JP2012089626A - 光デバイスウエーハの分割方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1の方向に形成されたストリート121と第2の方向に形成されたストリート122との交点に、貫通孔110を形成する第1及び第2の貫通孔形成工程と、光デバイスウエーハ10の表面10a側から第1の方向および第2の方向に形成されたストリートに沿ってレーザー光線を照射し、レーザー加工溝111を形成する初回レーザー加工溝形成工程と、初回レーザー加工溝形成工程で形成されたレーザー加工溝111に重ねてレーザー光線を照射する2回目以降レーザー加工溝形成工程とを含み、2回目以降レーザー加工溝形成工程は、貫通孔110を裏面側から撮像手段8によって検出し、貫通孔110が検出されたストリートをレーザー光線の照射位置に位置付ける補正工程を含んでいる。
【選択図】図10
Description
しかるに、光デバイス層が装着された金属基板は線膨張係数が大きいため、レーザー光線の照射による熱によって膨張する。このため、一定の間隔で設定されているストリートの間隔が変化するため、一定の間隔で割り出し送りしてレーザー光線を照射すると、レーザー光線がストリートから外れて光デバイスを損傷させるという問題がある。
第1の方向に形成された複数のストリートの少なくとも1本のストリートにおける第2の方向に形成された複数のストリートとの交点に、設定されたストリート本数毎にストリートの幅を超えない大きさの貫通孔を形成する第1の貫通孔形成工程と、
第2の方向に形成された複数のストリートの少なくとも1本のストリートにおける第1の方向に形成された複数のストリートとの交点に、設定されたストリート本数毎にストリートの幅を超えない大きさの貫通孔を形成する第2の貫通孔形成工程と、
光デバイスウエーハの表面側から第1の方向および第2の方向に形成された複数のストリートに沿ってレーザー光線を照射し、複数のストリートに沿ってレーザー加工溝を形成する初回レーザー加工溝形成工程と、
初回レーザー加工溝形成工程が実施された光デバイスウエーハに形成されたレーザー加工溝に重ねてレーザー光線を照射する2回目以降レーザー加工溝形成工程と、を含み、
該2回目以降レーザー加工溝形成工程は、該第1の貫通孔形成工程および第2の貫通孔形成工程において形成された貫通孔を光デバイスウエーハの裏面側から撮像手段によって検出し、貫通孔が検出されたストリートをレーザー光線の照射位置に位置付ける補正工程を含んでいる、
ことを特徴とする光デバイスウエーハの分割方法が提供される。
図2に示すレーザー加工装置2は、静止基台20と、該静止基台20に矢印Xで示す加工送り方向(X軸方向)に移動可能に配設され被加工物を保持する被加工物保持機構3と、静止基台20に加工送り方向(X軸方向)と直交する矢印Yで示す割り出し送り方向(Y軸方向)に移動可能に配設されたレーザー光線照射ユニット支持機構5と、該レーザー光線照射ユニット支持機構5に矢印Zで示す集光点位置調整方向(Z軸方向)に移動可能に配設されたレーザー光線照射ユニット6とを具備している。
図示の実施形態においては、先ず光デバイスウエーハ10の第1の方向に形成された複数のストリート121の少なくとも1本のストリートにおける第2の方向に形成された複数のストリート122との交点に、設定されたストリート本数毎にストリートの幅を超えない大きさの貫通孔を形成する第1の貫通孔形成工程と、第2の方向に形成された複数のストリート122の少なくとも1本のストリートにおける第1の方向に形成された複数のストリート121との交点に、設定されたストリート本数毎にストリートの幅を超えない大きさの貫通孔を形成する第2の貫通孔形成工程を実施する。なお、図示の実施形態における光デバイスウエーハ10は、図1に示すように貫通孔を形成する位置を示すマーク120が形成されているので、このマーク120の位置に貫通孔を形成する。
先ず、第1の方向に形成された複数のストリート121に沿ってレーザー加工溝を形成するために、加工送り手段33を作動して光デバイスウエーハ10を吸引保持した被加工物保持手段4を第1の撮像手段7の直下に位置付ける。被加工物保持手段4が第1の撮像手段7の直下に位置付けられると、第1の撮像手段7および制御手段9によって光デバイスウエーハ10の表面10aに形成された第1の方向に形成された複数のストリート121を撮像し、第1の方向に形成された複数のストリート121が加工送り方向(X軸方向)と平行であるか否か確認する。もし、第1の方向に形成された複数のストリート121が加工送り方向(X軸方向)と平行でない場合には、被加工物保持部材43を回動して第1の方向に形成された複数のストリート121が加工送り方向(X軸方向)と平行となるように調整する(アライメント工程)。
光源 :YAGレーザーまたはYVO4レーザー
波長 :355nm(紫外光)
出力 :7W
繰り返し周波数:10kHz
集光スポット径:φ20μm
加工送り速度 :100mm/秒
20:静止基台
3:被加工物保持機構
31:移動基台
32:支持基台
33:加工送り手段
4:被加工物保持手段
41:支持部材
42:回転筒
43:被加工物保持部材
5:レーザー光線照射ユニット支持機構
52:可動支持基台
53:割り出し送り手段
6:レーザー光線照射ユニット
62:レーザー光線照射手段
622:集光器
7:第1の撮像手段
8:第2の撮像手段
10:光デバイスウエーハ
Claims (2)
- 金属基板の表面に第1の方向に形成された複数のストリートと第1の方向と直交する第2の方向に形成された複数のストリートとによって区画された複数の領域に光デバイスが形成されている光デバイス層が装着された光デバイスウエーハを、ストリートに沿って分割する光デバイスウエーハの分割方法であって、
第1の方向に形成された複数のストリートの少なくとも1本のストリートにおける第2の方向に形成された複数のストリートとの交点に、設定されたストリート本数毎にストリートの幅を超えない大きさの貫通孔を形成する第1の貫通孔形成工程と、
第2の方向に形成された複数のストリートの少なくとも1本のストリートにおける第1の方向に形成された複数のストリートとの交点、に設定されたストリート本数毎にストリートの幅を超えない大きさの貫通孔を形成する第2の貫通孔形成工程と、
光デバイスウエーハの表面側から第1の方向および第2の方向に形成された複数のストリートに沿ってレーザー光線を照射し、複数のストリートに沿ってレーザー加工溝を形成する初回レーザー加工溝形成工程と、
初回レーザー加工溝形成工程が実施された光デバイスウエーハに形成されたレーザー加工溝に重ねてレーザー光線を照射する2回目以降レーザー加工溝形成工程と、を含み、
該2回目以降レーザー加工溝形成工程は、該第1の貫通孔形成工程および第2の貫通孔形成工程において形成された貫通孔を光デバイスウエーハの裏面側から撮像手段によって検出し、貫通孔が検出されたストリートをレーザー光線の照射位置に位置付ける補正工程を含んでいる、
ことを特徴とする光デバイスウエーハの分割方法。 - 該第1の貫通孔形成工程および該第2の貫通孔形成工程は、光デバイスウエーハの設定された位置にレーザー光線を照射してレーザー貫通孔を形成する、請求項1記載の光デバイスウエーハの分割方法。
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