JP2012101959A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2012101959A5
JP2012101959A5 JP2010250246A JP2010250246A JP2012101959A5 JP 2012101959 A5 JP2012101959 A5 JP 2012101959A5 JP 2010250246 A JP2010250246 A JP 2010250246A JP 2010250246 A JP2010250246 A JP 2010250246A JP 2012101959 A5 JP2012101959 A5 JP 2012101959A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
mask blank
polishing
manufacturing
polishing pad
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010250246A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP5671305B2 (ja
JP2012101959A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2010250246A priority Critical patent/JP5671305B2/ja
Priority claimed from JP2010250246A external-priority patent/JP5671305B2/ja
Publication of JP2012101959A publication Critical patent/JP2012101959A/ja
Publication of JP2012101959A5 publication Critical patent/JP2012101959A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5671305B2 publication Critical patent/JP5671305B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2010250246A 2010-11-08 2010-11-08 マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 Active JP5671305B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010250246A JP5671305B2 (ja) 2010-11-08 2010-11-08 マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010250246A JP5671305B2 (ja) 2010-11-08 2010-11-08 マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2012101959A JP2012101959A (ja) 2012-05-31
JP2012101959A5 true JP2012101959A5 (enExample) 2013-12-12
JP5671305B2 JP5671305B2 (ja) 2015-02-18

Family

ID=46392847

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010250246A Active JP5671305B2 (ja) 2010-11-08 2010-11-08 マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5671305B2 (enExample)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6206831B2 (ja) * 2013-03-29 2017-10-04 Hoya株式会社 Ｅｕｖリソグラフィー用マスクブランク用基板の製造方法、ｅｕｖリソグラフィー用多層反射膜付き基板の製造方法、ｅｕｖリソグラフィー用マスクブランクの製造方法、及びｅｕｖリソグラフィー用転写マスクの製造方法
JP7057215B2 (ja) * 2018-05-18 2022-04-19 帝人フロンティア株式会社 研磨パッドおよびその製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004141984A (ja) * 2002-10-22 2004-05-20 Hoya Corp マスクブランクス用基板の製造方法
JP2004303280A (ja) * 2003-03-28 2004-10-28 Hoya Corp 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP4190398B2 (ja) * 2003-11-19 2008-12-03 Ｈｏｙａ株式会社 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法
JP5091417B2 (ja) * 2006-03-30 2012-12-05 富士紡ホールディングス株式会社 研磨布
JP2010086597A (ja) * 2008-09-30 2010-04-15 Hoya Corp 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2006049825A2 (en) Process for manufacturing optical and semiconductor elements
JP2013516768A5 (enExample)
JP2009534202A5 (enExample)
TWI618616B (zh) 方形模具用基板
MY168267A (en) Method for manufacturing magnetic-disk substrate, and polishing pad used in manufacture of magnetic-disk substrate
US20140127983A1 (en) Chemical mechanical polishing conditioner and manufacturing methods thereof
WO2006049849A1 (en) Process for manufacturing a light emitting array
JP5170877B2 (ja) ガラス基板の製造方法
CN103769996B (zh) 吸附垫片、研磨装置及吸附垫片的制造方法
JP2012101959A5 (enExample)
JP2008188710A (ja) ガラス基板の製造方法
JP5814719B2 (ja) 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および修正キャリア
MY168037A (en) Method for manufacturing magnetic-disk glass substrate
SG153742A1 (en) Manufacturing method of glass substrate for magnetic disc
JP2015214449A (ja) ガラス基板の製造方法及びガラス基板
EP2594366A3 (en) Method of preparing substrate
JP2009279696A (ja) ガラス基板の製造方法
JPWO2015046525A1 (ja) 非磁性基板の製造方法
CN204135910U (zh) 一种抛光盘装置
JP2011165958A (ja) 貼り合わせ基板用支持基板およびその製造方法
TWI901193B (zh) 研磨墊及其製造方法以及研磨方法
JP2012240189A (ja) 研磨装置、研磨方法および研磨パッド
JP5764618B2 (ja) ガラス基板の製造方法
TWI409137B (zh) 研磨墊及其微型結構形成方法
JP7550583B2 (ja) 研磨パッド及びその製造方法