JP2012083387A - 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、反射防止膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(A)中空又は多孔質粒子、(B)前記粒子(A)に化学的に結合可能な基を有するアルカリ可溶性粒子分散剤、(C)活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物、及び(D)前記活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が減少するバインダーを含有する感光性組成物。
【選択図】なし
Description
即ち、本発明は、屈折率が低く、更には、膜強度に優れ、現像欠陥が少ないパターンを高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、反射防止膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供することを目的とする。
[2] 前記粒子(A)が表面にアルコシキ基及び水酸基の少なくとも一方を有し、前記粒子分散剤(B)の前記粒子(A)に化学的に結合可能な基が、加水分解性シリル基及びシラノール基の少なくとも一方を含む、上記[1]に記載の感光性組成物。
[3] 前記粒子分散剤(B)が更に重合性基を有する、上記[1]又は[2]に記載の感光性組成物。
[4] 前記粒子分散剤(B)と前記バインダー(D)とが同一である、上記[3]に記載の感光性組成物。
[5] 前記バインダー(D)が、重合性基を有するアルカリ可溶性バインダー樹脂を含有する、上記[1]〜[3]のいずれか1項に記載の感光性組成物。
[6] 前記バインダー(D)が、重合性化合物を含有する、上記[1]〜[3]のいずれか1項に記載の感光性組成物。
[7] 前記中空又は多孔質粒子の屈折率が1.10〜1.40である、上記[1]〜[6]のいずれか1項に記載の感光性組成物。
[8] マイクロレンズの被覆用途に使用される、上記[1]〜[7]のいずれか1項に記載の感光性組成物。
[9] 上記[1]〜[8]のいずれか1項に記載の感光性組成物であるパターン形成材料。
[10] 上記[1]〜[8]のいずれか1項に記載の感光性組成物により形成される感光性膜。
[11] 上記[10]に記載の感光性膜を形成する工程、前記感光性膜を露光する工程、及び、アルカリ現像液により現像してパターン膜を得る現像工程を含むパターン形成方法。
[12] 上記[11]に記載のパターン形成方法により得られるパターン膜。
[13] 上記[12]に記載のパターン膜である低屈折率膜。
[14] 上記[13]に記載の低屈折率膜である反射防止膜。
[15] 上記[13]に記載の低屈折率膜、又は、上記[14]に記載の反射防止膜を有する光学デバイス。
[16] 上記[15]に記載の光学デバイスを備えた固体撮像素子。
[17] 前記中空又は多孔質粒子(A)が中空粒子である、上記[1]〜[8]のいずれか1項に記載の感光性組成物。
[18] 前記中空又は多孔質粒子(A)がシリカ粒子である、上記[1]〜[8]、[17]のいずれか1項に記載の感光性組成物。
[19] 前記重合性化合物が、重合性基を2個以上有する多官能重合性化合物である、上記[6]〜[8]、[17]、[18]のいずれか1項に記載の感光性組成物。
[20] 前記重合性化合物が、分子量2000以下の低分子化合物である、上記[6]〜[8]、[17]、[18]、[19]のいずれか1項に記載の感光性組成物。
なお、本明細書に於ける基(原子団)の表記に於いて、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
また本明細書中における「活性光線」又は「放射線」とは、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線(EUV光)、X線、電子線等を意味する。また本発明において光とは、活性光線又は放射線を意味する。本明細書中における「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、X線、EUV光などによる露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線による描画も露光に含める。
更に、中空又は多孔質粒子(A)とアルカリ可溶性粒子分散剤(B)とを組み合わせて使用することにより、粒子(A)の表面とアルカリ可溶性粒子分散剤(B)とが結合して、パターンの膜強度が向上するものと考えられる。また、粒子(A)にアルカリ可溶性粒子分散剤(B)が固定化されるため、現像工程等において、露光部から粒子(A)が脱離することが充分に抑制され、これにより、現像欠陥が少ないパターンが得られるものと考えられる。
また、本発明は、上記感光性組成物であるパターン形成材料にも関する。
中空粒子は、内部に空洞を有する構造のものであり、外郭に包囲された空洞を有する粒子を指し、多孔質粒子は、多数の空洞を有する多孔質の粒子を指す。
このような粒子の空隙率は、好ましくは10〜80%、更に好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。中空又は多孔質粒子の空隙率を上述の範囲にすることが、低屈折率化と粒子の耐久性維持の観点で好ましい。
中空又は多孔質粒子は、屈折率を低下しやすい観点から、中空粒子であることがより好ましい。例えば、中空粒子をシリカで構成した場合には、中空シリカ粒子は、屈折率の低い空気(屈折率=1.0)を有しているため、その屈折率は、通常のシリカ(屈折率=1.46)と比較して著しく低くなる。
中空又は多孔質粒子の平均粒子径は、分散した粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から求めることができる。粒子の投影面積を求め、そこから円相当径を求め平均粒径とする(通常、平均粒径を求めるために300個以上の粒子について測定する)。
ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、粒子が中空粒子である場合、中空粒子を形成している外殻のみの屈折率を表すものではない。粒子が多孔質粒子である場合、多孔質粒子の屈折率は、アッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定することができる。
すなわち、中空又は多孔質粒子は、その表面(より正確には外表面)に、後述する粒子分散剤(B)の「粒子(A)に化学的に結合可能な基」に対して結合可能な基(「粒子分散剤(B)に対して結合可能な基」とも言う)を有している。中空又は多孔質粒子における、このような粒子分散剤(B)に対して結合可能な基は、化学的に活性な基であることが好ましい。
より具体的には、中空又は多孔質粒子は、「粒子分散剤(B)に対して結合可能な基」として、アルコキシ基及び水酸基の少なくとも一方を有することが好ましく、水酸基を有することがより好ましい。
また、「アルコキシ基及び水酸基の少なくとも一方の基」を有する中空又は多孔質粒子は、市販品としても入手可能である。
これらの無機粒子の一次粒子径は、1〜500nmであることが好ましく、1〜200nmであることがより好ましい。
無機粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球形状が最も好ましいが、数珠状、長径と短径の比が1以上の形状、あるいは不定形状であってもよい。
すなわち、無機粒子がシリカ粒子であり、カップリング剤がシラン化合物である場合、シラン化合物とシラノール基との反応により、オルガノシリル基(モノオルガノシリル、ジオルガノシリル、トリオルガノシリル基)がシリカ粒子の表面に結合するものである。表面処理されたシリカ粒子がその表面に有する有機基としては、飽和又は不飽和の炭素数1〜18の炭化水素基、炭素数1〜18のハロゲン化炭化水素基などが挙げられる。
上記カップリング剤は、無機粒子の表面処理剤として低屈折率膜用塗布液の調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられても、塗布液調製時に更に添加剤として添加してもよい。
無機粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
例えば日揮触媒化成(株)製スルーリアシリーズ(イソプロパノール(IPA)分散、4−メチル−2−ペンタノン(MIBK)分散など)、OSCALシリーズ、日産化学(株)製スノーテックスシリーズ(IPA分散、エチレングリコール分散、メチルエチルケトン(MEK)分散、ジメチルアセトアミド分散、MIBK分散、プロピレングリコールモノメチルアセテート分散、プロピレングリコールモノメチルエーテル分散、メタノール分散、酢酸エチル分散、酢酸ブチル分散、キシレン−n−ブタノール分散、トルエン分散など)、日鉄鉱業(株)製シリナックス、扶桑化学工業(株)製PLシリーズ(IPA分散、トルエン分散、プロピレングリコールモノメチルエーテル分散、メチルエチルケトン分散など)、EVONIK社製アエロジルシリーズ(プロピレングリコールアセテート分散、エチレングリコール分散、MIBK分散など)などのシリカ粒子を用いることができる。
本発明の感光性組成物は、アルカリ可溶性粒子分散剤(B)を含有している。
すなわち、アルカリ可溶性粒子分散剤(B)は、粒子(A)に化学的に結合可能な基を有しており、これにより上記のように、パターンの膜強度が向上するとともに、現像欠陥が少ないパターンが得られるものと考えられる。
粒子(A)が表面にアルコシキ基及び水酸基の少なくとも一方を有するとともに、粒子分散剤(B)がアルキルハライド基を有する場合には、エーテル結合が形成され、粒子(A)が表面に水酸基を有するとともに、粒子分散剤(B)がカルボキシル基を有する場合には、エステル結合が形成され、粒子(A)が表面に水酸基を有するとともに、粒子分散剤(B)のイソシアナート基を有する場合には、カルバモイル結合が形成され、粒子(A)が表面にアルコシキ基及び水酸基の少なくとも一方を有するとともに、粒子分散剤(B)が加水分解性シリル基及びシラノール基の少なくとも一方を有する場合には、シロキサン結合が形成される。
ケイ素原子に結合する加水分解性基としては、特にアルコキシ基、ハロゲン原子が好ましく、アルコキシ基がより好ましい。
アルコキシ基としては、炭素数1〜30のアルコキシ基が好ましい。より好ましくは炭素数1〜15のアルコキシ基、更に好ましくは炭素数1〜5のアルコキシ基、特に好ましくは炭素数1〜3のアルコキシ基、最も好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。
また、ハロゲン原子としては、F原子、Cl原子、Br原子、I原子が挙げられ、合成のしやすさ及び安定性の観点で、好ましくはCl原子及びBr原子であり、より好ましくはCl原子である。
本発明において、粒子分散剤(B)は、炭素数1〜4のアルコキシ基及び水酸基を合計で同一のケイ素原子上に2〜4個有することが好ましく、2又は3個有することがより好ましく、これにより膜強度をより向上させることができる。
アルコキシ基の結合したアルコキシシリル基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリイソプロポキシシリル基、トリフェノキシシリル基などのトリアルコキシシリル基;ジメトキシメチルシリル基、ジエトキシメチルシリル基などのジアルコキシモノアルキルシリル基;メトキシジメチルシリル基、エトキシジメチルシリル基などのモノアルコキシジアルキルシリル基を挙げることができる。
(y)アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基(以下、「極性変換基」ともいう。)
好ましいアルカリ可溶性基としては、フッ素化アルコール基(好ましくはヘキサフルオロイソプロパノール)、スルホンイミド基、ビス(カルボニル)メチレン基が挙げられ、これらを用いることによって粒子混合下における組成物の経時安定性が向上する。更に好ましくはヘキサフルオロイソプロパノール基、ビス(カルボニル)メチレン基であり、より低屈折率の膜が得られる。
分散樹脂としては、粒子(A)に化学的に結合可能な基を側鎖又は末端に有し、アルカリ可溶性基を側鎖又は末端に有する樹脂を好適に挙げることができる。
粒子(A)に化学的に結合する基とメルカプト基とを有する化合物としては、上式(A−1)で表される基とメルカプト基とを有する化合物であることが好ましく、具体的には、下記一般式(A−1’)で表されるシラン化合物などを挙げることができる。
R1〜R3は、それぞれ、上式(A−1)におけるR1〜R3と同義であり、好ましい例も同様である。
前記RBは、膜強度の観点から、エステル結合又はウレタン結合であることが好ましく、エステル結合であることがより好ましい。
前記L1〜L3における二価又はn+1価の連結基は、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子よりなる群から選ばれた少なくとも1種の原子から構成された基であることが好ましく、炭素原子、水素原子、酸素原子及び硫黄原子よりなる群から選ばれた少なくとも1種の原子から構成された基であることがより好ましい。前記L1〜L3の炭素数は、2〜60であることが好ましく、2〜30であることがより好ましい。また、L3は、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、及び、イミノ基を含まないことが好ましい。
前記Ls1におけるm+1価の連結基は、硫黄原子と、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子よりなる群から選ばれた少なくとも1種の原子とから構成された基であることが好ましく、アルキレン基、又は、アルキレン基、スルフィド基及びイミノ基を2以上組み合わせた2価の基であることがより好ましい。前記Ls1の炭素数は、2〜60であることが好ましく、6〜30であることがより好ましい。
前記n及びmはそれぞれ独立に、1〜10の整数であることが好ましく、1〜6の整数であることが更に好ましく、1であることが特に好ましい。
カルボン酸又はその塩を有するモノマーとしては、例えば、N,N−ジメチル−N−メタクリロイルオキシエチル−N−カルボキシメチル−アンモニウムベタイン、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、分子内に付加重合性二重結合と水酸基を有する化合物(例えば、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル)とコハク酸無水物の反応物、分子内に付加重合性二重結合と水酸基を有する化合物とフタル酸無水物の反応物、分子内に付加重合性二重結合と水酸基を有する化合物とテトラヒドロキシフタル酸無水物の反応物、分子内に付加重合性二重結合と水酸基を有する化合物と無水トリメリット酸の反応物、分子内に付加重合性二重結合と水酸基を有する化合物とピロメリット酸無水物の反応物、アクリル酸、アクリル酸ダイマー、アクリル酸オリゴマー、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、4−ビニル安息香酸等を挙げることができる。
イソシアナート基を有するモノマーとしては、例えば、メタクリル酸2−イソシアナートエチルエステル、メタクリル酸2−イソシアナートエチルエステル等を挙げることができる。
加水分解性シリル基及びシラノール基の少なくとも一方を有するモノマーとしては、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等、更にはこれらモノマーのアルコキシ基の一部又は全てが水酸基に変換されたモノマーを挙げることができる。
Rは、水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表す。
Aは、−COO−又は−CONH−を表す。
R0は、アルキレン基、シクロアルキレン基、又はこれらの組み合わせを表し、複数個ある場合には同じであっても異なっていてもよい。
Zは、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、又はウレア結合を表し、複数個ある場合には同じであっても異なっていてもよい。
Lは、ラクトン構造を有する置換基を表し、複数個ある場合には同じであっても異なっていてもよい。
nは1〜5の整数を表す。
Rのアルキル基は、置換基を有していてもよい。この置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等のハロゲン原子;メルカプト基;ヒドロキシ基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、t−ブトキシ基及びベンジルオキシ基のアルコキシ基;メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基及びシクロヘプチル基等のシクロアルキル基;シアノ基;ニトロ基;スルホニル基;シリル基;エステル基;アシル基;ビニル基;及びアリール基が挙げられる。この置換基としては、ハロゲン原子がより好ましく、フッ素原子が特に好ましい。 Rのハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等を挙げることができる。
nは、1であることが好ましい。
Lで表される基としては、ラクトン構造を有していればいずれでも用いることができるが、好ましくは5〜7員環ラクトン構造であり、5〜7員環ラクトン構造にビシクロ構造、スピロ構造を形成する形で他の環構造が縮環しているものが好ましい。下記一般式(LC1−1)〜(LC1−17)のいずれかで表されるラクトン構造を有する繰り返し単位を有することがより好ましい。また、ラクトン構造が主鎖に直接結合していてもよい。好ましいラクトン構造としては(LC1−1)、(LC1−4)、(LC1−5)、(LC1−6)、(LC1−13)、(LC1−14)、(LC1−17)であり、特定のラクトン構造を用いることで、パターン矩形性、現像欠陥が良好になる。
更に特に好ましいラクトン繰り返し単位としては、下記一般式(IV−2)により表される繰り返し単位を挙げることができる。
R1は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、又はシアノ基を表し、複数個ある場合には同じであっても異なっていてもよく、2つのR1が結合し、環を形成していてもよい。
Xは、アルキレン基、酸素原子又は硫黄原子を表す。
mは、置換基数であって、0〜5の整数を表す。mは0又は1であることが好ましい。
R、R0、Z、及びnの好ましい例及び範囲は、一般式(IV)における各々と同様である。
R1のアルキル基としては、炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基が最も好ましい。シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。アルコキシカルボニル基としては炭素数2〜5のアルコキシカルボニル基が好ましく、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基等を挙げることができる。これらの基は置換基を有していてもよく、置換基としてはヒドロキシ基、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基、シアノ基、フッ素原子などのハロゲン原子を挙げることができる。
R1は、メチル基又はシアノ基であることがより好ましく、シアノ基であることが更に好ましい。
mが1以上である場合、少なくとも1つのR1は、ラクトンのカルボニル基のα位又はβ位に結合していることが好ましく、特にα位に結合していることが好ましい。
Xのアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基等が挙げられる。Xは、酸素原子又はメチレン基であることが好ましく、メチレン基であることが更に好ましい。
以下に、一般式(IV)により表される部分構造を備えた繰り返し単位の具体例を示す。下記具体例中、Rxは、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又はハロゲン原子を表し、好ましくは、水素原子、メチル基、置換基を有するアルキル基であるヒドロキシメチル基、アセチルオキシメチル基を表す。Rは、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又はハロゲン原子を表し、好ましくは、水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、アセトキシメチル基を表す。
なお、例えば、カルボキシル基を有するモノマーのように、粒子(A)に化学的に結合する基を有する繰り返し単位(I)とアルカリ可溶性繰り返し単位(II)とは同一であっても良く、この場合、繰り返し単位(I)であって、かつ、繰り返し単位(II)でもある繰り返し単位は、分散樹脂中の全繰り返し単位に対し、1モル%〜100モル%であることが好ましく、2モル%〜99モル%がより好ましく、2モル%〜95モル%であることが最も好ましい。
ただし、繰り返し単位(I)と繰り返し単位(II)とは異なることが好ましい。
G21、G22及びG23は、各々独立に、2価の連結基を表す。
X21及びZ21は、各々独立に酸素原子、硫黄原子又は−N(R42)−を表し、R42は水素原子又はアルキル基を表す。
Y21は、単結合、酸素原子、硫黄原子、フェニレン基又は−N(R43)−を表し、R43は水素原子又はアルキル基を表す。
R21〜R40は、各々独立に水素原子又は1価の置換基を表す。
R24〜R26は各々独立に、水素原子又は1価の置換基を表す。R24としては、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基(好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜4)などが挙げられ、アルキル基が有していてもよい置換基としては、水酸基、ハロゲン原子等が挙げられる。中でも、R24は、水素原子、メチル基又はエチル基であることが好ましい。また、R25及びR26としては、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜15)、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基(好ましくは炭素数1〜20)、置換基を有していてもよいアリール基(好ましくは炭素数6〜20)、置換基を有していてもよいアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜15)、置換基を有していてもよいアリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(好ましくは炭素数1〜20)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(好ましくは炭素数6〜20)などが挙げられ、中でも、水素原子、アルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基が好ましく、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましい。ここで、導入しうる置換基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピオキシカルボニル基、メチル基、エチル基、フェニル基等が挙げられる。
G21は、2価の連結基を表す。G21で表される2価の連結基としては、置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、置換基を有していてもよい2価の芳香族基、−OC(O)−、−C(O)O―、−N(R44)−及びこれらを組み合わせてなる連結基(総炭素数が好ましくは1〜20であり、総炭素数1〜15であることがより好ましく、総炭素数2〜10であることが更に好ましい)が好ましい。R44は、水素原子又はアルキル基(好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜4)を表す。G21としてより好ましくは、炭素数1〜20の置換基を有していてもよいアルキレン基、炭素数3〜20の置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、炭素数6〜20の置換基を有していてもよい2価の芳香族基、−OC(O)−、−C(O)O―、−N(R44)−及びこれらを組み合わせてなる連結基が挙げられ、中でも、置換基を有していてもよい炭素数1〜10の直鎖状或いは分岐アルキレン基、炭素数3〜10の置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、炭素数6〜12の置換基を有していてもよい2価の芳香族基、−OC(O)−、−C(O)O―、−N(R44)−及びこれらを組み合わせてなる連結基が強度、現像性等の性能上、好ましい。
R30〜R32は、各々独立に、水素原子又は1価の置換基を表す。R30〜R32としては、具体的には例えば、水素原子、ハロゲン原子、ジアルキルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜15)、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基(好ましくは炭素数1〜20)、置換基を有していてもよいアリール基(好ましくは炭素数6〜20)、置換基を有していてもよいアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜15)、置換基を有していてもよいアリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基(好ましくは炭素数1〜20)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基(好ましくは炭素数6〜20)などが挙げられ、中でも、水素原子、アルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基が好ましい。
ここで、導入しうる置換基としては、一般式(5)においてR21〜R23に導入しうる置換基として挙げたものが同様に例示される。
G22は、2価の連結基を表す。G22で表される2価の連結基の具体例及び好ましい範囲は、前述のG21で表される2価の連結基の具体例及び好ましい範囲と同様である。
Y21は、酸素原子、硫黄原子、−N(R43)−又はフェニレン基を表す。ここで、R43は、水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基(好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜4)を表す。Y21で表されるフェニレン基は置換基を有していてもよく、置換基としてはアルキル基、ハロゲン原子などが挙げられる。
R36〜R40は、各々独立に、水素原子又は1価の置換基を表す。R36〜R40の具体例及び好ましい範囲は、R30〜R32の具体例及び好ましい範囲と同様である。
A23は、酸素原子、硫黄原子、又は−N(R41)−を表し、Z21は、酸素原子、硫黄原子、又は−N(R42)−を表す。R41及びR42としては、一般式(5)におけるR41及びR42と同様のものが挙げられる。
酸分解性基は、アルカリ可溶性基が酸の作用により分解し脱離する基で保護された構造を有することが好ましい。
アルカリ可溶性基としては、アルカリ現像液中で解離してイオンになる基であれば特に限定されないが、好ましいアルカリ可溶性基としては、カルボキシル基、フッ素化アルコール基(好ましくはヘキサフルオロイソプロパノール)、スルホン酸基が挙げられる。
酸分解性基としては好ましくは、クミルエステル基、エノールエステル基、アセタールエステル基、第3級のアルキルエステル基等である。更に好ましくは、第3級アルキルエステル基である。
Xa1は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基又は−CH2−R9で表わされる基を表す。R9は、水酸基又は1価の有機基を表し、例えば、炭素数5以下のアルキル基、アシル基が挙げられ、好ましくは炭素数3以下のアルキル基であり、更に好ましくはメチル基である。Xa1は好ましくは水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又はヒドロキシメチル基を表す。
Tは、単結合又は2価の連結基を表す。
Rx1〜Rx3は、それぞれ独立に、アルキル基(直鎖若しくは分岐)又はシクロアルキル基(単環若しくは多環)を表す。
Rx1〜Rx3の内の2つが結合して、シクロアルキル基(単環若しくは多環)を形成してもよい。
Tは、単結合又は−COO−Rt−基が好ましい。Rtは、炭素数1〜5のアルキレン基が好ましく、−CH2−基、、−(CH2)2−基、又は、−(CH2)3−基がより好ましい。
Rx1〜Rx3のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基などの炭素数1〜4のものが好ましい。
Rx1〜Rx3のシクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などの単環のシクロアルキル基、ノルボルニル基、テトラシクロデカニル基、テトラシクロドデカニル基、アダマンチル基などの多環のシクロアルキル基が好ましい。
Rx1〜Rx3の内の2つが結合して形成されるシクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などの単環のシクロアルキル基、ノルボルニル基、テトラシクロデカニル基、テトラシクロドデカニル基、アダマンチル基などの多環のシクロアルキル基が好ましく、炭素数5〜6の単環のシクロアルキル基が特に好ましい。
Rx1がメチル基又はエチル基であり、Rx2とRx3とが結合して上述のシクロアルキル基を形成している様態が好ましい。
上記各基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、アルキル基(炭素数1〜4)、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基(炭素数1〜4)、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基(炭素数2〜6)などが挙げられ、炭素数8以下が好ましい。
分散樹脂に於ける、酸分解性基を有する繰り返し単位(IV)の含有率は、分散樹脂中の全繰り返し単位に対し、1〜50mol%が好ましく、より好ましくは50〜40mol%、である。
ここで、アルコール性水酸基とは、炭化水素基に結合した水酸基であって、芳香環上に直接結合した水酸基(フェノール性水酸基)以外のものであれば限定されないが、本発明においては先に酸基として挙げた、α位が電子求引性基で置換された脂肪族アルコールにおける水酸基以外のものが好ましい。架橋剤(C)との反応効率が向上する為、該水酸基は1級アルコール性水酸基(水酸基が置換している炭素原子が、水酸基とは別に2つの水素原子を有する基)、又は水酸基が置換している炭素原子に他の電子求引性基が結合していない2級アルコール性水酸基であることが好ましい。
アルコール性水酸基は、繰り返し単位あたり1〜3個有していることが好ましく、より好ましくは1個又は2個有する。
このような繰り返し単位としては、下記一般式(2)又は一般式(3)で表される繰り返し単位が挙げられる。
上記一般式(3)中、2つのRX及びRの少なくとも1つがアルコール性水酸基を有する構造を表す。2つのRXは同一でも異なっていてもよい。
アルコール性水酸基を有する構造としては、例えばヒドロキシアルキル基(炭素数2〜8が好ましく、炭素数2〜4がより好ましい)、ヒドロキシシクロアルキル基(好ましくは炭素数4〜14)、ヒドロキシアルキル基で置換されたシクロアルキル基(好ましくは総炭素数5〜20)、ヒドロキシアルコキシ基で置換されたアルキル基(好ましくは総炭素数3〜15)、ヒドロキシアルコキシ基で置換されたシクロアルキル基(好ましくは総炭素数5〜20)等が挙げられ、上述のように1級アルコールの残基が好ましく、−(CH2)n−OH(nは1以上の整数、好ましくは2〜4の整数)で表される構造がより好ましい。
RXは、水素原子、ハロゲン原子、水酸基又は置換基を有してもよいアルキル基(炭素数1〜4が好ましい)又は置換基を有してもよいシクロアルキル基(炭素数5〜12が好ましい)を表す。RXのアルキル基及びシクロアルキル基が有していてもよい好ましい置換基としては、水酸基、ハロゲン原子が挙げられる。RXのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子を挙げることができる。RXとして好ましくは、水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、水酸基、トリフルオロメチル基であり、水素原子、メチル基が特に好ましい。
Rは、水酸基を有してもよい炭化水素基を表す。Rの炭化水素基としては飽和炭化水素が好ましく、アルキル基(炭素数1〜8が好ましく、炭素数2〜4がより好ましい)又は単環又は多環の環状炭化水素基(好ましくは炭素数3〜20、例えば後述する脂環式基)が挙げられる。n’は0〜2の整数を表す。
脂環式基として具体的には、単環式構造としては、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、多環式構造としては、ノルボルニル、イソボルニル、トリシクロデカニル、テトラシクロドデカニル、ヘキサシクロヘプタデカニル、アダマンチル、ジアマンチル、スピロデカニル、スピロウンデカニルなどが挙げられる。これらのうち、アダマンチル、ジアマンチル、ノルボルニル構造が好ましい。
(1)塗布溶剤に対する溶解性、
(2)製膜性(ガラス転移点)、
(3)アルカリ現像性、
(4)膜べり(親疎水性、アルカリ可溶性基選択)、
(5)露光部の基板への密着性、
(6)ドライエッチング耐性、等の微調整が可能となる。
樹脂は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。後者の場合、本発明に係る組成物は、上記繰り返し単位(I)及び(II)を含んだ樹脂を2種類以上含んでいてもよく、上記繰り返し単位(I)及び(II)を含んだ1つ以上の樹脂と上記繰り返し単位(I)及び(II)を含んでいない1つ以上の樹脂との双方を含んでいてもよい。
具体的には、粒子分散剤(B)が分散樹脂である場合、その使用量は、中空又は多孔質粒子に対して、5〜100質量%であることが好ましく、10〜80質量%であることがより好ましく、15〜50質量%であることが特に好ましい。
本発明の感光性組成物は、上記の(B)粒子分散剤とは異なる(B’)粒子分散剤(以下、その他の粒子分散剤とも言う)を、適宜、含有していてもよい。
その他の分散樹脂は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
また、その他の分散樹脂は、後述する一般式(E−1)で表される化合物を共重合体として使用することにより得られる樹脂であってもよい。
また、フォスファノール ML−200、エマール20T、E−27、ネオペレックスGS、ペレックスNBL、SS−H、SS−L、ポイズ532A、ラムテルASK、E−118B、E−150(花王(株))、EMULSOGEN COL−020、070、080(クラリアント)、プライサーフ A208B、A210B、A210G、A219B、AL、ラベリンFC−45(第一工業製薬)、パイオニン A−24−EA、A−28−B、A−29−M、A−44−B、A−44TW(竹本油脂)、AKYPO RLM100NV、RLM45、RLM45NV、ECT−3、ECT−3NEX、ECT−7、ホステンHLP、HLP−1、HLP−TEA(日本サーファクタント工業)が挙げられる。
これらのその他の粒子分散剤は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
具体的には、その他の粒子分散剤が分散樹脂である場合、その使用量は、中空又は多孔質粒子に対して、10〜90質量%であることが好ましく、10〜80質量%であることがより好ましい。
本発明の感光性組成物は、(C)活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物を含有する。
化合物(C)を含有することによって感光性が付与された本発明の感光性組成物は、フォトレジスト、カラーレジスト、光学用コーティング材料等に好適に用いることができるようになる。
化合物(C)としては、光重合開始剤を好適に挙げることができる。すなわち、上記活性種としては、ラジカル、カチオン種又はアニオン種(より好ましくはラジカル又はカチオン種)を好適に挙げることができる。
以下、光重合開始剤について、詳細に説明する。
また、光重合開始剤は、約200〜800nm(300〜450nmがより好ましい。)の範囲内に少なくとも約50の分子吸光係数を有する成分を少なくとも1種含有していることが好ましい。
光ラジカル重合開始剤においては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体(例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの、など)、ヘキサアリールビイミダゾール化合物類、ロフィンダイマー類、ベンゾイン類、ケタール類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、有機過酸化物、チオ化合物、ジスルフィド化合物類、アゾ化合物、ホウ酸塩類、無機錯体、クマリン類、ケトン化合物(ベンゾフェノン類、チオキサントン類、チオクロマノン類、アントラキノン類)、芳香族オニウム塩、フルオロアミン化合物類、ケトオキシムエーテル、アセトフェノン類(アミノアセトフェノン化合物、ヒドロキシアセトフェノン化合物)、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、オキシム誘導体等のオキシム化合物、などが挙げられる。
上記Rv1としてのアルキル基及びアルコキシ基、Rv2及びRv3としてのアルキル基、並びに、Rv2とRv3とが結合して形成される環は、更に置換基を有していてもよい。
また、市販のα−ヒドロキシアセトフェノン化合物として、BASFジャパン社製からイルガキュア184(IRGACURE 184)、ダロキュア1173(DAROCURE 1173)、イルガキュア127(IRGACURE 127)、イルガキュア2959(IRGACURE 2959)、イルガキュア1800(IRGACURE 1800)、イルガキュア1870(IRGACURE 1870)及びダロキュア4265(DAROCURE 4265)の商品名で入手可能な重合開始剤も使用することができる。
市販品ではIRGACURE−OXE01(BASFジャパン社製)、IRGACURE−OXE02(BASFジャパン社製)、CGI−124(BASFジャパン社製)、CGI−242(BASFジャパン社製)も好適に用いられる。
更に、特開2007−231000公報、及び、特開2007−322744公報に記載される環状オキシム化合物も好適に用いることができる。
最も好ましくは、特開2007−269779公報に示される特定置換基を有するオキシム化合物や、特開2009−191061公報に示されるチオアリール基を有するオキシム化合物が挙げられる。
具体的には、オキシム化合物としては、下記式(I)で表される化合物が好ましい。なお、オキシム結合のN−O結合が(E)体のオキシム化合物であっても、(Z)体のオキシム化合物であっても、(E)体と(Z)体との混合物であってもよい。
前記Rで表される一価の置換基としては、一価の非金属原子団であることが好ましい。
前記一価の非金属原子団としては、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環基、アルキルチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基等が挙げられる。また、これらの基は、1以上の置換基を有していてもよい。また、前述した置換基は、更に他の置換基で置換されていてもよい。
置換基としてはハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。
具体的には、チエニル基、ベンゾ[b]チエニル基、ナフト[2,3−b]チエニル基、チアントレニル基、フリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、2H−ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、3H−インドリル基、インドリル基、1H−インダゾリル基、プリニル基、4H−キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサニリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、4aH−カルバゾリル基、カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、フェノキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、及び、チオキサントリル基が例示できる。
下記の構造中、Y、X、及び、nは、それぞれ、後述する式(II)におけるY、X、及び、nと同義であり、好ましい例も同様である。
中でも、Aとしては、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、無置換のアルキレン基、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、tert−ブチル基、ドデシル基)で置換されたアルキレン基、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基)で置換されたアルキレン基、アリール基(例えば、フェニル基、p−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基、スチリル基)で置換されたアルキレン基が好ましい。
なかでも、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、置換又は無置換のフェニル基が好ましい。
式(II)におけるR、A、及びArは、前記式(I)におけるR、A、及びArと同義であり、好ましい例も同様である。
また、式(2)におけるnは、0〜5の整数を表し、0〜2の整数が好ましい。
式(III)におけるR、X、A、Ar、及び、nは、前記式(II)におけるR、X、A、Ar、及び、nとそれぞれ同義であり、好ましい例も同様である。
化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いることができるが、具体的には、例えば、紫外可視分光光度計(Varian社製Carry−5 spctrophotometer)にて、酢酸エチル溶媒を用い、0.01g/Lの濃度で測定することが好ましい。
光カチオン重合開始剤としては、例えば、紫外線等のエネルギー線を受けることにより光カチオン重合を開始させる物質を生成する化合物であれば良く、オニウム塩が好ましく、芳香族オニウム塩がより好ましく、アリールスルホニウム塩及びアリールヨウドニウム塩が更に好ましい。
本発明の感光性組成物は、(D)活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が減少するバインダーを含有する。
(D)活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が減少するバインダーは、感光性組成物から得られた膜中において結合剤として機能するとともに、露光工程後、画像部においてはアルカリ現像液に対する溶解性が減少して、アルカリ現像液に対して不溶又は難溶になる機能を発現し、非画像部においては、アルカリ現像液に対して易溶である機能を発現するものである。
現像性バインダー樹脂としては、アルカリ可溶性であるとともに、活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が減少する樹脂であれば特には限定されないが、耐熱性、現像性、硬化性、入手性等の観点から選ばれることが好ましい。ここで、「アルカリ可溶性」とは、アルカリ現像液に対して可溶性を示すことのみならず、アルカリ現像液に対して膨潤性を示すことも含まれる。
このような現像性バインダー樹脂は、アルカリ可溶性基を有するバインダー樹脂であることが好ましい。
酸基としては、特に制限されないが、例えば、カルボキシル基、活性メチレン基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性水酸基、カルボン酸無水基等が挙げられ、カルボキシル基、活性メチレン基が好ましく、カルボン酸基がより好ましい。これら酸基は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。バインダー樹脂に酸基を導入するには、例えば、酸基を有するモノマー及び/又は重合後に酸基を付与しうるモノマー(以下「酸基を導入するための単量体」と称することもある。)を、単量体成分として重合するようにすればよい。
なお、重合後に酸基を付与しうるモノマーを単量体成分として酸基を導入する場合には、重合後に例えば後述するような酸基を付与するための処理が必要となる。
前記酸基を有するモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸やイタコン酸等のカルボキシル基を有するモノマー、N−ヒドロキシフェニルマレイミド等のフェノール性水酸基を有するモノマー、無水マレイン酸、無水イタコン酸等のカルボン酸無水物基を有するモノマー等が挙げられるが、これらの中でも特に、(メタ)アクリル酸が好ましい。
前記重合後に酸基を付与しうるモノマーとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の水酸基を有するモノマー、グリシジル(メタ)アクリレート等のエポキシ基を有するモノマー、2−イソシアナートエチル(メタ)アクリレート等のイソシアネート基を有するモノマー等が挙げられる。これら酸基を導入するための単量体は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。
重合後に酸基を付与しうるモノマーを用いる場合において、重合後に酸基を付与するための処理としては、ポリマー側鎖の極性基の一部を、ポリマー反応により変性する処理が挙げられる。
また、現像性バインダー樹脂としては、側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体を用いることもできる。この他に、水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
また、特公平7−12004号、特公平7−120041号、特公平7−120042号、特公平8−12424号、特開昭63−287944号、特開昭63−287947号、特開平1−271741号、特開平11−352691号等に記載される酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーや、特開2002−107918に記載される酸基と二重結合を側鎖に有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、好適である。
また、硬化皮膜の強度を上げるために、アルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、2−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。
これらの溶媒は単独で又は2種以上混合して用いられる。
これらのラジカル重合開始剤は、モノマー100質量部に対して、好ましくは1質量部〜20質量部使用される。
また、現像性バインダー樹脂が重合性基を有する場合であって、重合性基が不飽和基である場合、光感度向上の観点から、現像性バインダー樹脂の不飽和価は、0.5mmol/g以上が好ましく、更に0.7mmol/g以上が好ましく、1.0mmol/g以上が最も好ましい。
ここで、不飽和価とは、バインダー樹脂1gあたりの不飽和結合のミリモル数を意味する。
現像性バインダー樹脂の不飽和当量を0.5mmol/g以上とすることにより、つまり、この樹脂中において不飽和二重結合数が増加することにより、光重合性、感度が向上し、更に、この重合性向上により、支持体などの固体表面への密着性や含有する中空又は多孔質粒子の固定化性も向上し、結果として、現像におけるパターン膜中の中空又は多孔質粒子の欠損が少なく、テーパー状ないし矩形状の断面形状を有するパターンが得られ易い傾向となり、好ましい。
Rc31は、水素原子、アルキル基、シアノ基又は−CH2−O−Rac2基を表す。式中、Rac2は、水素原子、アルキル基又はアシル基を表す。
Rc32は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基を有する基を表す。これらの基はシアノ基で置換されていても良い。
但し、Rc31、Rc32の少なくとも一つはシアノ基を含む。
Lc3は、単結合又は2価の連結基を表す。
シクロアルキル基は、炭素数3〜20のシクロアルキル基が好ましい。
アルケニル基は、炭素数3〜20のアルケニル基が好ましい。
シクロアルケニル基は、炭素数3〜20のシクロアルケニル基が好ましい。
Rc32は無置換のアルキル基が好ましい。
Lc3の2価の連結基は、アルキレン基(好ましくは炭素数1〜5)、オキシ基、エステル結合(−COO−で表される基)が好ましい。
好ましい架橋環式炭化水素環として、ノルボルニル基、アダマンチル基、ビシクロオクタニル基、トリシクロ[5、2、1、02,6]デカニル基、などが挙げられる。より好ましい架橋環式炭化水素環としてノルボニル基、アダマンチル基が挙げられる。
前記エーテルダイマーを示す前記一般式(E−1)中、R1及びR2で表される炭化水素基としては、特に制限はないが、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、t−アミル基、ステアリル基、ラウリル基、2−エチルヘキシル基、等の直鎖状又は分岐状のアルキル基;フェニル基等のアリール基;シクロヘキシル基、t−ブチルシクロヘキシル基、ジシクロペンタジエニル基、トリシクロデカニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、2−メチル−2−アダマンチル基、等の脂環式基;1−メトキシエチル基、1−エトキシエチル基、等のアルコキシで置換されたアルキル基;ベンジル基等のアリール基で置換されたアルキル基;等が挙げられる。
これらの中でも特に、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等のような酸や熱で脱離しにくい1級又は2級炭素を含む基が耐熱性の点で好ましい。
なお、R1及びR2は、同種の置換基であってもよいし、異なる置換基であってもよい。
この場合、バインダー(D)が、活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が減少する機能を発現するために、(i)バインダーが、重合性化合物に加えて、アルカリ可溶性バインダー樹脂を含有するか、あるいは、(ii)バインダーが含有する重合性化合物がアルカリ可溶性基を有する重合性化合物であることが好ましい。
これらの具体的な化合物としては、特開2009−288705号公報の段落番号0095〜段落番号0108に記載されている化合物を本発明においても好適に用いることができる。
(ただし、R4及びR5は、それぞれ独立して、H又はCH3を示す。)
ただし、上記一般式(MO−1)〜(MO−5)で表されるラジカル重合性モノマーの各々において、複数のRの内の少なくとも1つは、−OC(=O)CH=CH2、又は、−OC(=O)C(CH3)=CH2で表される基を表す。
また、重合性化合物がアルカリ可溶性基を有する重合性化合物である場合、複数のnの少なくとも1つが1以上である時には、
(A)複数のRの内の少なくとも1つは、−OC(=O)(CH2)mCOOH、−OC(=O)NH(CH2)mCOOH、又は−OHで表される基を表す、及び、
(B)1個以上のTの少なくとも1つは、−OCH2−、−OCH2CH2−、−OCH2CH2CH2−、又は、−OCH2CH2CH2CH2−を表す、のいずれか一方の条件を満たす。
バインダー(D)が重合性化合物を含有する形態において、重合性化合物の含有量は、本発明の感光性組成物の全固形分に対して、4〜80質量%の範囲であることが好ましく、7〜50質量%の範囲であることが更に好ましい。特に膜厚が0.8μm以下の場合には、添加量は、全固形分中7〜40質量%であることが好ましく、特に6〜30質量%の範囲であることが有効である。
この場合、重合性化合物の含有量とアルカリ可溶性基を有するバインダー樹脂の含有量との和は、本発明の感光性組成物の全固形分に対して、1質量%〜50質量%が好ましく、2質量%〜40質量%が更に好ましく、3質量%〜30質量%が最も好ましい。ここで、バインダー樹脂は、上記現像性バインダー樹脂において説明した重合性基を有するアルカリ可溶性バインダー樹脂であっても良い。
架橋剤は、感光性組成物に含まれる他の成分と架橋しうる架橋性基を有している化合物であり、架橋性基としては、ヒドロキシメチル基、アルコキシメチル基、ビニルエーテル基又はエポキシ基等を挙げることができる。架橋剤はこのような架橋性基を2個以上有することが好ましい。
また、この形態においては、上記他の成分は、アルコール性水酸基を有することが好ましく、上記分散樹脂が、アルコール性水酸基を有することがより好ましい。
架橋剤としては、好ましくは、メラミン系化合物、尿素系化合物、アルキレン尿素系化合物、又はグリコールウリル系化合物の架橋剤である。
N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル基、若しくはN−アシルオキシメチル基を有する化合物としては、下記一般式(CLNM−1)で表される部分構造を2個以上(より好ましくは2〜8個)有する化合物が好ましい。
RNM1は、各々独立に、一般式(CLNM−1)に於ける、RNM1と同様のものである。
RNM2は、各々独立に、水素原子、アルキル基(炭素数1〜6が好ましい)、又はシクロアルキル基(炭素数5〜6が好ましい)を表す。
RNM1は、各々独立に、一般式(CLNM−1)に於ける、RNM1と同様のものである。
RNM3は、各々独立に、水素原子、水酸基、直鎖又は分岐のアルキル基(炭素数1〜6が好ましい)、シクロアルキル基(炭素数5〜6が好ましい)、オキソアルキル基(炭素数3〜6が好ましい)、アルコキシ基(炭素数1〜6が好ましい)又はオキソアルコキシ基(炭素数1〜6が好ましい)を表す。
Gは、単結合、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基(炭素数1〜3が好ましい)又はカルボニル基を表す。より具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、1−メチルエチレン基、ヒドロキシメチレン基、シアノメチレン基等が挙げられる。
RNM1は、各々独立に、一般式(CLNM−1)に於ける、RNM1と同様のものである。
RNM4は、各々独立に、水素原子、水酸基、アルキル基、シクロアルキル基又はアルコキシ基を表す。
RNM1は、各々独立に、一般式(CLNM−1)に於ける、RNM1と同様のものである。
RNM5は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又は下記一般式(CLNM−5´)で表される原子団を表す。
RNM6は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又は下記一般式(CLNM−5´´)で表される原子団を表す。
RNM1は、一般式(CLNM−1)に於ける、RNM1と同様のものである。
一般式(CLNM−5´´)において、
RNM1は、一般式(CLNM−1)に於ける、RNM1と同様のものであり、RNM5は、一般式(CLNM−5)に於けるRNM5と同様のものである。
フェノール化合物としては、分子量が1200以下、分子内にベンゼン環を3〜5個含み、更にヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を合わせて2個以上有し、そのヒドロキシメチル基、アルコキシメチル基を少なくともいずれかのベンゼン環に集中させ、あるいは振り分けて結合してなるフェノール誘導体が好ましい。このようなフェノール誘導体を用いることにより、本発明の効果をより顕著にすることができる。ベンゼン環に結合するアルコキシメチル基としては、炭素数6個以下のものが好ましい。具体的にはメトキシメチル基、エトキシメチル基、n−プロポキシメチル基、i−プロポキシメチル基、n−ブトキシメチル基、i−ブトキシメチル基、sec−ブトキシメチル基、t−ブトキシメチル基が好ましい。更に、2−メトキシエトキシ基及び、2−メトキシ−1−プロピル基の様に、アルコキシ置換されたアルコキシ基も好ましい。
具体的には、他の成分(好ましくは、分散樹脂)を架橋しうる架橋性基を1分子あたり2〜8個有するフェノール化合物であることが好ましく、架橋性基を3〜6個有することがより好ましい。
エポキシ化合物としては、下記一般式(EP2)で表される化合物が挙げられる。
REP1〜REP3は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表し、該アルキル基及びシクロアルキル基は置換基を有していてもよい。またREP1とREP2、REP2とREP3は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。
アルキル基及びシクロアルキル基が有していてもよい置換基としては例えば、ヒドロキシル基、シアノ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホン基、アルキルスルホニル基、アルキルアミノ基、アルキルアミド基、などが挙げられる。
QEPは単結合若しくはnEP価の有機基を表す。REP1〜REP3は、これら同士だけでなくQEPとも結合して環構造を形成していても良い。
nEPは2以上の整数を表し、好ましくは2〜10、更に好ましくは2〜6である。但しQEPが単結合の場合、nEPは2である。
感光性組成物が架橋剤を含有する場合、架橋剤の含有率は、感光性組成物の全固形分を基準として、3〜30質量%が好ましく、より好ましくは4〜25質量%、更に好ましくは5〜20質量%である。
本発明の感光性組成物は、一般には、有機溶剤を含有する。有機溶剤は、各成分の溶解性や感光性組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はないが、特に紫外線吸収剤、バインダーの溶解性、塗布性、安全性を考慮して選ばれることが好ましい。
(例:オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル(例えば、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル等))、3−オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例:3−オキシプロピオン酸メチル、3−オキシプロピオン酸エチル等(例えば、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル等))、2−オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例:2−オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸プロピル等(例えば、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル))、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチル及び2−オキシ−2−メチルプロピオン酸エチル(例えば、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル等)、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸メチル、2−オキソブタン酸エチル等、並びに、エーテル類として、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME:別名1−メトキシ−2−プロパノール)、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA:別名1−メトキシ−2−アセトキシプロパン)、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等、並びに、ケトン類として、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等、並びに、芳香族炭化水素類として、例えば、トルエン、キシレン等が好適に挙げられる。
本発明の感光性組成物は、組成物を用いて得られる膜の特性(耐熱性、機械強度、塗布性、密着性等)を損なわない範囲で、界面活性剤、密着促進剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、凝集防止剤、増感剤などの添加剤を添加してもよい。
本発明の感光性組成物には、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
即ち、フッ素系界面活性剤を含有する感光性組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μm程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。
界面活性剤は、1種のみを用いてもよいし、2種類以上を組み合わせてもよい。
感光性組成物は、界面活性剤を含んでも含まなくてもよいが、含む場合、界面活性剤の含有量は、本発明の感光性組成物の全固形分質量に対して、0.001質量%以上1質量%以下であることが好ましく、0.01質量%以上0.1質量%以下であることがより好ましい。
本発明の感光性組成物は、本発明の目的を損なわない範囲で、いかなる密着促進剤を含有していてもよい。密着促進剤としては、例えば、3−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、1−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノグリシジロキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。他には、特開2008−243945号公報の段落番号[0048]に記載の化合物が使用される。
本発明の感光性組成物は、密着促進剤を含有してもしなくても良いが、含有する場合、密着促進剤の好ましい使用量は、特に制限されないが、通常、組成物中の全固形分に対して、10質量%以下、特に0.005〜5質量%であることが好ましい。
本発明の感光性組成物は、該感光性組成物の製造中又は保存中において、重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために、少量の重合禁止剤を添加してもよい
重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
重合禁止剤の含有量は、感光性組成物の全固形分に対して、0.0005質量%〜5質量%であることが好ましい。
本発明の感光性組成物は、紫外線吸収剤を含有しても良い。
紫外線吸収剤としては、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、トリアジン系の紫外線吸収剤を使用することができる。
サリシレート系紫外線吸収剤の例としては、フェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレート、p−t−ブチルフェニルサリシレートなどが挙げられ、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例としては、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例としては、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−アミル−5’−イソブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−イソブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−イソブチル−5’−プロピルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチル)フェニル]ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
本発明においては、前記各種の紫外線吸収剤は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
感光性組成物は、紫外線吸収剤を含んでも含まなくてもよいが、含む場合、紫外線吸収剤の含有量は、本発明の感光性組成物の全固形分質量に対して、0.001質量%以上1質量%以下であることが好ましく、0.01質量%以上0.1質量%以下であることがより好ましい。
本発明の感光性組成物は、低屈折率材料に代表される種々の用途に用いることができ、その目的に応じて各成分の含有量や添加する添加剤などの種類が決められる。
感光性組成物は、各種膜を形成するために用いられることが好ましく、低屈折率膜を形成するために用いられることが特に好ましい。
本発明のパターン形成方法は、感光性膜を形成する工程、前記感光性膜を露光する工程、及び、アルカリ現像液により現像してパターン膜を得る現像工程を含む。
ここで、感光性膜は、本発明の感光性組成物から形成される。
また、本発明は、このパターン形成方法により得られるパターン膜にも関する。
本発明の感光性組成物から形成される感光性膜の形成方法は特に限定されないが、例えば、感光性組成物をスピンコーティング法、ローラーコーティング法、ディップコーティング法、スキャン法、スプレー法、バー塗布法、インクジェット法等の任意の方法により、基板に塗布した後、溶媒を必要に応じて加熱処理で除去して塗膜(感光性膜)を形成し、プリベーク処理を施すことにより形成することができる。
基板としては、シリコンウエハ基板、SiO2ウエハ基板、SiNウエハ基板、ガラス基板、又は、これらの表面に各種金属層が形成された基板や、プラスチックフィルム、マイクロレンズ、イメージセンサー用オンチップカラーフィルターが塗布された基板などを挙げることができる。
洗浄液としては、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、又はアルキレングリコールモノアルキルエーテルを用いることが好ましい。
洗浄液として用いうるこれら溶剤は、単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
溶剤を2種以上を混合する場合、水酸基を有する溶剤と水酸基を有しない溶剤とを混合してなる混合溶剤が好ましい。水酸基を有する溶剤と水酸基を有しない溶剤との質量比は、1/99〜99/1、好ましくは10/90〜90/10、更に好ましくは20/80〜80/20である。混合溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)とプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)の混合溶剤で、その比率が60/40であることが特に好ましい。
なお、感光性組成物に対する洗浄液の浸透性を向上させるために、洗浄液には、感光性組成物が含有しうる界面活性剤として前掲した界面活性剤を添加してもよい。
この露光に適用し得る活性光線又は放射線としては、赤外光、g線、h線、i線、KrF光、ArF光、X線、電子線等を挙げることができる。露光量、感度、解像度の観点から、i線、KrF光、ArF光、電子線が好ましく、更に汎用性の観点から、i線、KrF光が最も好ましい。照射光にi線を用いる場合、100mJ/cm2〜10000mJ/cm2の露光量で照射することが好ましい。KrF光を用いる場合は、30mJ/cm2〜300mJ/cm2の露光量で照射することが好ましい。
また、露光した組成物層は、必要に応じて、次の現像処理前にホットプレートやオーブンを用いて、70℃〜180℃で、0.5分間〜15分間程度加熱することができる。
更に、上記アルカリ性水溶液にアルコール類、界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。
アルカリ現像液のアルカリ濃度は、通常0.1〜20質量%である。
アルカリ現像液のpHは、通常10.0〜15.0である。
特に、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの0.3%質量の水溶液が望ましい。
上記各種の現像方法が、現像装置の現像ノズルから現像液を感光性膜に向けて吐出する工程を含む場合、吐出される現像液の吐出圧(吐出される現像液の単位面積あたりの流速)は好ましくは2mL/sec/mm2以下、より好ましくは1.5mL/sec/mm2以下、更に好ましくは1mL/sec/mm2以下である。流速の下限は特に無いが、スループットを考慮すると0.2mL/sec/mm2以上が好ましい。
吐出される現像液の吐出圧を上記の範囲とすることにより、現像後のレジスト残渣に由来するパターンの欠陥を著しく低減することができる。
このメカニズムの詳細は定かではないが、恐らくは、吐出圧を上記範囲とすることで、現像液が感光性膜に与える圧力が小さくなり、感光性膜・パターン膜が不用意に削られたり崩れたりすることが抑制されるためと考えられる。
なお、現像液の吐出圧(mL/sec/mm2)は、現像装置中の現像ノズル出口における値である。
このポストベークにおいて、加熱温度は、通常、120〜250℃、好ましくは160〜230℃である。また加熱時間は、加熱手段により異なるが、ホットプレート上で加熱する場合、通常、5〜30分間程度であり、オーブン中で加熱する場合、通常、30〜90分間程度である。
また、ポストベークに際しては、2回以上加熱するステップベーク法等を採用することもできる。
これにより、耐光性、耐気候性、膜強度が向上し、更に低屈折率性も向上させることができる場合がある。
高エネルギー線として、電子線を使用した場合のエネルギーは0.1〜50keVが好ましく、より好ましくは0.2〜30keV、特に好ましくは0.5〜20keVである。電子線の総ドーズ量は好ましくは0.01〜5μC/cm2、より好ましくは0.01〜2μC/cm2、特に好ましくは0.01〜1μC/cm2である。電子線を照射する際の基板温度は0〜500℃が好ましく、より好ましくは20〜450℃、特に好ましくは20〜400℃である。圧力は好ましくは0〜133kPa、より好ましくは0〜60kPa、特に好ましくは0〜20kPaである。
重合体の酸化を防止するという観点から、基板周囲の雰囲気はAr、He、窒素などの不活性雰囲気を用いることが好ましい。また、電子線との相互作用で発生するプラズマ、電磁波、化学種との反応を目的に酸素、炭化水素、アンモニアなどのガスを添加してもよい。電子線照射は複数回行ってもよく、この場合は電子線照射条件を毎回同じにする必要はなく、毎回異なる条件で行ってもよい。
よって、本発明は、上記した本発明のパターン形成方法により得られるパターン膜である低屈折率膜にも関する。
更に、本発明は、上記低屈折率膜を有する光学デバイスにも関する。
また、本発明は、このような光学デバイスを備えた固体撮像素子にも関する。
以下、このような低屈折率膜(例えば、反射防止膜)について詳述する。ただし、低屈折率膜における下記の各種物性の好ましい範囲は、特に低屈折率膜の用途においては好ましい範囲であるものの、その用途に限られたものではない。
上述した組成物を用いて得られるパターン膜は、優れた低屈折率性を示す。具体的には、パターン膜の屈折率(波長633nm、測定温度25℃)は、1.35以下であることが好ましく、1.23〜1.34であることがより好ましく、1.25〜1.33であることが特に好ましい。上記範囲内であれば、後述する反射防止膜として有用である。
上述した本発明の組成物を用いて得られるパターン膜の好適な使用態様として、反射防止膜が挙げられる。特に、光学デバイス(例えば、イメージセンサ用マイクロレンズ、プラズマディスプレイパネル、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスなど)用の反射防止膜として好適である。
反射防止膜として使用した場合の反射率は低いほど好ましい。具体的には、450〜650nmの波長領域での鏡面平均反射率が3%以下であることが好ましく、2%以下であることが更に好ましく、1%以下であることが最も好ましい。なお、反射率は小さければ小さいほど好ましく、最も好ましくは0である。
反射防止膜のヘイズは、3%以下であることが好ましく、1%以下であることが更に好ましく、0.5%以下であることが最も好ましい。なお、反射率は小さければ小さいほど好ましく、最も好ましくは0である。
以下に、多層型の場合の各層について詳述する。
低屈折率層は、上述のように本発明の組成物を用いて得られるパターン膜から構成される。低屈折率層の屈折率及び厚さについて説明する。
本発明の組成物を用いて得られるパターン膜の屈折率(波長633nm、測定温度25℃)、即ち、低屈折率膜(低屈折率層ともいう)の屈折率を1.35以下とすることが好ましい。この理由は、低屈折率膜の屈折率が1.35以下であることにより、高屈折率膜(高屈折率層ともいう)と組み合わせた場合に、反射防止効果を確実に発現させることができるためである。
低屈折率膜の屈折率を1.34以下とするのがより好ましく、1.33以下とするのが更に好ましい。なお、低屈折率膜を複数層設ける場合には、そのうちの少なくとも一層が上述した範囲内の屈折率の値を有していればよい。
低屈折率層の厚さについても特に制限されるものではないが、例えば、20〜300nmであることが好ましい。低屈折率層の厚さが20nm以上となると、下地としての高屈折率膜に対する密着力が確実に得られ、一方、厚さが300nm以下となると、光干渉が生じにくく、反射防止効果がより確実に得られやすい。従って、低屈折率層の厚さを20〜250nmとするのがより好ましく、20〜200nmとするのが更に好ましい。なお、より高い反射防止性を得るために、低屈折率層を複数層設けて多層構造とする場合には、その合計した厚さを20〜300nmとすればよい。
高屈折率層を形成するための硬化性組成物としては、特に制限されるものでないが、膜形成成分として、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂、アルキド系樹脂、シアネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、シロキサン樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせを含むことが好ましい。これらの樹脂であれば、高屈折率層として、強固な薄膜を形成することができ、結果として、反射防止膜の耐擦傷性を著しく向上させることができる。
しかしながら、通常、これらの樹脂単独での屈折率は1.45〜1.62であり、高い反射防止性能を得るには十分で無い場合がある。そのため、高屈折率の無機粒子、例えば金属酸化物粒子を配合することにより、屈折率1.70〜2.20とすることが好ましい。また、硬化形態としては、熱硬化、紫外線硬化、電子線硬化できる硬化性組成物を用いることができるが、より好適には生産性の良好な紫外線硬化性組成物が用いられる。
本発明の反射防止膜に用いるハードコート層の構成材料については特に制限されるものでない。このような材料としては、シロキサン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせを挙げることができる。
本発明の低屈折率膜に用いる基板の種類は特に制限されるものではないが、例えば、ガラス、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、トリアセチルセルロース樹脂(TAC)等からなる透明基板及びシリコンウエハを挙げることができる。これらの基板を含む反射防止膜とすることにより、カメラのレンズ部、テレビ(CRT)の画面表示部、液晶表示装置におけるカラーフィルターあるいは撮影素子等の広範な反射防止膜の利用分野において、優れた反射防止効果を得ることができる。
窒素気流下、PGMEA8.0gを3つ口フラスコに入れ、これを80℃に加熱した。次に、この反応液に、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン10.74g、2−アセトアセトキシエチルメタクリレート9.26g、開始剤V−601(和光純薬製)0.996gをPGMEA72gに溶解させた溶液を3時間かけて滴下し、更に80℃で1時間反応させた。その後、開始剤V−601 50mgをPGMEA1.0gに溶解させた溶液を添加し、更に80℃で1時間反応させた。放冷して、分散樹脂(P−1)の20質量%PGMEA溶液を得た。
得られた分散樹脂をGPCで分析すると、Mw=14500、Mn=7700であった。
窒素気流下、PGMEA8.0gを3つ口フラスコに入れ、これを80℃に加熱した。次に、この反応液に、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン11.87g、α−メタクリロキシ−γ−ブチロラクトン8.13g、開始剤V−601(和光純薬製)1.100gをPGMEA72gに溶解させた溶液を3時間かけて滴下し、更に80℃で1時間反応させた。その後、開始剤V−601 50mgをPGMEA1.0gに溶解させた溶液を添加し、更に80℃で1時間反応させた。放冷して、分散樹脂(P−5)の20質量%PGMEA溶液を得た。
得られた分散樹脂をGPCで分析すると、Mw=15300、Mn=8400であった。
窒素気流下、PGMEA8.0gを3つ口フラスコに入れ、これを80℃に加熱した。次に、この反応液に、2−アセトアセトキシエチルメタクリレート20.00g、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学製KBM−803)0.9165g、開始剤V−601(和光純薬製)0.5374gをPGMEA72gに溶解させた溶液を3時間かけて滴下し、更に80℃で1時間反応させた。その後、開始剤V−601 50mgをPGMEA1.0gに溶解させた溶液を添加し、更に80℃で1時間反応させた。放冷して、分散樹脂(P−8)の20質量%PGMEA溶液を得た。
得られた分散樹脂をGPCで分析すると、Mw=6510、Mn=4450であった。
窒素気流下、PGMEA54.0gを3つ口フラスコに入れ、これを80℃に加熱した。次に、この反応液に、2−アセトアセトキシエチルメタクリレート10.77g、メタクリル酸アリル4.23g、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(信越化学製KBM−803)0.823g、開始剤V−601(和光純薬製)0.4824gをPGMEA81.0gに溶解させた溶液を3時間かけて滴下し、更に80℃で1時間反応させた。放冷して分散樹脂(P−11)の10質量%PGMEA溶液を得た。得られた分散樹脂をGPCで分析すると、Mw=5750、Mn=3100であった。
窒素気流下、PGME8.0gを3つ口フラスコに入れ、これを80℃に加熱した。次に、この反応液に、2−アセトアセトキシエチルメタクリレート19.598g、N,N−ジメチル−N−メタクリロイルオキシエチル−N−カルボキシメチル−アンモニウムベタイン(大阪有機化学製GLBT)0.402g、1−ドデカンチオ−ル0.9447g、開始剤V−601(和光純薬製)1.0748gをPGME72gに溶解させた溶液を3時間かけて滴下し、更に80℃で1時間反応させた。その後、開始剤V−601 50mgをPGME1.0gに溶解させた溶液を添加し、更に80℃で1時間反応させた。放冷して、分散樹脂(P−14)の20質量%PGME溶液を得た。得られた分散樹脂をGPCで分析すると、Mw=5360、Mn=3800であった。
窒素気流下、PGMEA7.41gを3つ口フラスコに入れ、これを80℃に加熱した。次に、この反応液に、2−アセトアセトキシエチルメタクリレート18.52g、開始剤V−601(和光純薬製)0.996gをPGMEA66.7gに溶解させた溶液を3時間かけて滴下し、更に80℃で1時間反応させた。その後、開始剤V−601 50mgをPGMEA1.0gに溶解させた溶液を添加し、更に80℃で1時間反応させた。放冷して、分散樹脂(R1)の20質量%PGMEA溶液を得た。
得られた分散樹脂をGPCで分析すると、Mw=15200、Mn=8200であった。
なお、表1及び表2中の添加剤(チオール化合物)の使用量(モル%)は、各分散樹脂における全モノマーのモル総量を基準とした量である。
分散樹脂(P−8)の20質量%PGMEA溶液4.0g、日揮触媒化成製中空シリカ「スルーリア2320」(20質量%MIBK分散液)16.0g、PGMEA20.0g、酢酸200mg、水200mgを3つ口フラスコに入れ、これを80℃で6時間反応させその後放冷した(反応条件(1))。得られた溶液500mgをアルミカップ上130℃3時間減圧下にて加熱乾燥し、乾燥後重量を測定することによって、溶液固形分が10質量%であることを確認した。また、得られた溶液1.0gをヘキサン10g、クロロベンゼン10gに加え、生成した沈殿を遠心分離(14500rpm/30min)し、沈降物を熱重量分析(TA Instruments社SDT Q600を使用、窒素流量 100ml/min,20℃/minで600℃まで昇温)した結果、18%の重量減少が観測された。
反応条件(2):20%アンモニア水(分散樹脂及び無機粒子の固形総量の10質量%)を加え、80℃で6時間反応加熱攪拌した。
反応条件(3):水(分散樹脂及び無機粒子の固形総量の5質量%)を加え、100℃で8時間反応加熱攪拌した。
反応条件(4):室温で1時間攪拌した。
B:オルガノシリカゾル 商品名:スノーテックス PGM−ST(多孔質シリカ(屈折率:1.29)の20質量%分散液)(日産化学社製)
C:オルガノシリカゾル 商品名:PL−2L−PGME(多孔質シリカ(屈折率:1.26)の20質量%分散液)(扶桑化学社製)
下記表4に示す成分を下記表4に示す溶媒に溶解させ、全固形分濃度6質量%とし、孔径0.5μmのテトラフルオロエチレン製フィルターでろ過して、実施例1〜16及び比較例1,2の感光性組成物を調製した。
表4中において、各成分の固形分含有量を、反応樹脂、光重合開始剤、重合性化合物、及び、バインダー樹脂の各固形分の和に対する含有率(質量%)として表す。
M−360:東亞合成化学(株)製のアロニックスM−360(EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート)
DPHA:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
TMPT:新中村化学社製のNKエステル TMPT(トリメチロールプロパントリメタクリレート)
A−TMPT:新中村化学社製のNKエステル A−TMPT(トリメチロールプロパントリアクリレート)
CEL2021:ダイセル化学工業(株)製のセロキサイド2021P(3、4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’、4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート)
HMMM:ヘキサメトキシメチルメラミン(別名N,N,N,N,N,N−ヘキサ(メトキシメチル)メラミン)
MPMDMS:1−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン
MAPTMS:3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
BHT:2,6−ジ−t−ブチル−4−クレゾール
BA:酢酸ブチル
CYHEX:シクロヘキサノン
PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル(別名1−メトキシ−2−プロパノール)
上記のように調製した感光性組成物の液を、6インチのシリコンウエハの上に塗布し、ホットプレート上にて100℃で1.5分間、基板を予備乾燥し、膜厚300nmの感光性膜を形成させた。次いで、i線ステッパー露光装置FPA−3000i5+(Canon(株)製)を使用して、365nmの波長で1.0μmの正方ピクセルが基板上に、多数、設けられたマスクを使用して、パターン露光を行った。
得られた露光膜について、シリコンウエハをスピン・シャワー現像機(DW−30型、(株)ケミトロニクス製)の水平回転テーブル上に載置し、CD−2000(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を用いて23℃で60秒間、パドル現像を行なった後、該シリコンウエハを真空チャック方式で前記水平回転テーブルに固定し、回転装置によって該シリコンウエハを回転数50r.p.m.で回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理を行ない、その後スプレー乾燥してウエハ基板を得た。上記パドル現像において、アルカリ現像液としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの0.3%質量の水溶液を使用した。
得られたパターン膜を以下の次の何れかの方法で硬化を実施した。
(1)加熱A
大気下、ホットプレートで220℃、5分間加熱した。
(2)UV照射A
高圧水銀灯(ウシオ電機(株)UMA−802−HC552FFAL)を用いて10000[mJ/cm2]の紫外線を照射した。なお、高圧水銀灯からの照射光に含まれる275nm以下の波長光は、10%である。
得られたパターン膜を測長SEM((株)日立製作所S−8840)により観察し、1.0μmの正方ピクセルパターンの解像が認められた場合を○、パターンが確認できない場合を×と標記した。
ウーラム社製分光エリプソメーター(VASE)を用いてシリコンウエハ上にて、パターン膜部分における波長633nm、25℃で測定した値を用いた。
得られたパターン膜を走査型電子顕微鏡(日立超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡S−4800、倍率20000倍)にて未露光部を観察し、スペース部、エッジ部共に残渣が無くきれいに現像できているものを○、エッジ部に一部残渣があるものを△、スペース部及びエッジ部のどちらにも残渣があるものを×とした。
MTS社ナノインデンターSA2を使用して、パターン膜の25℃におけるヤング率を測定した。ヤング率の値が大きい程、膜強度に優れることを意味する。
一方、本発明のアルカリ可溶性粒子分散剤(B)を含有しない比較例1及び2においては、本発明の上記効果を同時に満たすことはできなかった。
Claims (16)
- (A)中空又は多孔質粒子、(B)アルカリ可溶性粒子分散剤、(C)活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物、及び(D)前記活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が減少するバインダーを含有する感光性組成物であって、前記粒子(A)と前記粒子分散剤(B)とが、それぞれ、互いに化学的に結合可能な基を有する、感光性組成物。
- 前記粒子(A)が表面にアルコシキ基及び水酸基の少なくとも一方を有し、前記粒子分散剤(B)の前記粒子(A)に化学的に結合可能な基が、加水分解性シリル基及びシラノール基の少なくとも一方を含む、請求項1に記載の感光性組成物。
- 前記粒子分散剤(B)が更に重合性基を有する、請求項1又は2に記載の感光性組成物。
- 前記粒子分散剤(B)と前記バインダー(D)とが同一である、請求項3に記載の感光性組成物。
- 前記バインダー(D)が、重合性基を有するアルカリ可溶性バインダー樹脂を含有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の感光性組成物。
- 前記バインダー(D)が、重合性化合物を含有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の感光性組成物。
- 前記中空又は多孔質粒子の屈折率が1.10〜1.40である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の感光性組成物。
- マイクロレンズの被覆用途に使用される、請求項1〜7のいずれか1項に記載の感光性組成物。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の感光性組成物であるパターン形成材料。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の感光性組成物により形成される感光性膜。
- 請求項10に記載の感光性膜を形成する工程、前記感光性膜を露光する工程、及び、アルカリ現像液により現像してパターン膜を得る現像工程を含むパターン形成方法。
- 請求項11に記載のパターン形成方法により得られるパターン膜。
- 請求項12に記載のパターン膜である低屈折率膜。
- 請求項13に記載の低屈折率膜である反射防止膜。
- 請求項13に記載の低屈折率膜、又は、請求項14に記載の反射防止膜を有する光学デバイス。
- 請求項15に記載の光学デバイスを備えた固体撮像素子。
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