましくは７００℃以上、更に好ましくは７１０℃以上である。このようにすれば、ｐ−Ｓｉ・ＴＦＴの製造工程において、ガラス基板の熱収縮を抑制することができる。

本発明の無アルカリガラスにおいて、液相温度は１２００℃未満、１１９０℃以下、特に１１８０℃以下が好ましい。このようにすれば、ガラス製造時に失透結晶が発生して、生産性が低下する事態を防止し易くなる。更に、オーバーフローダウンドロー法で成形し易くなるため、ガラス板の表面品位を高め易くなると共に、ガラス板の製造コストを低廉化することができる。なお、液相温度は、耐失透性の指標であり、液相温度が低い程、耐失透性に優れる。なお、ディスプレイの高精細化に伴い、回路パターンが微細化される傾向にあるため、従来では問題とならなかった微小異物が断線やショートを引き起こす原因になりつつある。よって、このような問題を防止する観点からも、耐失透性を高める意義は大きい。

本発明の無アルカリガラスにおいて、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数は４０〜５５×１０^−７／℃、４０〜５０×１０^−７／℃、４１〜５０×１０^−７／℃、４２〜５０×１０^−７／℃、特に４２〜４８×１０^−７／℃が好ましい。このようにすれば、ガラス封止材の熱膨張係数に整合し易くなるため、封止部分の応力破壊を抑制できると共に、パネル製造工程における急加熱や急冷等の熱衝撃に耐えることも可能になり、パネル製造のスループットを高めることができる。一方、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数が４０×１０^−７／℃より低いと、ガラス封止材の熱膨張係数に整合し難くなるため、封止部分で応力破壊が発生し易くなる。また、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数が５５×１０^−７／℃より高いと、耐熱衝撃性が低くなって、パネル製造工程のスループットが低下するおそれがある。

本発明の無アルカリガラスにおいて、１０^２．５ポアズにおける温度は１６６０℃以下、１６５０℃以下、特に１６４０℃以下が好ましい。１０^２．５ポアズにおける温度が高くなると、ガラス溶解が困難になって、ガラス板の製造コストが高騰する。なお、１０^２．５ポアズにおける温度は、溶融温度に相当し、この温度が低い程、溶融性に優れる。

本発明の無アルカリガラスにおいて、液相温度における粘度は１０^４．８ポアズ以上、１０^５．０ポアズ以上、１０^５．２ポアズ以上、特に１０^５．５ポアズ以上が好ましい。このようにすれば、成形時に失透が生じ難くなるため、オーバーフローダウンドロー法でガラス板を成形し易くなり、結果として、ガラス板の表面品位を高めることが可能になり、またガラス板の製造コストを低廉化することができる。なお、液相温度における粘度は成形性の指標であり、液相温度における粘度が高い程、成形性に優れる。

本発明の無アルカリガラスは、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。オーバーフローダウンドロー法は、耐熱性の樋状構造物の両側から溶融ガラスを溢れさせて、溢れた溶融ガラスを樋状構造物の下端で合流させながら、下方に延伸成形してガラス板を製造する方法である。オーバーフローダウンドロー法では、ガラス板の表面となるべき面は樋状耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形される。このため、未研磨で表面品位が良好なガラス板を安価に製造することができる。なお、オーバーフローダウンドロー法で用いる樋状構造物の構造や材質は、所望の寸法や表面精度を実現できるものであれば、特に限定されない。また、下方への延伸成形を行う際に、力を印加する方法も特に限定されない。例えば、充分に大きい幅を有する耐熱性ロールをガラス板に接触させた状態で回転させて延伸する方法を採用してもよいし、複数の対になった耐熱性ロールをガラス板の端面近傍のみに接触させて延伸する方法を採用してもよい。

オーバーフローダウンドロー法以外にも、例えば、ダウンドロー法（スロットダウン法等）、フロート法等でガラス板を成形することも可能である。

本発明の無アルカリガラスは、有機ＥＬデバイス、特に有機ＥＬディスプレイに用いることが好ましい。有機ＥＬディスプレイのパネルメーカーでは、ガラスメーカーで成形された大型のガラス板の上に複数個分のデバイスを作製した後、デバイス毎に分割切断して、コストダウンを図っている（所謂、多面取り）。特にＴＶ用途では、デバイス自体が大型化しており、これらのデバイスを多面取りするために、大型のガラス板が要求されている。本発明の無アルカリガラスは、液相温度が低く、また液相温度における粘度が高いため、大型のガラス基板を成形し易く、このような要求を満たすことができる。

以下、本発明を実施例に基づいて説明する。なお、以下の実施例は単なる例示である。本発明は、以下の実施例に何ら限定されない。

表１、２は、本発明の実施例（試料Ｎｏ．１〜１１）と比較例（試料Ｎｏ．１２〜１５）を示している。

まず表中のガラス組成になるように、ガラス原料を調合したガラスバッチを白金坩堝に入れ、１６００〜１６５０℃で２４時間溶融した。ガラスバッチの溶解に際しては、白金スターラーを用いて攪拌し、均質化を行った。次いで、溶融ガラスをカーボン板上に流し出し、板状に成形した後、徐冷点付近の温度で３０分間徐冷した。得られた各試料について、密度、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数ＣＴＥ、歪点Ｐｓ、徐冷点Ｔａ、軟化点Ｔｓ、高温粘度１０^４ｄＰａ・ｓにおける温度、高温粘度１０^３ｄＰａ・ｓにおける温度、高温粘度１０^２．５ｄＰａ・ｓにおける温度、液相温度ＴＬ、及び液相温度における粘度ｌｏｇ_１０ηＴＬを評価した。

密度は、周知のアルキメデス法によって測定した値である。

３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数ＣＴＥは、ディラトメーターで測定した値である。

歪点Ｐｓ、徐冷点Ｔａ、軟化点Ｔｓは、ＡＳＴＭＣ３３６の方法に基づいて測定した値である。

高温粘度１０^４ｄＰａ・ｓ、１０^３ｄＰａ・ｓ、１０^２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は、白金球引き上げ法で測定した値である。

液相温度ＴＬは、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れて、温度勾配炉中に２４時間保持して、結晶の析出する温度を測定した値である。

液相温度における粘度ｌｏｇ_１０ηＴＬは、液相温度ＴＬにおけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値である。

表１、２から明らかなように、試料Ｎｏ．１〜１１は、ガラス組成が所定範囲に規制されているため、アルカリ金属酸化物を含有せず、歪点が６８０℃より高く、また液相温度が１２００℃より低く、しかも３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数が４０〜５５×１０^−７／℃であった。したがって、試料Ｎｏ．１〜１１は、有機ＥＬディスプレイの基板として好適に使用可能であると考えられる。

一方、試料Ｎｏ．１２〜１５は、ガラス組成が所定範囲に規制されていないため、液相温度が高く、耐失透性が低かった。このため、試料Ｎｏ．１２〜１５は、成形性に劣ると共に、失透による微小異物に起因して、ディスプレイの品質や信頼性を低下させるおそれがある。なお、試料Ｎｏ．１４、１５は、ガラス組成が所定範囲に規制されていないため、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数も低かった。

本発明の無アルカリガラスは、液晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ基板、電荷結合素子（ＣＣＤ）、等倍近接型固体撮像素子（ＣＩＳ）等のイメージセンサー用のカバーガラス、太陽電池用の基板及びカバーガラス、有機ＥＬ照明用基板等に好適に使用可能であり、特に有機ＥＬディスプレイ用基板として好適に使用可能である。

Claims

ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３１０〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３０〜５％、ＭｇＯ０〜７％、ＣａＯ３〜１０％、ＳｒＯ０〜９％、ＢａＯ０〜１５％、Ｐ_２Ｏ_５０．１〜２．５％を含有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、歪点が６８０℃より高いことを特徴とする無アルカリガラス。
液相温度が１２００℃より低いことを特徴とする請求項１に記載の無アルカリガラス。
モル比ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３の値が５．５〜７．５であることを特徴とする請求項１又は２に記載の無アルカリガラス。
ＳｎＯ_２を０．００１〜１質量％含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の無アルカリガラス。
３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数が４０〜５５×１０^−７／℃であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の無アルカリガラス。
１０^２．５ポアズにおける温度が１６６０℃以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の無アルカリガラス。
液相温度における粘度が１０^４．８ポアズ以上であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の無アルカリガラス。
オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の無アルカリガラス。
有機ＥＬデバイスに用いることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の無アルカリガラス。