JP5671305B2 - マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 - Google Patents

マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5671305B2
JP5671305B2 JP2010250246A JP2010250246A JP5671305B2 JP 5671305 B2 JP5671305 B2 JP 5671305B2 JP 2010250246 A JP2010250246 A JP 2010250246A JP 2010250246 A JP2010250246 A JP 2010250246A JP 5671305 B2 JP5671305 B2 JP 5671305B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
polishing
mask blank
manufacturing
polishing pad
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010250246A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2012101959A5 (enExample
JP2012101959A (ja
Inventor
貴仁 西村
貴仁 西村
小池　今朝広
今朝広 小池
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoya Corp
Original Assignee
Hoya Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoya Corp filed Critical Hoya Corp
Priority to JP2010250246A priority Critical patent/JP5671305B2/ja
Publication of JP2012101959A publication Critical patent/JP2012101959A/ja
Publication of JP2012101959A5 publication Critical patent/JP2012101959A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5671305B2 publication Critical patent/JP5671305B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
JP2010250246A 2010-11-08 2010-11-08 マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 Active JP5671305B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010250246A JP5671305B2 (ja) 2010-11-08 2010-11-08 マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010250246A JP5671305B2 (ja) 2010-11-08 2010-11-08 マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2012101959A JP2012101959A (ja) 2012-05-31
JP2012101959A5 JP2012101959A5 (enExample) 2013-12-12
JP5671305B2 true JP5671305B2 (ja) 2015-02-18

Family

ID=46392847

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010250246A Active JP5671305B2 (ja) 2010-11-08 2010-11-08 マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5671305B2 (enExample)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6206831B2 (ja) * 2013-03-29 2017-10-04 Hoya株式会社 Ｅｕｖリソグラフィー用マスクブランク用基板の製造方法、ｅｕｖリソグラフィー用多層反射膜付き基板の製造方法、ｅｕｖリソグラフィー用マスクブランクの製造方法、及びｅｕｖリソグラフィー用転写マスクの製造方法
JP7057215B2 (ja) * 2018-05-18 2022-04-19 帝人フロンティア株式会社 研磨パッドおよびその製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004141984A (ja) * 2002-10-22 2004-05-20 Hoya Corp マスクブランクス用基板の製造方法
JP2004303280A (ja) * 2003-03-28 2004-10-28 Hoya Corp 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP4190398B2 (ja) * 2003-11-19 2008-12-03 Ｈｏｙａ株式会社 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法
JP5091417B2 (ja) * 2006-03-30 2012-12-05 富士紡ホールディングス株式会社 研磨布
JP2010086597A (ja) * 2008-09-30 2010-04-15 Hoya Corp 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012101959A (ja) 2012-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4858154B2 (ja) マスクブランクス用ガラス基板の研磨方法。
JP5332249B2 (ja) ガラス基板の研磨方法
JP6206831B2 (ja) Ｅｕｖリソグラフィー用マスクブランク用基板の製造方法、ｅｕｖリソグラフィー用多層反射膜付き基板の製造方法、ｅｕｖリソグラフィー用マスクブランクの製造方法、及びｅｕｖリソグラフィー用転写マスクの製造方法
TWI568699B (zh) 合成石英玻璃基板及其製造方法
JP5767357B1 (ja) マスクブランク用基板、マスクブランク及び転写用マスク、並びにそれらの製造方法
JP2011240483A (ja) ガラス基板の研磨方法およびガラス基板
KR102046662B1 (ko) 각형 금형용 기판
KR20140027314A (ko) 마스크 블랭크용 기판, 마스크 블랭크, 반사형 마스크 블랭크, 전사 마스크, 및 반사형 마스크, 그리고 그들의 제조방법
JP2004303281A (ja) 研磨パッド及びそれを使用した情報記録媒体用ガラス基板の製造方法並びにその方法で得られた情報記録媒体用ガラス基板
JP5090633B2 (ja) ガラス基板の研磨方法
JP6628646B2 (ja) 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法
US20160266482A1 (en) Glass substrate for mask blank
JP5671305B2 (ja) マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法
EP1710045B1 (en) A substrate and a method for polishing a substrate
JP2006011434A (ja) マスクブランク用基板、マスクブランクおよび転写用マスクの製造方法
JP5989394B2 (ja) マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法
JP4858622B2 (ja) 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP5989393B2 (ja) マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法
JP2004302280A (ja) マスクブランクス用基板の製造方法、及びマスクブランクスの製造方法、並びに転写マスクの製造方法
JP5518166B2 (ja) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク製造方法
JP2008103061A (ja) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク製造方法
JP2009006457A (ja) 基板の製造方法
EP4296777A1 (en) Substrate for mask blanks and method for manufacturing the same
JP2006334706A (ja) 研磨パッドおよび該研磨パッドを用いた研磨方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131025

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20131025

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140320

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140409

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140606

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20141210

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20141219

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5671305

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250