JP2012081390A - 触媒の調製方法及び当該調製方法により調製された触媒を用いたアルキレンオキサイドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】プロピレン等のオレフィンと水素と酸素とを長時間、連続的に供給した場合、使用される触媒が有する触媒能力の低下に伴い、アルキレンオキサイドの生成量が徐々に低下する場合があるという問題があった。
【解決手段】触媒の調製方法であり、チタノシリケートと貴金属とを含む触媒と、炭素数1〜12のアルコールとを接触させる工程を含むことを特徴とする方法、並びに、
前記方法により調製された触媒とニトリル化合物の存在下、水素、酸素及びオレフィンを反応させることを特徴とするアルキレンオキサイドの製造方法。
【選択図】なし
【解決手段】触媒の調製方法であり、チタノシリケートと貴金属とを含む触媒と、炭素数1〜12のアルコールとを接触させる工程を含むことを特徴とする方法、並びに、
前記方法により調製された触媒とニトリル化合物の存在下、水素、酸素及びオレフィンを反応させることを特徴とするアルキレンオキサイドの製造方法。
【選択図】なし
Description
本発明は、触媒の調製方法及び当該調製方法により調製された触媒を用いたアルキレンオキサイドの製造方法等に関する。
チタノシリケートと貴金属とを含む触媒及びアセトニトリルの存在下、水素、酸素及びプロピレンを連続的に供給することにより、プロピレンオキサイドを連続的に製造する方法が、例えば、特許文献1に記載されている。
しかしながら、特許文献1記載に記載されている製造方法では、プロピレン等のオレフィンと水素と酸素とを長時間、連続的に供給した場合、使用される触媒が有する触媒能力の低下に伴い、アルキレンオキサイドの生成量が徐々に低下する場合があるという問題があった。
このような状況下、本発明者らは、触媒能力を回復させるための触媒の調製方法、及び、当該調製方法により調製された触媒を用いたアルキレンオキサイドの製造方法について鋭意検討した結果、特定の触媒では、ある種の化合物と接触させることにより、反応に供した結果劣化した前記触媒が有する触媒能力を回復させることを見出し、本発明に至った。
即ち、本発明は、
<1> 触媒の調製方法であり、チタノシリケートと貴金属とを含む触媒と、炭素数1〜12のアルコールとを接触させる工程を含むことを特徴とする方法。
<2> 前記触媒が、反応に供される前に有する当該反応における触媒能力よりも低い当該反応における触媒能力を有する触媒であることを特徴とする<1>記載の方法。
<3> 前記接触の系内には、前記反応に供する原料のうち少なくとも一種を実質的に含まないことを特徴とする<2>記載の方法。
<1> 触媒の調製方法であり、チタノシリケートと貴金属とを含む触媒と、炭素数1〜12のアルコールとを接触させる工程を含むことを特徴とする方法。
<2> 前記触媒が、反応に供される前に有する当該反応における触媒能力よりも低い当該反応における触媒能力を有する触媒であることを特徴とする<1>記載の方法。
<3> 前記接触の系内には、前記反応に供する原料のうち少なくとも一種を実質的に含まないことを特徴とする<2>記載の方法。
<4> 前記接触工程が、前記触媒と前記アルコールとを25〜250℃の温度範囲内で接触させる工程であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか記載の方法。
<5> 前記接触工程が、前記触媒と前記アルコールとを、0.5〜120時間の範囲内で接触させる工程であることを特徴とする<1>乃至<4>のいずれか記載の方法。
<6> 前記接触工程後、分離操作により得られる固形物に含まれる前記炭素数1〜12のアルコールをニトリル化合物に置換することにより、前記固形物に含まれる前記炭素数1〜12のアルコールの含有量を、前記触媒100重量部に対して10重量部以下にする工程を追加的に有することを特徴とする<1>乃至<5>のいずれか記載の方法。
<5> 前記接触工程が、前記触媒と前記アルコールとを、0.5〜120時間の範囲内で接触させる工程であることを特徴とする<1>乃至<4>のいずれか記載の方法。
<6> 前記接触工程後、分離操作により得られる固形物に含まれる前記炭素数1〜12のアルコールをニトリル化合物に置換することにより、前記固形物に含まれる前記炭素数1〜12のアルコールの含有量を、前記触媒100重量部に対して10重量部以下にする工程を追加的に有することを特徴とする<1>乃至<5>のいずれか記載の方法。
<7> 前記反応が、チタノシリケートと貴金属とを含む触媒及びニトリル化合物の存在下、水素、酸素及びオレフィンを反応させてアルキレンオキサイドを得るための反応であることを特徴とする<2>乃至<3>記載の方法。
<8> 前記反応が、チタノシリケートと貴金属とを含む触媒及びニトリル化合物の存在下、水素、酸素及びオレフィンを連続的に供給してアルキレンオキサイドを連続的に得るための反応であることを特徴とする<2>乃至<3>記載の方法。
<8> 前記反応が、チタノシリケートと貴金属とを含む触媒及びニトリル化合物の存在下、水素、酸素及びオレフィンを連続的に供給してアルキレンオキサイドを連続的に得るための反応であることを特徴とする<2>乃至<3>記載の方法。
<9> <1>乃至<8>のいずれか記載の方法により調製された触媒とニトリル化合物の存在下、水素、酸素及びオレフィンを反応させることを特徴とするアルキレンオキサイドの製造方法。
<10> <1>乃至<8>のいずれか記載の方法により調製された触媒とニトリル化合物の存在下、水素、酸素及びオレフィンを連続的に供給しながら反応させることを特徴とするアルキレンオキサイドの製造方法。
<10> <1>乃至<8>のいずれか記載の方法により調製された触媒とニトリル化合物の存在下、水素、酸素及びオレフィンを連続的に供給しながら反応させることを特徴とするアルキレンオキサイドの製造方法。
<11> 前記チタノシリケートが、酸素12員環以上の細孔を有する層状チタノシリケートであることを特徴とする<1>乃至<8>のいずれか記載の方法。
<12> 前記チタノシリケートが、Ti−MWW前駆体であることを特徴とする<1>乃至<8>のいずれか記載の方法。
<13> 前記貴金属が、パラジウム、白金、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、オスミウム及び金からなる群から選ばれる少なくとも1種の貴金属であることを特徴とする<1>乃至<8>のいずれか記載の方法。
<14> 前記触媒が、チタノシリケートと、担体に担持された貴金属とを含む触媒であることを特徴とする<1>乃至<8>のいずれか記載の方法。
<15> 前記反応が、1〜12時間行われることを特徴とする<9>乃至<10>記載のアルキレンオキサイドの製造方法。
<12> 前記チタノシリケートが、Ti−MWW前駆体であることを特徴とする<1>乃至<8>のいずれか記載の方法。
<13> 前記貴金属が、パラジウム、白金、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、オスミウム及び金からなる群から選ばれる少なくとも1種の貴金属であることを特徴とする<1>乃至<8>のいずれか記載の方法。
<14> 前記触媒が、チタノシリケートと、担体に担持された貴金属とを含む触媒であることを特徴とする<1>乃至<8>のいずれか記載の方法。
<15> 前記反応が、1〜12時間行われることを特徴とする<9>乃至<10>記載のアルキレンオキサイドの製造方法。
本発明によれば、プロピレン等のオレフィンと水素と酸素とを長時間、連続的に供給するようなアルキレンオキサイドの製造方法においても、反応に供した結果劣化した触媒が有する触媒能力を回復させることにより、アルキレンオキサイドの生成量が低くなることなく、アルキレンオキサイドを効率的に製造可能となる。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明は、触媒の調製方法であり、チタノシリケートと貴金属とを含む触媒(以下、本触媒と記すことがある)と、炭素数1〜12のアルコール(以下、本アルコールと記すことがある)とを接触させる工程(以下、接触工程と記すことがある)を含むことを特徴とする方法である。
本発明は、触媒の調製方法であり、チタノシリケートと貴金属とを含む触媒(以下、本触媒と記すことがある)と、炭素数1〜12のアルコール(以下、本アルコールと記すことがある)とを接触させる工程(以下、接触工程と記すことがある)を含むことを特徴とする方法である。
本触媒に含まれるチタノシリケートについて説明する。
チタノシリケートとは、多孔質シリケート(SiO2)のSiの一部がTiに置き換わったものである。チタノシリケートのTiはSiO2骨格内に入っており、TiがSiO2骨格内に入っていることは、紫外可視吸収スペクトルで210nm〜230nmにピークを持つことにより容易に確認できる。また、TiO2のTiは通常6配位であるが、チタノシリケートのTiは4配位であるため、チタンK殻XAFS分析等で配位数を測定することにより容易に確認できる。
チタノシリケートとは、多孔質シリケート(SiO2)のSiの一部がTiに置き換わったものである。チタノシリケートのTiはSiO2骨格内に入っており、TiがSiO2骨格内に入っていることは、紫外可視吸収スペクトルで210nm〜230nmにピークを持つことにより容易に確認できる。また、TiO2のTiは通常6配位であるが、チタノシリケートのTiは4配位であるため、チタンK殻XAFS分析等で配位数を測定することにより容易に確認できる。
本発明に用いられるチタノシリケートとしては、例えば、結晶性チタノシリケート、層状チタノシルケート、メソポーラスチタノシリケートなどを挙げることができる。
結晶性チタノシリケートとしては、例えば、IZA(国際ゼオライト学会)の構造コードで、MEL構造を有するTS−2、例えば、MTW構造を有するTi−ZSM−12(例えば、Zeolites 15, 236-242,(1995)に記載されたもの)、例えば、BEA構造を有するTi-Beta(例えば、Journal of Catalysis 199, 41-47,(2001)に記載されたもの)、例えば、MWW構造を有するTi-MWW(例えば、Chemistry Letters 774-775,(2000)に記載されたもの)、例えば、DON構造を有するTi−UTD−1(例えば、Zeolites 15, 519-525,(1995)に記載されたもの)等を挙げることができる。
層状チタノシリケートとしては、Ti-MWW前駆体(例えば、公開特許公報2003-32745号に記載されたもの)、Ti−YNU−1(例えば、Angewandte Chemie International Edition 43, 236-240, (2004)に記載されたもの)などのMWW構造の層間が広がった構造を持つチタノシリケート等が挙げられる。
メソポーラスチタノシリケートとは2nm〜10nmの規則性細孔を持つチタノシリケートを意味し、Ti−MCM−41(例えば、Microporous Materials 10, 259-271, (1997)に記載されたもの)、Ti−MCM−48(例えば、Chemical Communications 145-146, (1996)に記載されたもの)、Ti−SBA−15(例えば、Chemistry of Materials 14, 1657-1664, (2002)に記載されたもの)等を挙げることができる。
また、Ti−MMM−1(例えば、Microporous and Mesoporous Materials 52, 11-18, (2002)に記載されたもの)のようにメソポーラスチタノシリケートとチタノシリケートゼオライトの両方の特徴を併せ持つチタノシリケートも例示される。
結晶性チタノシリケートとしては、例えば、IZA(国際ゼオライト学会)の構造コードで、MEL構造を有するTS−2、例えば、MTW構造を有するTi−ZSM−12(例えば、Zeolites 15, 236-242,(1995)に記載されたもの)、例えば、BEA構造を有するTi-Beta(例えば、Journal of Catalysis 199, 41-47,(2001)に記載されたもの)、例えば、MWW構造を有するTi-MWW(例えば、Chemistry Letters 774-775,(2000)に記載されたもの)、例えば、DON構造を有するTi−UTD−1(例えば、Zeolites 15, 519-525,(1995)に記載されたもの)等を挙げることができる。
層状チタノシリケートとしては、Ti-MWW前駆体(例えば、公開特許公報2003-32745号に記載されたもの)、Ti−YNU−1(例えば、Angewandte Chemie International Edition 43, 236-240, (2004)に記載されたもの)などのMWW構造の層間が広がった構造を持つチタノシリケート等が挙げられる。
メソポーラスチタノシリケートとは2nm〜10nmの規則性細孔を持つチタノシリケートを意味し、Ti−MCM−41(例えば、Microporous Materials 10, 259-271, (1997)に記載されたもの)、Ti−MCM−48(例えば、Chemical Communications 145-146, (1996)に記載されたもの)、Ti−SBA−15(例えば、Chemistry of Materials 14, 1657-1664, (2002)に記載されたもの)等を挙げることができる。
また、Ti−MMM−1(例えば、Microporous and Mesoporous Materials 52, 11-18, (2002)に記載されたもの)のようにメソポーラスチタノシリケートとチタノシリケートゼオライトの両方の特徴を併せ持つチタノシリケートも例示される。
本発明に用いられるチタノシリケートとしては、酸素12員環以上の細孔を有する結晶性チタノシリケートあるいは層状チタノシリケートが好ましい。酸素12員環以上の細孔を有する結晶性チタノシリケートとしては、Ti−ZSM−12、Ti-Beta、Ti−MWW、Ti−UTD−1が挙げられる。酸素12員環以上の細孔を有する層状チタノシリケートとしては、Ti−MWW前駆体、Ti−YNU−1が挙げられる。より好ましいチタノシリケートとしては、Ti−MWW、Ti−MWW前駆体が挙げられる。
本発明に用いられるチタノシリケートは、構造規定剤を使用し、チタン化合物及びケイ素化合物を加水分解させ、必要に応じて水熱合成等で結晶化、層状化あるいは細孔規則性を向上させた後、焼成あるいは抽出により構造規定剤を除去する方法で調製されるものが好ましい。
本発明に用いられるチタノシリケートの調製方法としてTi−MWW前駆体の調製方法を例示すると、オートクレーブ等の密閉容器に、ホウ素化合物、ケイ素化合物及び構造規定剤を混合し、0℃〜250℃、好ましくは、50℃〜200℃の温度範囲にて、ゲージ圧力0〜10MPa程度で、加熱及び加圧する方法等を挙げることができる。得られたTi−MWW前駆体は、ろ過により分離され、必要によりさらに水等を用いて、洗浄する。洗浄は、必要により洗浄液の量等もしくは洗浄濾液のpH等を見ながら適宜調整して行えばよい。
好ましいチタノシリケートとしては、上記調製方法で得られたTi-MWW前駆体を、さらに、500〜800℃で焼成して層間を脱水縮合させることによりTi−MWWとし、再び、構造規定剤及び水の存在下、0℃〜250℃、好ましくは、50℃〜200℃の温度範囲にて、ゲージ圧力0〜10MPa程度で、加熱及び加圧して得られるTi-MWW前駆体等を挙げることができる。
好ましいチタノシリケートとしては、上記調製方法で得られたTi-MWW前駆体を、さらに、500〜800℃で焼成して層間を脱水縮合させることによりTi−MWWとし、再び、構造規定剤及び水の存在下、0℃〜250℃、好ましくは、50℃〜200℃の温度範囲にて、ゲージ圧力0〜10MPa程度で、加熱及び加圧して得られるTi-MWW前駆体等を挙げることができる。
ここで、構造規定剤とは、MWW構造を有するゼオライトを形成可能なものであり、例えば、ピペリジン、ヘキサメチレンイミン、N,N,N-トリメチル-1-アダマンタンアンモニウム塩(例えば、N,N,N-トリメチル-1-アダマンタンアンモニウムヒドロキシド、N,N,N-トリメチル-1-アダマンタンアンモニウムイオダイド等)、オクチルトリメチルアンモニウム塩(例えば、オクチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、オクチルトリメチルアンモニウムブロマイド等が例示される。これらの化合物は単独で用いてもよいし、2種類以上を任意の割合で混合して用いても構わない。
好ましい構造規定剤は、ピペリジン、ヘキサメチレンイミンである。
用いる構造規定剤の量は、ホウ素化合物及びケイ素化合物の合計重量に対し、例えば、0.001倍〜100倍であり、好ましくは0.1倍〜10倍の範囲である。
好ましい構造規定剤は、ピペリジン、ヘキサメチレンイミンである。
用いる構造規定剤の量は、ホウ素化合物及びケイ素化合物の合計重量に対し、例えば、0.001倍〜100倍であり、好ましくは0.1倍〜10倍の範囲である。
チタン化合物としては、例えば、テトラ−n−ブチルオルソチタネートなどのチタンアルコキシド、ペルオキシチタン酸テトラ−n−ブチルアンモニウムの如きペルオキシチタン酸塩、4塩化チタンなどのチタンハロゲン化物、酢酸チタン、硝酸チタン、硫酸チタン、リン酸チタン、過塩素酸チタン、二酸化チタン等のチタン化合物が例示され、チタンアルコキシドが好ましい。用いるチタン化合物の量は、ホウ素化合物1重量部に対しチタン化合物の重量として0.001重量部〜10重量部の範囲等を挙げることができ、好ましくは0.01重量部〜2重量部の範囲が挙げられる。
ケイ素化合物としては、例えば、テトラエチルオルソシリケートなどのテトラアルキルオルソシリケート、シリカ等が挙げられる。
ホウ素化合物としてはホウ酸を挙げることができる。
ホウ素化合物及びケイ素化合物はほぼ同量程度用いればよい。
ホウ素化合物としてはホウ酸を挙げることができる。
ホウ素化合物及びケイ素化合物はほぼ同量程度用いればよい。
本発明に用いられるチタノシリケートは、例えば、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン等のシリル化剤を用いてシリル化してもよい。
本触媒に含まれる貴金属について説明する。
貴金属としては、例えば、パラジウム、白金、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、オスミウム、金等の貴金属、またはそれらの合金もしくは混合物があげられる。好ましい貴金属としては、パラジウム、白金、金が挙げられる。さらにより好ましい貴金属はパラジウムである。パラジウムとしては、例えば、パラジウムコロイドを用いてもよい(例えば、特開2002-294301号公報、実施例1等参照)。上記貴金属としては、還元することにより貴金属に変換される貴金属化合物を用いてもよい。好ましい貴金属化合物はパラジウム化合物である。なお、該貴金属として、パラジウムを用いる場合、更に白金、金、ロジウム、イリジウム、オスミウム等のパラジウム以外の金属も添加混合して用いることができる。好ましいパラジウム以外の金属としては、金、白金が挙げられる。
該パラジウム化合物として、例えば、ヘキサクロロパラジウム(IV)酸ナトリウム四水和物、ヘキサクロロパラジウム(IV)酸カリウム等の4価のパラジウム化合物類;塩化パラジウム(II)、臭化パラジウム(II)、酢酸パラジウム(II)、パラジウムアセチルアセトナート(II)、ジクロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム(II)、ジクロロビス(アセトニトリル)パラジウム(II)、ジクロロ(ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン)パラジウム(II)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロテトラアンミンパラジウム(II)、ジブロモテトラアンミンパラジウム(II)、ジクロロ(シクロオクタ−1,5−ジエン)パラジウム(II)、パラジウムトリフルオロアセテート(II)等の2価パラジウム化合物類が例示される。
貴金属としては、例えば、パラジウム、白金、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、オスミウム、金等の貴金属、またはそれらの合金もしくは混合物があげられる。好ましい貴金属としては、パラジウム、白金、金が挙げられる。さらにより好ましい貴金属はパラジウムである。パラジウムとしては、例えば、パラジウムコロイドを用いてもよい(例えば、特開2002-294301号公報、実施例1等参照)。上記貴金属としては、還元することにより貴金属に変換される貴金属化合物を用いてもよい。好ましい貴金属化合物はパラジウム化合物である。なお、該貴金属として、パラジウムを用いる場合、更に白金、金、ロジウム、イリジウム、オスミウム等のパラジウム以外の金属も添加混合して用いることができる。好ましいパラジウム以外の金属としては、金、白金が挙げられる。
該パラジウム化合物として、例えば、ヘキサクロロパラジウム(IV)酸ナトリウム四水和物、ヘキサクロロパラジウム(IV)酸カリウム等の4価のパラジウム化合物類;塩化パラジウム(II)、臭化パラジウム(II)、酢酸パラジウム(II)、パラジウムアセチルアセトナート(II)、ジクロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム(II)、ジクロロビス(アセトニトリル)パラジウム(II)、ジクロロ(ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン)パラジウム(II)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロテトラアンミンパラジウム(II)、ジブロモテトラアンミンパラジウム(II)、ジクロロ(シクロオクタ−1,5−ジエン)パラジウム(II)、パラジウムトリフルオロアセテート(II)等の2価パラジウム化合物類が例示される。
貴金属の調製方法としては、例えば、貴金属化合物を担体上に担持した後、還元する方法が知られている。貴金属化合物の担持は、含浸法等の従来公知の方法を用いることができる。
還元方法として、還元ガスを用いる場合には、適当な充填管に固体状の貴金属化合物の担持物を充填し、該充填管に還元性ガスを注入する方法等を挙げることができる。還元性ガスは、水素、一酸化炭素、メタン、エタン、プロパン、ブタン、エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジエン等、あるいはこれらから選ばれる2種以上の混合ガスが例示される。中でも、水素が好ましい。また、還元性ガスは、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴン又は水蒸気(スチーム)等、あるいはこれらから選ばれる2種以上を混合した希釈ガスで希釈してもよい。
還元方法として、還元ガスを用いる場合には、適当な充填管に固体状の貴金属化合物の担持物を充填し、該充填管に還元性ガスを注入する方法等を挙げることができる。還元性ガスは、水素、一酸化炭素、メタン、エタン、プロパン、ブタン、エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジエン等、あるいはこれらから選ばれる2種以上の混合ガスが例示される。中でも、水素が好ましい。また、還元性ガスは、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴン又は水蒸気(スチーム)等、あるいはこれらから選ばれる2種以上を混合した希釈ガスで希釈してもよい。
ここで、担体としては、例えば、本発明に用いられるチタノシリケート、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、ニオビア等の酸化物;ニオブ酸、ジルコニウム酸、タングステン酸、チタン酸等の水化物;炭素;あるいはそれらの混合物等を挙げることができる。チタノシリケート以外の担体の中では、炭素が好ましい担体として挙げられる。炭素担体としては、活性炭、カーボンブラック、グラファイト、カーボンナノチューブ等が挙げられる。
本触媒は、本発明に用いられるチタンシリケートに貴金属を担持させて得られるもの以外に、貴金属を担持した担体を前記チタノシリケートと混合したものなどを挙げることができる。
貴金属を担持した担体における貴金属の含有量としては、例えば、担体と貴金属との合計100重量部に対し0.01〜20重量部の範囲、好ましくは0.1〜5重量部の範囲である。
貴金属を担持した担体における貴金属の含有量としては、例えば、担体と貴金属との合計100重量部に対し0.01〜20重量部の範囲、好ましくは0.1〜5重量部の範囲である。
本触媒における貴金属の含有量(下限)は、前記チタノシリケート1重量部に対し、例えば、0.00001重量部以上を挙げることができ、好ましくは0.0001重量部以上、より好ましくは0.001重量部以上を挙げることができる。貴金属の含有量(上限)は、前記チタノシリケート1重量部に対し、例えば、100重量部以下を挙げることができ、好ましくは20重量部以下、より好ましくは5重量部以下が挙げられる。
接触工程に供される本触媒としては、反応に供される前の本触媒でもよいが、反応に供される前に有する当該反応における触媒能力よりも低い当該反応における触媒能力を有する触媒であることが好ましい。
ここで、反応としては、例えば、チタノシリケートと貴金属とを含む触媒及びニトリル化合物の存在下、水素、酸素及びオレフィンを反応させてアルキレンオキサイドを得るための反応等を挙げることができる。
以下、本触媒及びニトリル化合物の存在下、水素、酸素及びオレフィンを反応させてアルキレンオキサイドを得るための反応(以下、本反応と記すことがある)について説明する。
ここで、反応としては、例えば、チタノシリケートと貴金属とを含む触媒及びニトリル化合物の存在下、水素、酸素及びオレフィンを反応させてアルキレンオキサイドを得るための反応等を挙げることができる。
以下、本触媒及びニトリル化合物の存在下、水素、酸素及びオレフィンを反応させてアルキレンオキサイドを得るための反応(以下、本反応と記すことがある)について説明する。
本反応に用いられるオレフィンとは、炭素数2〜12の炭素・炭素二重結合を有する化合物であり、好ましくは、置換基を有していてもよい炭素数2〜12のアルケン又は置換基を有していてもよい炭素数4〜12のシクロアルケン等を挙げることができる。
オレフィンに含まれる置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
炭素数2〜10のアルケンとしては、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、ノネン、デセン、2−ブテン、イソブテン、2−ペンテン、2−ヘキセン、3−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、2−ヘプテン、3−ヘプテン、2−オクテン、3−オクテン、2−ノネン、3−ノネン、2−デセン及び3−デセン等が例示される。
炭素数4〜10のシクロアルケンとしては、シクロブテン、シクロペンテン、シクロへキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネン、シクロデセン等が例示される。
好ましいオレフィンとしては、例えば、置換基を有さないアルケンが挙げられ、より好ましくは、α−オレフィンが挙げられ、とりわけ好ましくはプロピレンが挙げられる。
オレフィンに含まれる置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
炭素数2〜10のアルケンとしては、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、ノネン、デセン、2−ブテン、イソブテン、2−ペンテン、2−ヘキセン、3−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、2−ヘプテン、3−ヘプテン、2−オクテン、3−オクテン、2−ノネン、3−ノネン、2−デセン及び3−デセン等が例示される。
炭素数4〜10のシクロアルケンとしては、シクロブテン、シクロペンテン、シクロへキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネン、シクロデセン等が例示される。
好ましいオレフィンとしては、例えば、置換基を有さないアルケンが挙げられ、より好ましくは、α−オレフィンが挙げられ、とりわけ好ましくはプロピレンが挙げられる。
アルキレンオキサイドとは、前記したように炭素・炭素二重結合を有する化合物の二重結合をオキシラン環に酸化させたものであり、例えば、エチレンオキサイド(オキシラン)、プロピレンオキサイド(メチルオキシラン)、エチルオキシラン、ブチルオキシランン、ペンチルオキシラン、ヘキシルオキシラン、ヘキシルオキシラン、ヘプチルオキシラン、オクチルオキシラン、2,3−ジメチルオキシラン、1,1−ジメチルオキシラン、1−メチル−3−エチルオキシラン、1−メチル−3−ブチルオキシラン、3,4−ジエチルオキシラン、1−メチル−3−プロピルオキシラン、2−(4−メチル)プロピルオキシラン、1−メチル−3−ペンチルオキシラン、2−エチル−3−ブチルオキシラン、1−メチル−3−ヘキシルオキシラン、2−エチル−3−ペンチルオキシラン、1−メチル−3−ヘプチルオキシラン、及び2−エチル−3−ヘプチルオキシラン等が挙げられる。
本反応は、水素、酸素及びオレフィンを回分式反応器に一括して仕込み、反応させてもよいが、水素、酸素及びオレフィンを、流通式反応器又は半回分式反応器に連続的に供給し、反応を連続的に行うことが好ましい。
本触媒は、反応器に固定された固定床として設けられていてもよいし、スラリーとして浮遊していてもよい。
本触媒は、反応器に固定された固定床として設けられていてもよいし、スラリーとして浮遊していてもよい。
本反応に用いられるニトリル化合物としては、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、イソブチロニトリル、ブチロニトリル等の炭素数2〜4のアルキルニトリルおよびベンゾニトリル等を挙げることができ、好ましくはアセトニトリル等が挙げられる。
本反応における反応温度の下限としては、例えば、0℃を挙げることができ、好ましくは40℃が挙げられる。本反応における反応温度の上限としては、例えば、200℃を挙げることができ、好ましくは150℃が挙げられる。
本反応における反応圧力(ゲージ圧)の下限としては、例えば、0.1MPaの加圧下を挙げることができ、好ましくは1MPaの加圧下を挙げることができ、より好ましくは20MPaの加圧下を挙げることができ、さらにより好ましくは10MPaを挙げることができる。
本反応における反応圧力(ゲージ圧)の下限としては、例えば、0.1MPaの加圧下を挙げることができ、好ましくは1MPaの加圧下を挙げることができ、より好ましくは20MPaの加圧下を挙げることができ、さらにより好ましくは10MPaを挙げることができる。
本反応に用いられるオレフィンの量は、その種類や反応条件等によって異なるが、本反応の反応系内における溶媒の合計量100重量部に対して、好ましくは0.01重量部以上、より好ましくは0.1重量部以上である。オレフィンの量は、本反応の反応系内における溶媒の合計量100重量部に対して、好ましい上限が1000重量部、より好ましい上限が100重量部である。
本反応において、本触媒の量をチタノシリケートの量によって表すと、本反応に用いられる溶媒の合計量100重量部に対して、下限が、例えば、0.01重量部、好ましくは0.1重量部、より好ましくは0.5重量部を挙げることができ、上限としては、例えば、20重量部、好ましくは10重量部、より好ましくは8重量部が挙げられる。
本反応においては、緩衝剤を存在させた場合、本触媒の触媒能力の低下を防止したり、本触媒の触媒能力をさらに増大させたり、酸素及び水素の利用効率を向上させる傾向があることから好ましい。ここで、緩衝剤とは、本反応における反応系内の溶液の水素イオン濃度に対して緩衝作用を与える塩を意味する。
緩衝剤の添加量は、本反応における反応系内の溶液1kgに対し、例えば、0.001mmol〜100mmolの範囲等が挙げられる。
緩衝剤の添加量は、本反応における反応系内の溶液1kgに対し、例えば、0.001mmol〜100mmolの範囲等が挙げられる。
緩衝剤としては、1)硫酸イオン、硫酸水素イオン、炭酸イオン、炭酸水素イオン、リン酸イオン、リン酸水素イオン、リン酸2水素イオン、ピロリン酸水素イオン、ピロリン酸イオン、ハロゲンイオン、硝酸イオン、水酸化物イオンまたは炭素数1〜10のカルボン酸イオンから選ばれるアニオンと、2)アンモニウム、アルキルアンモニウム、アルキルアリールアンモニウム、アルカリ金属カチオンまたはアルカリ土類金属塩カチオンから選ばれるカチオンとからなる緩衝剤等が例示される。
炭素数1〜10のカルボン酸イオンとしては、例えば、酢酸イオン、蟻酸イオン、酢酸イオン、プロピオン酸イオン、酪酸イオン、吉草酸イオン、カプロン酸イオン、カプリル酸イオン、カプリン酸イオン、安息香酸イオン等が挙げられる。
アルキルアンモニウムとしては、例えば、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラ−n−プロピルアンモニウム、テトラ−n−ブチルアンモニウム、セチルトリメチルアンモニウム等が挙げられる。
アルカリ金属カチオン及びアルカリ土類金属カチオンとしては、例えば、リチウムカチオン、ナトリウムカチオン、カリウムカチオン、ルビジウムカチオン、セシウムカチオン、マグネシウムカチオン、カルシウムカチオン、ストロンチウムカチオン、バリウムカチオン等が挙げられる。
アルキルアンモニウムとしては、例えば、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラ−n−プロピルアンモニウム、テトラ−n−ブチルアンモニウム、セチルトリメチルアンモニウム等が挙げられる。
アルカリ金属カチオン及びアルカリ土類金属カチオンとしては、例えば、リチウムカチオン、ナトリウムカチオン、カリウムカチオン、ルビジウムカチオン、セシウムカチオン、マグネシウムカチオン、カルシウムカチオン、ストロンチウムカチオン、バリウムカチオン等が挙げられる。
好ましい緩衝剤としては、例えば、硫酸アンモニウム、硫酸水素アンモニウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、リン酸水素2アンモニウム、リン酸2水素アンモニウム、リン酸アンモニウム、ピロリン酸水素アンモニウム、ピロリン酸アンモニウム、塩化アンモニウム、硝酸アンモニウム等の無機酸のアンモニウム塩または酢酸アンモニウム等の炭素数1〜10のカルボン酸のアンモニウム塩等が挙げられ、好ましいアンモニウム塩としては、リン酸2水素アンモニウムが挙げられる。
上記緩衝剤に代え、貴金属のアンミン錯体等、緩衝塩イオンを発生する化合物を貴金属化合物として用いてもよい。例えば、Pdテトラアンミンクロリドを貴金属化合物として用い一部還元させないようにすると、オキシラン化合物の合成時にアンモニウムイオンが発生する。
上記緩衝剤に代え、貴金属のアンミン錯体等、緩衝塩イオンを発生する化合物を貴金属化合物として用いてもよい。例えば、Pdテトラアンミンクロリドを貴金属化合物として用い一部還元させないようにすると、オキシラン化合物の合成時にアンモニウムイオンが発生する。
キノイド化合物を本反応における反応系内の溶液に加えることにより、アルキレンオキサイドの選択性をさらに増大させる傾向があることから好ましい。
キノイド化合物としては、下記式(1)のρ−キノイド化合物およびフェナントラキノン化合物等が例示される。
キノイド化合物としては、下記式(1)のρ−キノイド化合物およびフェナントラキノン化合物等が例示される。
(式中、R1、R2、R3およびR4は、水素原子を表すかあるいは、R1とR2は、その末端で結合し、それぞれが結合している炭素原子とともに置換基を有していてもよいナフタレン環を表し、R3とR4は、その末端で結合し、それぞれが結合している炭素原子とともに置換基を有していてもよいナフタレン環を表し、XおよびYは、それぞれ独立に、酸素原子もしくはNH基を表す。)
式(1)の化合物としては、
1)式(1)において、R1、R2、R3およびR4が、水素原子であり、XおよびYが共に酸素原子であるキノン化合物(1A)、
2)式(1)において、R1、R2、R3およびR4が、水素原子であり、Xが酸素原子であり、YがNH基であるキノンイミン化合物(1B)、
3)式(1)において、R1、R2、R3およびR4が、水素原子であり、XおよびYがNH基であるキノンジイミン化合物(1C)等が例示される。
式(1)のキノイド化合物には、下記のアントラキノン化合物(2)が含まれる。
1)式(1)において、R1、R2、R3およびR4が、水素原子であり、XおよびYが共に酸素原子であるキノン化合物(1A)、
2)式(1)において、R1、R2、R3およびR4が、水素原子であり、Xが酸素原子であり、YがNH基であるキノンイミン化合物(1B)、
3)式(1)において、R1、R2、R3およびR4が、水素原子であり、XおよびYがNH基であるキノンジイミン化合物(1C)等が例示される。
式(1)のキノイド化合物には、下記のアントラキノン化合物(2)が含まれる。
(式中、XおよびYは式(1)において定義されたとおりであり、R5、R6、R7およびR8は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシル基もしくはアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基等の炭素数1〜5のアルキル基)を表す。)。
式(1)および式(2)において、XおよびYは酸素原子が好ましい。
式(1)および式(2)において、XおよびYは酸素原子が好ましい。
キノイド化合物としては、例えば、ベンゾキノン、ナフトキノン、アントラキノン、アルキルアントラキノン化合物、ポリヒドロキシアントラキノン、ρ−キノイド化合物、ο−キノイド化合物等があげられる。
アルキルアントラキノン化合物としては、例えば、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−ブチルアントラキノン、2−t−アミルアントラキノン、2−イソプロピルアントラキノン、2−s−ブチルアントラキノンまたは2−s−アミルアントラキノン等の2−アルキルアントラキノン化合物;1,3−ジエチルアントラキノン、2,3−ジメチルアントラキノン、1,4−ジメチルアントラキノン、2,7−ジメチルアントラキノン等のポリアルキルアントラキノン化合物が挙げられる。
ポリヒドロキシアントラキノンとしては、例えば、2,6−ジヒドロキシアントラキノン等が挙げられる。上記ρ−キノイド化合物としては、ナフトキノン、1,4−フェナントラキノン等が挙げられる。上記ο−キノイド化合物としては、1,2−、3,4−および9,10−フェナントラキノン等が挙げられる。
好ましいキノイド化合物としては、アントラキノン、2−アルキルアントラキノン化合物(式(2)において、XおよびYが酸素原子であり、R5が2位に置換したアルキル基であり、R6が水素を表し、R7およびR8が水素原子を表す。)等が挙げられる。
アルキルアントラキノン化合物としては、例えば、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−ブチルアントラキノン、2−t−アミルアントラキノン、2−イソプロピルアントラキノン、2−s−ブチルアントラキノンまたは2−s−アミルアントラキノン等の2−アルキルアントラキノン化合物;1,3−ジエチルアントラキノン、2,3−ジメチルアントラキノン、1,4−ジメチルアントラキノン、2,7−ジメチルアントラキノン等のポリアルキルアントラキノン化合物が挙げられる。
ポリヒドロキシアントラキノンとしては、例えば、2,6−ジヒドロキシアントラキノン等が挙げられる。上記ρ−キノイド化合物としては、ナフトキノン、1,4−フェナントラキノン等が挙げられる。上記ο−キノイド化合物としては、1,2−、3,4−および9,10−フェナントラキノン等が挙げられる。
好ましいキノイド化合物としては、アントラキノン、2−アルキルアントラキノン化合物(式(2)において、XおよびYが酸素原子であり、R5が2位に置換したアルキル基であり、R6が水素を表し、R7およびR8が水素原子を表す。)等が挙げられる。
キノイド化合物の使用量は、本反応における反応系内の溶液1kgあたり、例えば、0.001mmol/kg〜500mmol/kgの範囲等を挙げることができ、好ましくは、0.01mmol/kg〜50mmol/kgの範囲等が挙げられる。
キノイド化合物は、該キノイド化合物のジヒドロ体を本反応の反応系内で酸素等を用いて酸化させることにより調製することもできる。例えばヒドロキノンや、9,10−アントラセンジオール等のキノイド化合物が水素化された化合物を本反応の反応系内に添加し、該反応系内で酸素により酸化してキノイド化合物を発生させて使用してもよい。
キノイド化合物のジヒドロ体としては、前記式(1)および(2)の化合物のジヒドロ体である下記の式(3)および(4)の化合物が例示される。
(式中、R1、R2、R3、R4、XおよびYは、前記式(1)に関して定義されたとおり。)
(式中、R1、R2、R3、R4、XおよびYは、前記式(1)に関して定義されたとおり。)
(式中、X、Y、R5、R6、R7およびR8は前記式(2)に関して定義されたとおり。)
式(3)および式(4)において、XおよびYは、酸素原子が好ましい。
好ましいキノイド化合物のジヒドロ体としては、例えば、上述の好ましいキノイド化合物に対応するジヒドロ体等が挙げられる。
式(3)および式(4)において、XおよびYは、酸素原子が好ましい。
好ましいキノイド化合物のジヒドロ体としては、例えば、上述の好ましいキノイド化合物に対応するジヒドロ体等が挙げられる。
本反応においてオレフィンを連続的に供給し反応させる場合、その供給量は、オレフィンの種類や反応スケール等に応じて適宜選択されるが、本反応の反応系内における溶液の合計量100重量部に対して、下限は0.01重量部以上が好ましく、0.1重量部以上がより好ましく、1重量部以上が特に好ましい。一方、その上限は1000重量部以下が好ましく、100重量部以下がより好ましく、50重量部以下が特に好ましい。
本反応において酸素と水素とを連続的に供給し反応させる場合、供給される酸素と水素との分圧比としては、例えば、1:50〜50:1の範囲等を挙げることができ、好ましくは、1:2〜10:1の範囲等が挙げられる。酸素と水素の分圧比(酸素/水素)が50/1以下であるとアルキレンオキサイドの生成速度が向上する傾向があることから好ましい。また、酸素と水素の分圧比(酸素/水素)が1/50以上であると、アルカン化合物の副生が減少し、アルキレンオキサイドの選択率が向上する傾向があることから好ましい。
ここで、酸素および水素は希釈されていてもよい。希釈に用いるガスとしては、窒素,アルゴン,二酸化炭素、メタン,エタン,プロパンがあげられる。希釈用ガスの濃度に制限は無いが、必要により、酸素あるいは水素を希釈して過酸化水素の合成反応が行われる。
酸素としては、酸素をそのまま用いてもよいし、空気等の酸素及び前記の希釈に用いるガスの混合ガスであってもよい。酸素ガスは安価な圧力スウィング法で製造した酸素ガスも使用できるし、必要に応じて深冷分離等で製造した高純度酸素ガスを用いることもできる。
酸素としては、酸素をそのまま用いてもよいし、空気等の酸素及び前記の希釈に用いるガスの混合ガスであってもよい。酸素ガスは安価な圧力スウィング法で製造した酸素ガスも使用できるし、必要に応じて深冷分離等で製造した高純度酸素ガスを用いることもできる。
本反応における反応温度としては、例えば、0℃〜200℃の範囲等を挙げることができ、好ましくは40℃〜150℃の範囲等が挙げられる。
反応温度が0℃以上であると反応速度が向上する傾向があることから好ましく、反応温度が200℃以下であると、副反応が抑制され、アルキレンオキサイドの選択率が向上する傾向があることから好ましい。
反応温度が0℃以上であると反応速度が向上する傾向があることから好ましく、反応温度が200℃以下であると、副反応が抑制され、アルキレンオキサイドの選択率が向上する傾向があることから好ましい。
本反応における反応圧力は、例えば、ゲージ圧力で0.1MPa〜20MPaの範囲の加圧下等を挙げることができ、好ましくは、1MPa〜10MPaの範囲の加圧下が挙げられる。
本反応終了後、アルキレンオキサイドは、例えば、本反応の反応生成物を蒸留等によって取り出すことができる。
本触媒を連続的に本反応として用いる場合、本反応の反応時間としては、例えば、1〜12時間の範囲内を挙げることができる。
次に、接触工程について説明する。
接触工程は、本触媒と本アルコールとを、例えば、25〜250℃の温度範囲等、好ましくは、50〜200℃の温度範囲等で接触させることが好ましい。
接触工程は、本触媒と本アルコールとを、例えば、25〜250℃の温度範囲等、好ましくは、50〜200℃の温度範囲等で接触させることが好ましい。
本アルコールとしては、例えば、炭素数1〜12の脂肪族アルコール又は炭素数5〜12の脂環式アルコール等を挙げることができ、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、t−ブタノール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、n−オクタノール、2−エチルヘキサノール、ベンジルアルコール等を挙げることができ、より好ましくは、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、t−ブタノール等が挙げられる。
本アルコールの使用量は溶媒量であり、例えば、触媒能力が低下した本触媒の合計見かけ体積1容量部に対して1〜100容量部等を挙げることができる。
接触工程は、例えば、回分式、半回分式、流通式等の反応装置で行われる。
接触に要する時間は、例えば、本アルコール中の本触媒の滞留時間として、下限は、例えば、0.5時間を挙げることができ、好ましくは1時間以上が挙げられる。上限は、例えば、120時間を挙げることができ、好ましくは72時間以下が挙げられ、より好ましくは24時間以下が挙げられる。
接触に要する時間は、例えば、本アルコール中の本触媒の滞留時間として、下限は、例えば、0.5時間を挙げることができ、好ましくは1時間以上が挙げられる。上限は、例えば、120時間を挙げることができ、好ましくは72時間以下が挙げられ、より好ましくは24時間以下が挙げられる。
本触媒が、触媒能力が低下した本触媒である場合、反応に使用されていた形状のままで、本触媒を接触工程に供してもよいし、触媒能力が低下した本触媒を破砕してから接触工程を施してもよい。また、触媒能力が低下した本触媒以外の触媒(具体的には、新たに調製された本触媒)や担体と、触媒能力が低下した本触媒とを混合して、接触工程に供してもよい。
接触工程の具体例としては、例えば、本触媒と本アルコールとを含む混合物をオートクレーブ等の密閉容器に入れ、上記温度範囲に保温及び加圧する方法、例えば、常圧下、ガラス製焼成管等の容器内で本触媒と本アルコールとを含む混合物を上記温度範囲で保温する方法等が挙げられる。
接触工程の具体例としては、例えば、本触媒と本アルコールとを含む混合物をオートクレーブ等の密閉容器に入れ、上記温度範囲に保温及び加圧する方法、例えば、常圧下、ガラス製焼成管等の容器内で本触媒と本アルコールとを含む混合物を上記温度範囲で保温する方法等が挙げられる。
接触工程の圧力としては、例えば、ゲージ圧力で0〜10MPa程度の常圧から加圧下が好ましい。
接触工程は、分離操作により得られる固形物に含まれる本アルコールをニトリル化合物に置換する工程を追加的に有することが好ましい。前記置換工程によって、本触媒における本アルコールの量が低減され、かかる本触媒を用いて本反応を行うと、得られるアルキレンオキサイドの選択率が向上する傾向があることから好ましい。
前記固形物に含まれる本アルコールの含有量は、前記触媒100重量部に対して、例えば、10重量部以下、好ましくは1重量部以下である。
具体的には、ろ過などの分離操作によりにより得られる固形物を、例えば、ニトリル化合物で洗浄する方法、例えば、該固形物を乾燥した後、ニトリル化合物で洗浄する方法等をあげることができる。
前記固形物に含まれる本アルコールの含有量は、前記触媒100重量部に対して、例えば、10重量部以下、好ましくは1重量部以下である。
具体的には、ろ過などの分離操作によりにより得られる固形物を、例えば、ニトリル化合物で洗浄する方法、例えば、該固形物を乾燥した後、ニトリル化合物で洗浄する方法等をあげることができる。
ここで、ニトリル化合物としては、前記のニトリル化合物を挙げることができる。
ニトリル化合物の使用量は溶媒量であり、例えば、置換に供される本触媒の合計見かけ体積1容量部に対して1〜100容量部等を挙げることができる。
ニトリル化合物の使用量は溶媒量であり、例えば、置換に供される本触媒の合計見かけ体積1容量部に対して1〜100容量部等を挙げることができる。
接触工程後の本触媒は、触媒能力が回復していることから、再び、本反応に供することができる。そして、反応を行って劣化し、触媒能力が低下した本触媒も、接触工程を行うことにより、再び、触媒能力が回復することができる。このように、本触媒は本発明の接触工程と反応は繰り返して行っても、触媒能力を繰り返し回復することができる。
以下、本発明を実施例により説明する。
(実施例に用いた分析装置)
[元素分析方法]
Ti(チタン)、Si(ケイ素)、B(ホウ素)の含有量は、アルカリ融解−硝酸溶解−ICP発光分析法により、測定した。N(窒素)含量は、スミグラフ(住友化学分析センター製)を用い、酸素循環燃焼・TCD検出方法にて測定した。
[元素分析方法]
Ti(チタン)、Si(ケイ素)、B(ホウ素)の含有量は、アルカリ融解−硝酸溶解−ICP発光分析法により、測定した。N(窒素)含量は、スミグラフ(住友化学分析センター製)を用い、酸素循環燃焼・TCD検出方法にて測定した。
[粉末X線回折法(XRD)]
サンプルを以下の装置、条件で粉末X線回折パターンを測定した。
装置:理学電機社製RINT2500V
線源:Cu Kα線
出力 40kV−300mA
走査範囲:2θ=0.75〜20°
走査速度: 1°/分
サンプルを以下の装置、条件で粉末X線回折パターンを測定した。
装置:理学電機社製RINT2500V
線源:Cu Kα線
出力 40kV−300mA
走査範囲:2θ=0.75〜20°
走査速度: 1°/分
[紫外可視吸収スペクトル(UV−Vis)]
サンプルをメノウ製の乳鉢でよく粉砕し、更にペレット化(7mmφ)することにより測定用サンプルを調製し、該測定用サンプルについて以下の装置、条件で紫外可視吸収スペクトルを測定した。
装置:拡散反射装置(HARRICK製 Praying Mantis)
付属品:紫外可視分光光度計(日本分光製 V−7100)
圧力:大気圧
測定値:反射率
データ取込時間:0.1秒
バンド幅:2nm
測定波長:200〜900nm
スリット高さ:半開
データ取込間隔:1nm
ベースライン補正(リファレンス):BaSO4ペレット(7mmφ)
サンプルをメノウ製の乳鉢でよく粉砕し、更にペレット化(7mmφ)することにより測定用サンプルを調製し、該測定用サンプルについて以下の装置、条件で紫外可視吸収スペクトルを測定した。
装置:拡散反射装置(HARRICK製 Praying Mantis)
付属品:紫外可視分光光度計(日本分光製 V−7100)
圧力:大気圧
測定値:反射率
データ取込時間:0.1秒
バンド幅:2nm
測定波長:200〜900nm
スリット高さ:半開
データ取込間隔:1nm
ベースライン補正(リファレンス):BaSO4ペレット(7mmφ)
(参考例1:MWW前駆体構造を有するチタノシリケートの調製)
室温(約25℃)、空気雰囲気下、オートクレーブにピペリジン899g、純水2402g、TBOT(テトラ−n−ブチルオルソチタネート)112g、ホウ酸565g、ヒュームドシリカ(cab−o−sil M7D)410gを撹拌することによりゲルを調製した。得られたゲルを1.5時間熟成させた後、密閉し、さらに撹拌しながら8時間かけて160℃まで昇温した後、同温度で120時間保持することにより、水熱合成を行った。
該水熱合成で得られた懸濁溶液をろ過した後、ろ液がpH10付近になるまで水洗した。次に、ろ塊を重量減少が見られなくなるまで50℃で乾燥し、515gの固体aを得た。得られた固体a75gに2M硝酸3750mLを加え、20時間リフラックスさせた。
次いで、得られた混合物をろ過し、中性付近まで水洗し、重量減少が見られなくなるまで150℃で真空乾燥して61gの白色粉末aを得た。この白色粉末aのX線回折パターン、紫外可視吸収スペクトルを測定した結果、Ti−MWW前駆体であること、すなわち酸素12員環の細孔を有することを確認した。
得られた白色粉末a60gを530℃で6時間焼成し、54gの粉末を得た。得られた粉末がTi−MWWであること、すなわち酸素12員環の細孔を有することはX線回折パターン、4配位Tiを持つチタノシリケートであることは紫外可視吸収スペクトルを測定することにより確認した。さらに、上記と同様の操作を2回実施し、合わせて162gのTi−MWWの粉末を得た。
室温、空気雰囲気下、得られたTi−MWW135gをオートクレーブに入れ、さらに、ピペリジン300g及び純水600gを仕込み、これらを撹拌することによりゲルを調製した。得られたゲルを1.5時間熟成させた後、密閉し、さらに撹拌しながら4時間かけて160℃まで昇温した後、同温度で24時間保持することで、水熱処理を行った。
このような水熱合成で得られた懸濁溶液をろ過した後、ろ液がpH9付近になるまで水洗した。ろ塊(固体b)を重量減少が見られなくなるまで150℃で真空乾燥し、141gの白色粉末bを得た。この白色粉末bのX線回折分析を行ったパターンを測定した結果、白色粉末a(Ti−MWW前駆体)と同様のX線回折パターンを示し、酸素12員環の細孔を有する構造であることが判明した。また、紫外可視吸収スペクトル測定結果からチタノシリケートであることが判明した(以下、このTi−MWW前駆体を、「Ti−MWW前駆体b」という)。また、ICP発光分析から求められたTi含量は1.61重量%であった。
なお、得られたTi−MWW前駆体bは、それぞれ、0.1重量%の過酸化水素を含む水/アセトニトリル=20/80(重量比)の混合溶媒80g中で1時間撹拌し、ろ過し、水80gで洗浄した後に、以下の実施例に供した。
室温(約25℃)、空気雰囲気下、オートクレーブにピペリジン899g、純水2402g、TBOT(テトラ−n−ブチルオルソチタネート)112g、ホウ酸565g、ヒュームドシリカ(cab−o−sil M7D)410gを撹拌することによりゲルを調製した。得られたゲルを1.5時間熟成させた後、密閉し、さらに撹拌しながら8時間かけて160℃まで昇温した後、同温度で120時間保持することにより、水熱合成を行った。
該水熱合成で得られた懸濁溶液をろ過した後、ろ液がpH10付近になるまで水洗した。次に、ろ塊を重量減少が見られなくなるまで50℃で乾燥し、515gの固体aを得た。得られた固体a75gに2M硝酸3750mLを加え、20時間リフラックスさせた。
次いで、得られた混合物をろ過し、中性付近まで水洗し、重量減少が見られなくなるまで150℃で真空乾燥して61gの白色粉末aを得た。この白色粉末aのX線回折パターン、紫外可視吸収スペクトルを測定した結果、Ti−MWW前駆体であること、すなわち酸素12員環の細孔を有することを確認した。
得られた白色粉末a60gを530℃で6時間焼成し、54gの粉末を得た。得られた粉末がTi−MWWであること、すなわち酸素12員環の細孔を有することはX線回折パターン、4配位Tiを持つチタノシリケートであることは紫外可視吸収スペクトルを測定することにより確認した。さらに、上記と同様の操作を2回実施し、合わせて162gのTi−MWWの粉末を得た。
室温、空気雰囲気下、得られたTi−MWW135gをオートクレーブに入れ、さらに、ピペリジン300g及び純水600gを仕込み、これらを撹拌することによりゲルを調製した。得られたゲルを1.5時間熟成させた後、密閉し、さらに撹拌しながら4時間かけて160℃まで昇温した後、同温度で24時間保持することで、水熱処理を行った。
このような水熱合成で得られた懸濁溶液をろ過した後、ろ液がpH9付近になるまで水洗した。ろ塊(固体b)を重量減少が見られなくなるまで150℃で真空乾燥し、141gの白色粉末bを得た。この白色粉末bのX線回折分析を行ったパターンを測定した結果、白色粉末a(Ti−MWW前駆体)と同様のX線回折パターンを示し、酸素12員環の細孔を有する構造であることが判明した。また、紫外可視吸収スペクトル測定結果からチタノシリケートであることが判明した(以下、このTi−MWW前駆体を、「Ti−MWW前駆体b」という)。また、ICP発光分析から求められたTi含量は1.61重量%であった。
なお、得られたTi−MWW前駆体bは、それぞれ、0.1重量%の過酸化水素を含む水/アセトニトリル=20/80(重量比)の混合溶媒80g中で1時間撹拌し、ろ過し、水80gで洗浄した後に、以下の実施例に供した。
(参考例2:貴金属担持触媒(Pd/AC触媒)の調製)
予め2Lの水にて洗浄した活性炭(和光純薬製)6gと、水300mLと、を1Lナスフラスコ中に仕込み、空気雰囲気下、室温にて撹拌した。攪拌後の懸濁液に、パラジウム(Pd)コロイド0.60mmolを含む水分散液100mLを、空気雰囲気下、室温にてゆっくり滴下した。滴下終了後、さらに懸濁液を空気雰囲気下、室温にて8時間撹拌した。攪拌終了後、ロータリーエバポレータを用いて水分を除去し、80℃にて6時間真空乾燥し、さらに窒素雰囲気下300℃で6時間焼成することで、活性炭に担持されたパラジウム触媒(Pd/AC触媒)を得た。また、ICP発光分析から求められたPd含量は0.95質量%であった。
予め2Lの水にて洗浄した活性炭(和光純薬製)6gと、水300mLと、を1Lナスフラスコ中に仕込み、空気雰囲気下、室温にて撹拌した。攪拌後の懸濁液に、パラジウム(Pd)コロイド0.60mmolを含む水分散液100mLを、空気雰囲気下、室温にてゆっくり滴下した。滴下終了後、さらに懸濁液を空気雰囲気下、室温にて8時間撹拌した。攪拌終了後、ロータリーエバポレータを用いて水分を除去し、80℃にて6時間真空乾燥し、さらに窒素雰囲気下300℃で6時間焼成することで、活性炭に担持されたパラジウム触媒(Pd/AC触媒)を得た。また、ICP発光分析から求められたPd含量は0.95質量%であった。
(実施例1)
A.第1本反応
容量0.3Lのオートクレーブを反応器として用い、当該反応器にチタノシリケート(Ti−MWW前駆体b)及びPd/AC触媒を仕込んだ後、密閉し、反応器中に、酸素/水素/窒素の体積比が3.3/3.6/93.1であるガスを281L/時間の供給速度で、0.7mmol/kgのアントラキノン、3.0mmol/kgのリン酸水素2アンモニウム塩を含む水/アセトニトリル=30/70(重量比)の溶液を90g/時間の供給速度で、プロピレンを36g/時間の供給速度で、それぞれ供給し、反応器からフィルターを介して反応生成物を含む溶液(液相)及び生成ガス(気相)を反応混合物から抜き出すという連続式反応(滞留時間:60分間)を行った。この間、反応器中の内容物の温度を50℃、反応器中圧力を4.0MPa(ゲージ圧)とした。反応中は、反応器内に供給された混合溶媒133gに対し、チタノシリケート(Ti−MWW前駆体b)の量が2.28g、Pd/AC触媒の量が1.05gとなるように、Ti−MWW前駆体b及びPd/AC触媒の使用量は調節した。この条件下、6時間反応を継続させた。
A.第1本反応
容量0.3Lのオートクレーブを反応器として用い、当該反応器にチタノシリケート(Ti−MWW前駆体b)及びPd/AC触媒を仕込んだ後、密閉し、反応器中に、酸素/水素/窒素の体積比が3.3/3.6/93.1であるガスを281L/時間の供給速度で、0.7mmol/kgのアントラキノン、3.0mmol/kgのリン酸水素2アンモニウム塩を含む水/アセトニトリル=30/70(重量比)の溶液を90g/時間の供給速度で、プロピレンを36g/時間の供給速度で、それぞれ供給し、反応器からフィルターを介して反応生成物を含む溶液(液相)及び生成ガス(気相)を反応混合物から抜き出すという連続式反応(滞留時間:60分間)を行った。この間、反応器中の内容物の温度を50℃、反応器中圧力を4.0MPa(ゲージ圧)とした。反応中は、反応器内に供給された混合溶媒133gに対し、チタノシリケート(Ti−MWW前駆体b)の量が2.28g、Pd/AC触媒の量が1.05gとなるように、Ti−MWW前駆体b及びPd/AC触媒の使用量は調節した。この条件下、6時間反応を継続させた。
B.第1接触工程
水素、酸素、溶液、及びプロピレンの供給を停止し、反応器中の内容物の温度を70℃、反応器中圧力を4.0MPa(ゲージ圧)に調整しながら、窒素ガスを240L/時間、メタノールを347g/時間の供給速度でそれぞれ供給しながら、90分間の第1接触工程を行った。
水素、酸素、溶液、及びプロピレンの供給を停止し、反応器中の内容物の温度を70℃、反応器中圧力を4.0MPa(ゲージ圧)に調整しながら、窒素ガスを240L/時間、メタノールを347g/時間の供給速度でそれぞれ供給しながら、90分間の第1接触工程を行った。
C.第2本反応
Bの第1接触工程を経た触媒を含む反応器に、酸素/水素/窒素の体積比が3.3/3.6/93.1であるガスを281L/時間の供給速度で、0.7mmol/kgのアントラキノン、3.0mmol/kgのリン酸水素2アンモニウム塩を含む水/アセトニトリル=30/70(重量比)の溶液を90g/時間の供給速度で、プロピレンを36g/時間の供給速度で、それぞれ供給し、反応器からフィルターを介して反応生成物を含む溶液(液相)及び生成ガス(気相)を反応混合物から抜き出すという連続式反応(滞留時間:60分間)を行った。この間、反応器中の内容物の温度を50℃、反応器中圧力を4.0MPa(ゲージ圧)とした。この条件の下、6時間反応を継続させた。6時間後には触媒中にはアルコールは認められなかった。
Bの第1接触工程を経た触媒を含む反応器に、酸素/水素/窒素の体積比が3.3/3.6/93.1であるガスを281L/時間の供給速度で、0.7mmol/kgのアントラキノン、3.0mmol/kgのリン酸水素2アンモニウム塩を含む水/アセトニトリル=30/70(重量比)の溶液を90g/時間の供給速度で、プロピレンを36g/時間の供給速度で、それぞれ供給し、反応器からフィルターを介して反応生成物を含む溶液(液相)及び生成ガス(気相)を反応混合物から抜き出すという連続式反応(滞留時間:60分間)を行った。この間、反応器中の内容物の温度を50℃、反応器中圧力を4.0MPa(ゲージ圧)とした。この条件の下、6時間反応を継続させた。6時間後には触媒中にはアルコールは認められなかった。
上記B及びCの工程と同様の操作を交互にさらに3回繰り返(本反応における反応時間の総和が30時間経過)した時点での反応器に含まれる液相及び気相を、ガスクロマトグラフィーを用いて分析した結果、チタノシリケート単位重量あたりのプロピレンオキサイド生成活性は56.1mmol−PO/g−チタノシリケート・時間(ここに示す「PO」はプロピレンオキサイドを意味する。)、水素基準選択率(生成したプロピレンオキサイドモル量/消費した水素モル量)は75%であった。
(比較例1)
実施例1の実験において、A(第1本反応)のみを27時間行う以外は、実施例1のAと同様に行った。A(第1本反応)を27時間行った時点での反応器に含まれる液相及び気相を、ガスクロマトグラフィーを用いて分析した結果、チタノシリケート単位重量あたりのプロピレンオキサイド生成活性は38.8mmol−PO/g−チタノシリケート・時間、水素基準選択率は39%であった。
実施例1の実験において、A(第1本反応)のみを27時間行う以外は、実施例1のAと同様に行った。A(第1本反応)を27時間行った時点での反応器に含まれる液相及び気相を、ガスクロマトグラフィーを用いて分析した結果、チタノシリケート単位重量あたりのプロピレンオキサイド生成活性は38.8mmol−PO/g−チタノシリケート・時間、水素基準選択率は39%であった。
本発明によれば、プロピレン等のオレフィンと水素と酸素とを長時間、連続的に供給するようなアルキレンオキサイドの製造方法においても、反応に供した結果劣化した触媒が有する触媒能力を回復させることにより、アルキレンオキサイドの生成量が低くなることなく、アルキレンオキサイドを効率的に製造可能となる。
Claims (15)
- 触媒の調製方法であり、チタノシリケートと貴金属とを含む触媒と、炭素数1〜12のアルコールとを接触させる工程を含むことを特徴とする方法。
- 前記触媒が、反応に供される前に有する当該反応における触媒能力よりも低い当該反応における触媒能力を有する触媒であることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記接触の系内には、前記反応に供する原料のうち少なくとも一種を実質的に含まないことを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記接触工程が、前記触媒と前記アルコールとを25〜250℃の温度範囲内で接触させる工程であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか記載の方法。
- 前記接触工程が、前記触媒と前記アルコールとを、0.5〜120時間の範囲内で接触させる工程であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか記載の方法。
- 前記接触工程後、分離操作により得られる固形物に含まれる前記炭素数1〜12のアルコールをニトリル化合物に置換することにより、前記固形物に含まれる前記炭素数1〜12のアルコールの含有量を、前記触媒100重量部に対して10重量部以下にする工程を追加的に有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか記載の方法。
- 前記反応が、チタノシリケートと貴金属とを含む触媒及びニトリル化合物の存在下、水素、酸素及びオレフィンを反応させてアルキレンオキサイドを得るための反応であることを特徴とする請求項2乃至3記載の方法。
- 前記反応が、チタノシリケートと貴金属とを含む触媒及びニトリル化合物の存在下、水素、酸素及びオレフィンを連続的に供給してアルキレンオキサイドを連続的に得るための反応であることを特徴とする請求項2乃至3記載の方法。
- 請求項1乃至8のいずれか記載の方法により調製された触媒とニトリル化合物の存在下、水素、酸素及びオレフィンを反応させることを特徴とするアルキレンオキサイドの製造方法。
- 請求項1乃至8のいずれか記載の方法により調製された触媒とニトリル化合物の存在下、水素、酸素及びオレフィンを連続的に供給しながら反応させることを特徴とするアルキレンオキサイドの製造方法。
- 前記チタノシリケートが、酸素12員環以上の細孔を有する層状チタノシリケートであることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか記載の方法。
- 前記チタノシリケートが、Ti−MWW前駆体であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか記載の方法。
- 前記貴金属が、パラジウム、白金、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、オスミウム及び金からなる群から選ばれる少なくとも1種の貴金属であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか記載の方法。
- 前記触媒が、チタノシリケートと、担体に担持された貴金属とを含む触媒であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか記載の方法。
- 前記反応が、1〜12時間行われることを特徴とする請求項9乃至10記載のアルキレンオキサイドの製造方法。
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