JP2012101959A5 - - Google Patents

Claims (17)

1. 研磨パッドを備える上下両定盤の両研磨パッド間に、キャリアで保持された基板を挟持し、研磨液を供給しつつ、前記研磨パッドの研磨面に対して基板を相対移動させ、前記基板の両主表面を研磨する研磨工程を備えるマスクブランク用基板の製造方法であって、
   前記研磨パッドは、
   少なくとも、基材と、
   前記基材上に形成され、表面に開孔を有する発泡した樹脂からなるナップ層とからなり、
   前記研磨パッドの圧縮変形量が４０μｍ以上であり、
   前記ナップ層を形成する樹脂の１００％モジュラスが１４．５ＭＰａ以上である
   ことを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。
2. 研磨パッドを備える上下両定盤の両研磨パッド間に、キャリアで保持された基板を挟持し、研磨液を供給しつつ、前記研磨パッドの研磨面に対して基板を相対移動させ、前記基板の両主表面を研磨する研磨工程を備えるマスクブランク用基板の製造方法であって、
   前記研磨パッドは、
   基材と、
   前記基材上に形成される緩衝層と、
   前記緩衝層上に形成され、表面に開孔を有する発泡した樹脂からなるナップ層とからなり、
   前記研磨パッドの圧縮変形量が４０μｍ以上であり、
   前記ナップ層を形成する樹脂の１００％モジュラスが１４．５ＭＰａ以上である
   ことを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。
3. 前記研磨パッドの圧縮変形量が７０μｍ以上であることを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
4. 前記ナップ層を形成する樹脂の１００％モジュラスが４０ＭＰａ以下であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
5. 前記研磨液は、酸化セリウム砥粒を含有していることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
6. 前記基板は、主表面の形状が矩形であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
7. 前記基板は、合成石英ガラスまたは低熱膨張ガラスであることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
8. 前記ナップ層の厚さは、３００μｍ以上１０００μｍ以下であることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
9. 前記ナップ層の開孔の径は、４０μｍ以上１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
10. 前記ナップ層は、ポリカーボネート系樹脂を含有する材料からなることを特徴とする請求項１から９のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
11. 前記緩衝層の厚さは、１００μｍ以上７００μｍ以下であることを特徴とする請求項２記載のマスクブランク用基板の製造方法。
12. 前記緩衝層およびナップ層のいずれか一方又は双方の層は、ポリカーボネート系樹脂を含有する材料からなることを特徴とする請求項２記載のマスクブランク用基板の製造方法。
13. 前記基材は、樹脂フィルム、又は、不織布であることを特徴とする請求項１から１２のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
14. 前記基材は、ポリエチレンテレフタレートからなる樹脂フィルムであることを特徴とする請求項１から１３のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
15. 前記研磨工程で研磨された基板の両主表面に対し、コロイダルシリカ砥粒を含む研磨液による研磨を行う超精密研磨工程を有することを特徴とする請求項１から１４のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
16. 請求項１５に記載のマスクブランク用基板の製造方法で製造されたマスクブランク用基板の主表面上に、転写パターン形成用の薄膜を形成することを特徴とするマスクブランクの製造方法。
17. 請求項１６に記載のマスクブランクの製造方法で製造されたマスクブランクにおける前記薄膜をパターニングして、転写パターンを形成することを特徴とする転写用マスクの製造方法。