JP2012079386A - 半導体装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】より安定した読み出し動作を実現する。
【解決手段】それぞれが双方向にデータを転送可能とするビット線、ローカル入出力線、メイン入出力線と、ビット線とローカル入出力線との間の接続を制御するビット線・LIO接続部50と、ローカル入出力線とメイン入出力線との間の接続を制御するMIO・LIO接続部30と、メイン入出力線と外部との間の接続を制御するMIO・バス接続部40と、を備え、メイン入出力線が、一つの信号を相補の信号対で転送するデータ線対(MIOT、MION)からなり、MIO・LIO接続部30は、リードモード時において、メイン入出力線の一方のみを駆動すると共にメイン入出力線の他方を交流的に接地し、MIO・バス接続部40は、データ転送モード時において、MIO・LIO接続部30によってデータ線対の一方に転送されたデータ情報を受け外部データ情報として出力する。
【選択図】図4

Description

本発明は半導体装置に関し、特に、階層データ線間のスイッチ制御機能を備えた半導体装置に関する。
DRAM(Dynamic Random Access Memory)等の半導体装置におけるメモリアレイ内での入出力データ転送方式として階層化データ線方式(「階層化IO方式」ともいう)が用いられている。階層化データ線方式は、例えば、ビット線等の第1のデータ線と、第1のデータ線に接続する第2のデータ線(例えばローカル入出力線(LIO))と、第2のデータ線に接続する第3のデータ線(メイン入出力線(MIO線))を備えている。ローカル入出力線(LIO線)には複数のビット線がカラムスイッチを介して接続され、メイン入出力線(MIO線)には複数のローカル入出力線(LIO線)がスイッチを介して接続される。
図1は、一般的なDRAMの構成を示すブロック図である。なお、図1には、(ビット線(BL)、ローカル入出力線(LIO)、メイン入出力線(MIO)からなる階層化データ線構造の一例も模式的に示されている。図1を参照すると、このDRAM装置は、メモリアレイ1、Xデコーダ及びXタイミング生成回路2、Yデコーダ及びYタイミング生成回路3、デコーダ制御回路4、データラッチ回路5、入出力インターフェース6、内部クロック(CLK)生成回路7、制御信号生成回路8、DLL(Delay Locked Loop:遅延同期ループ)9を備えている。メモリアレイ1はバンク0〜バンクmを備え、各バンクは、メモリマット列1、2、3を備えている。なお、バンク構成、バンク内のメモリマット構成等はかかる構成に制限されるものでないことは勿論である。制御信号生成回路8は、コマンド信号(/CS(チップセレクト)、/RAS(ロウアドレスストローブ)、/CAS(カラムアドレスストローブ)、/WE(ライトイネーブル))を入力し、該コマンドをデコードするコマンドデコーダ(不図示)を有し、コマンドのデコード結果にしたがって制御信号を生成し、Xデコーダ及びXタイミング生成回路2、Yデコーダ及びYタイミング生成回路3、デコーダ制御回路4等に出力する。なお、信号名の前の記号「/」は、Lowレベルのとき活性状態であることを示す。
入力したアドレス信号(ADD)のロウアドレスがXデコーダ2でデコードされ、不図示のメインワードドライバによりメインワード線(不図示)が活性化され、該活性化されたメインワード線に接続するサブワードドライバ(SWD)によりサブワード線(SWL)が選択される。サブワード線(SWL)がHighレベルとなると、サブワード線(SWL)に接続されたメモリセル(MC)からビット線(BL)に保持データが読み出され、センスアンプで増幅される。なお、アドレス(ADD)のカラムアドレスはYデコーダ(カラムデコーダ)3でデコードされ、選択されたカラム選択信号がアクティブとされ、ビット線(BL)をローカル入出力線(LIO)に接続する。選択されたビット線(BL)のデータはセンスアンプで増幅され、カラムスイッチを介してローカル入出力線(LIO)に転送され、メイン入出力線(MIO)とローカル入出力線(LIO)との交差部のスイッチ10(サブアンプ)を介してメイン入出力線(MIO)に転送され、データラッチ回路5、入出力インターフェース6に転送され、DQピン(DQ端子)より、外部に出力される。DQピンは複数ピンであり、所謂複数のI/O端子である。なお、複数のMIO線に読み出された読み出しデータはパラレルシリアル変換され、DQ端子からシリアルに出力される。
データストローブ信号DQS、/DQSは外部からデータを入力する際に、データをラッチするためのトリガ信号となる。データマスク信号DMは、例えば、データをマスクするための制御信号である。データを入力するのと同時に、データマスク信号DMをHighとすると、当該データのメモリセルへの書き込みはマスク(インヒビット)され、書き込みは行われない。データマスク信号DMは、半導体装置の外部端子であり、複数のデータマスク信号DMの端子で構成される。それぞれのデータマスク信号DMは、対応する複数のDQ端子で構成される複数のグループのうちのいずれかのグループに対応付けられる。
メモリセルにデータを書き込む場合、データマスク信号DMをLowとして、DQピンからデータを入力し、入出力インターフェース6からデータラッチ回路5に転送される。なお、DQ端子からシリアルに入力された複数のビットデータ(書き込みデータ)は、シリアルパラレル変換され、各ビットデータは、MIO線、交差部のスイッチ10、LIO線、選択されたビット線(BL)のカラムスイッチを介して、当該ビット線(BL)のセンスアンプに書き込みデータが転送される。センスアンプは、ビット線(BL)を書き込みデータに即して駆動し、当該ビット線(BL)に接続され、選択されたワード線に接続するメモリセルにデータを書き込む。
図2は、センスアンプの典型的な構成の一例を示す図である。図2には、シェアード型のセンスアンプ回路(SA)のビット線系の一部が示されている。ワード線はサブワードドライバ回路14により駆動される。メモリセルは、ゲート電極がワード線に接続され、ドレイン又はソースが、ビット線(BLT)に接続されたnMOSトランジスタと、一端がnMOSトランジスタのソース又はドレインに接続され、他端が電源(プレート電極)に接続された容量Csを備えている。特に制限されないが、図2のビット線構造において、サブワード線SWLに接続されたメモリセルMCは、ビット線BLTに接続されており、図示されない隣のサブワード線に接続するメモリセルは、ビット線BLNに接続される折り返し型ビット線とされる。ビット線対(BLT/BLN)間に接続されるセンスアンプ(SA回路)は、ソースがPCS線に共通接続され、ゲートとドレインが交差接続されたpMOSトランジスタ対と、ソースがNCS線に共通接続され、ゲートとドライバが交差接続されたnMOSトランジスタ対を備え、pMOSトランジスタ対のドレインとnMOSトランジスタ対のドレインがそれぞれ接続される。
図2において、図の上側に示すメモリマット0(11)のビット線対(BLT/BLN)と、下側に示すメモリマット1(13)のビット線対(BLT/BLN)とが、その間に配置されたセンスアンプ(SA)12を共有する構成とされている。センスアンプ回路(SA回路)と、メモリマット0(11)側のビット線対との間には、制御信号SHRB0で導通、非導通が制御されるパストランジスタ(nMOSトランジスタ)が設けられ、センスアンプ(SA)と、メモリマット1(13)側のビット線対との間には、制御信号SHRB1で導通・非導通が制御されるパストランジスタ(nMOSトランジスタ)が設けられている。尚、導通、非導通は電気的な作用を示し、以後の説明において同様とする。
メモリマット0(11)側のビット線対BLT/BLNには、制御信号BLEQT0にゲートが接続されて導通、非導通が制御される3つのnMOSトランジスタを備え、導通時、ビット線対BLT/BLNをプリチャージ電源からプリチャージするとともに、メモリマット0(11)のビット線対BLT/BLNをイコライズする回路が配設されている。尚、プリチャージとは、該動作が終了して次回の動作に初期化することを示し、以後の説明において同じとする。イコライズとは、2つの信号を同一の電位(等電位)に制御することを示し、以後の説明において同じとする。
同様に、メモリマット1(13)側のビット線対BLT/BLNには、制御信号BLEQT1にゲートが接続されて導通、非導通が制御される3つのnMOSトランジスタを備え、導通時、ビット線対BLT/BLNをプリチャージ電源からプリチャージするとともに、メモリマット1(13)のビット線対BLT/BLNをイコライズする回路が配設されている。さらに、センスアンプ(SA回路)とビット線対の接続ノードは、カラム選択信号CSLのHigh/Lowで導通/非導通が制御されるカラムスイッチを介して、入出力線対(I/O)に接続される。入出力線対(I/O)は、図1のLIOに対応し、メモリマット0、1にそれぞれ対応して各1対が設けられる。
メモリアレイ電源のVARY電源線とPCS間には、制御信号RSAEP1Tをゲートに入力するpMOSトランジスタ18を備え、VSSSA電源線とNCS間には、制御信号RSAENTをゲートに入力するnMOSトランジスタ20を備え、PCSとNCSの間には、制御信号EQCSがHighレベルのとき導通(オン)し、PCSとNCSをプリチャージするプリチャージ回路と、PCSとNCSをイコライズするイコライズ回路19を備えている。
図3は、図1のメモリアレイ1内の階層化データ線構造(階層IO方式)の構成を模式的に示す図である。図3において、RWBUSはチップ内データ転送を行うための幹配線である。バスドライバ<k>301は、RWBUSに接続するk番目のバスドライバ回路である。バスドライバ回路<k>301の入力には、MIO線(相補のMIOT、MION)のデータを増幅するためのメインデータアンプ回路(MA)<k>302の出力が接続されている。
メインデータアンプ回路(MA)<k>302の入力は、アレイ内のk番目のMIO線対であるMIOT<k>とMION<k>に差動で接続され、出力はドライバ(BUSD)<k>301に接続する。ライトアンプ(WA)<k>305は、レシーバ<k>306を介してRWBUSからの書き込みデータを入力し、MIOT<k>、MION<k>を駆動する。書き込み時、ライトアンプ(WA)<k>305はレシーバ<k>306からの出力を受け、差動信号をMIO線対MIOT<k>、MION<k>に出力する。読み出し時、メインデータアンプ回路<k>302は、MIO線対MIOT<k>、MION<k>の信号を差動で受け、CMOSレベルに変換してバスドライバ(BUSD)<k>301に出力する。読み出し時、ライトアンプ(WA)<k>305は非活性状態とされ、その出力はハイインピーダンス状態とされる。
MIO線対(MIOT<k>、MION<k>)には、m+1個のSWC回路303(SWC<0>〜SWC<m>))が接続されている。SWC回路は、図1におけるMIO線対とLIO線対の交差部のスイッチ10に対応する。図1の例では、各MIO線対には、メモリマット列1、2、3に対応して、SWC<0>、SWC<1>、SWC<2>が設けられる。SWC<0>は、LIO線対LIOT<0>、LION<0>と接続される。SWC<1>は、LIO線対LIOT<1>、LION<1>と接続される。同様にして、SWC<m>は、LIO線対LIOT<m>、LION<m>と接続される。SWC<0>〜SWC<m>のうち、選択されたメモリマットのビット線に接続されたセンスアンプ列SA<0>、SA<1>、・・・SA<n>に接続されるLIO線対に対応したSWC回路が選択され、それ以外は非選択となる構成とされている。
特に制限されないが、SWC<i>(ただし、i=0〜mの整数)は、データ書き込み時、MIO線対(MIOT<i>、MION<i>)上の書き込みデータを、不図示のトランスファゲート(「パストランジスタ」ともいう)を介して、LIO線対(LIOT<i>、LION<i>)に転送し、データ読み出し時、選択されたビット線のセンスアンプより、LIO線対(LIOT<i>、LION<i>)に転送された読み出しデータを、不図示のサブアンプ(リードアンプ)で受け、MIO線対(MIOT<i>、MION<i>)に駆動出力する。LIO線対は、n+1本のカラム選択信号CSL<0>〜CSL<n>により、n+1個のセンスアンプSA<0>〜SA<n>との接続が制御され、選択された1つのセンスアンプSAがLIO線対に接続される。
上記した階層データ線構造の半導体記憶装置として、例えば特許文献1には、階層バスにおいて、セグメントデータ線対とグローバルデータ線対との間にリード用のアンプを備え、他方でライト用のトランスファゲートを備えた構成が開示されている。トランスファゲートは、ライト時にのみ電気的に導通に制御される。
特開平07−334985号公報
特許文献1の図9等の関連技術等の構成において、階層化データ線構造をなすMIO線とLIO線の交差部(図1の10参照、あるいは、特許文献1の図14のSIOとGIOの交差部参照)は、サブアレイの間に点在する。
ところで、近年、半導体装置の大規模化に伴い、より一層の高集積化が求められている。このような高集積化の要求に対応するために、チップの面積が大きくなって配線長が長くなると共に、隣接配線間の距離がより狭くなる傾向にある。特にMIO線は、多数の交差部を図1の縦方向に貫くように配線されるため、配線長が長い。このような構造においては、隣接配線からのノイズ信号を軽減し、より安定した読み出し動作が求められる。
本発明の1つのアスペクト(側面)に係る半導体装置は、それぞれが双方向にデータを転送可能とする第1乃至第3のデータ線と、第1のデータ線と第2のデータ線との間の接続を制御する第1の接続部と、第2のデータ線と第3のデータ線との間の接続を制御する第2の接続部と、第3のデータ線と外部との間の接続を制御する第3の接続部と、を備え、第2のデータ線が、一つの信号を相補の信号対で転送する第2のデータ線対からなり、第3のデータ線が、一つの信号を相補の信号対で転送する第3のデータ線対からなり、第2の接続部は、第1のデータ線から第3のデータ線へのデータ転送モード時において、第3のデータ線対の一方のみを駆動すると共に第3のデータ線対の他方を交流的に接地し、第3の接続部は、データ転送モード時において、第2の接続部によって第3のデータ線対の一方に転送されたデータ情報を受け外部データ情報として出力する。
本発明によれば、第1のデータ線から第3のデータ線へのデータ転送モード時において、第3のデータ線対の他方を交流的に接地するので、隣接配線に対しシールドとして機能する。したがって、隣接配線からのノイズ信号を軽減し、より安定した読み出し動作が実現される。
DRAM装置の一般的な構成を示す図である。 ビット線系とセンスアンプの一般的な構成を示す図である。 階層方式の入出力線の一般的な構成を示す図である。 本発明の一実施例に係る半導体装置の主要部を示す図である。 本発明の一実施例に係るMIO・LIO接続部の回路図である。 本発明の一実施例に係るMIO・バス接続部の回路図である。 本発明の一実施例に係る半導体装置におけるライトサイクルおよびリードサイクルのタイミングチャートである。
以下、本発明を実施するための形態について、概説する。なお、以下の概説に付記した図面参照符号は、専ら理解を助けるための例示であり、図示の態様に限定することを意図するものではない。本発明の一実施形態に係る半導体装置は、それぞれが双方向にデータを転送可能とする第1乃至第3のデータ線と、第1のデータ線と第2のデータ線との間の接続を制御する第1の接続部(図4の50に対応)と、第2のデータ線と第3のデータ線との間の接続を制御する第2の接続部(図4の30に対応)と、第3のデータ線と外部との間の接続を制御する第3の接続部(図4の40に対応)と、を備え、第2のデータ線が、一つの信号を相補の信号対で転送する第2のデータ線対からなり、第3のデータ線が、一つの信号を相補の信号対で転送する第3のデータ線対からなり、第2の接続部は、第1のデータ線から第3のデータ線へのデータ転送モード時において、第3のデータ線対の一方のみを駆動すると共に第3のデータ線対の他方を交流的に接地し、第3の接続部は、データ転送モード時において、第2の接続部によって第3のデータ線対の一方に転送されたデータ情報を受け外部データ情報として出力する。
半導体装置において、第1の接続部は、第1のデータ線に接続され、第1のデータ線上のデータ情報を増幅して保持する第1のアンプ(図4のSAに対応)と、第1のデータ線と第2のデータ線との間を開閉する第1のスイッチ(図4のSWに対応)と、を備え、第2の接続部は、第2のデータ線に接続され、第2のデータ線上のデータ情報に応じて第3のデータ線対の一方を駆動する第2のアンプ(図5の31、32に対応)と、第2のデータ線と第3のデータ線との間を開閉する第2のスイッチ(図5の33に対応)と、を備え、第3の接続部は、第3のデータ線に接続され、外部から入力された外部データ情報に対応して第3のデータ線を駆動する第3のアンプ(図6の42に対応)と、第3のデータ線対の一方に接続され、第2のアンプから第3のデータ線対の一方に転送されたデータ情報を受け外部データ情報として出力する第4のアンプ(図6の41に対応)と、を備えるようにしてもよい。
半導体装置において、第2の接続部は、データ転送モード時において第3のデータ線対の他方と所定の電圧源とを短絡可能とするスイッチ素子(図5のMP12に対応)を備えるようにしてもよい。
半導体装置において、第2のアンプは、第2のデータ線対における相補の信号対を増幅して保持する増幅部(図5の32に対応)と、増幅部で保持される信号に基づいて第3のデータ線対の一方のみを駆動するドライバ部(図5の31に対応)と、を備え、データ転送モード時において、増幅部およびドライバ部は活性化され、第2のスイッチが開放されるようにしてもよい。
半導体装置において、ドライバ部は、データ転送モード時において通電されるCMOSインバータ回路(図5のMP11、MN11に対応)から構成されるようにしてもよい。
半導体装置において、増幅部は、データ転送モード時においてオンとされるスイッチ対(図5のMP15、MP16に対応)を介してそれぞれ第2のデータ線対に接続されるようにしてもよい。
半導体装置において、増幅部は、データ転送モード時において通電されるCMOSインバータ回路対(図5のMN12、MP13、MN13、MP14に対応)から構成され、該CMOSインバータ回路対は、互いの入出力端子を接続し、該CMOSインバータ回路対のそれぞれの入力端子がスイッチ対を介してそれぞれ第2のデータ線対に接続されるようにしてもよい。
半導体装置において、第2の接続部は、第2のデータ線対間に接続されてプリチャージ信号に基づいて第2のデータ線対を所定の電圧にプリチャージしイコライズする回路(図5のMP17、MP18、MP19に対応)を備えるようにしてもよい。
半導体装置において、第3の接続部は、第3のデータ線対間に接続されてプリチャージ信号に基づいて第3のデータ線対を所定の電圧にプリチャージしイコライズする回路(図6のMP23、MP24、MP25に対応)を備えるようにしてもよい。
半導体装置において、第1のデータ線は、メモリセルを接続して、一つの信号を相補の信号対で双方向に転送する第1のデータ線対からなり、データ転送モードは、メモリセルからのデータを読み出すリードモードであって、リードモード時において、第1のアンプは、メモリセルの情報に対応して第1のデータ線対を駆動し、第1のデータ線対上のデータ情報は、第1のスイッチと第2のデータ線と第2のアンプとを介して第3のデータ線対の一方へ転送され、第4のアンプは、第3のデータ線対の一方上におけるデータ情報を外部に出力するようにしてもよい。
以下、実施例に即し、図面を参照して詳しく説明する。
図4は、本発明の一実施例に係る半導体装置の主要部を示す図である。図4において、半導体装置の主要部の基本構成は、先に説明した図3などと同様な構成を有する。ビット線・LIO接続部50は、センスアンプSA、スイッチ対SWを含み、メモリセルが接続されるビット線対とローカル入出力線LIOT、LIONとの間の接続、信号の増幅を制御する従来から良く知られた回路であり、詳細の説明を省略する。また、MIO・LIO接続部(Read AMP & MIO/LIO SW)30は、図3におけるSWC回路303に対応し、ローカル入出力線LIOT、LIONとメイン入出力線MIOT、MION間の接続、信号の増幅を制御する。さらに、MIO・バス接続部(MIO/RWBS Drv. & Write Amp)40は、図3におけるバスドライバ301、メインデータアンプ302、ライトアンプ305、レシーバ306に対応し、メイン入出力線MIOT、MIONとリードライトバス線RWBST間の信号の増幅を制御する。
始めに、MIO・LIO接続部30の詳細について説明する。図5は、本発明の一実施例に係るMIO・LIO接続部の回路図である。MIO・LIO接続部30は、インバータ回路INV10、INV11、NMOSトランジスタMN10〜MN18、PMOSトランジスタMP10〜MP19を備える。
NMOSトランジスタMN10、MN11、PMOSトランジスタMP10、MP11、インバータ回路INV10は、MIOドライバ31を構成する。NMOSトランジスタMN10は、ドレインをNMOSトランジスタMN11のソースに接続し、ソースを低電位側の電源VSSに接続し、ゲートにデータ出力許可信号DAEを与える。NMOSトランジスタMN11は、ドレインをメイン入出力線MIOTに接続し、ゲートをノードN1に接続する。PMOSトランジスタMP11は、ドレインをメイン入出力線MIOTに接続し、ゲートをノードN1に接続し、ソースをPMOSトランジスタMP10のドレインに接続する。PMOSトランジスタMP10は、ソースを高電位側の電源VDDに接続し、ゲートにインバータ回路INV10を介してデータ出力許可信号DAEを与える。
このような構成のMIOドライバ31は、データ出力許可信号DAEがHレベルの場合にNMOSトランジスタMN10、PMOSトランジスタMP10がオンとなって活性化される。したがって、NMOSトランジスタMN11、PMOSトランジスタMP11で構成されるCMOSインバータ回路は、ノードN1の信号を反転してメイン入出力線MIOTを駆動する。
NMOSトランジスタMN12、MN13、MN14、PMOSトランジスタMP13、MP14は、リードアンプ32を構成する。NMOSトランジスタMN12は、ソースをNMOSトランジスタMN14を介して電源VSSに接続し、ゲートをノードN2に接続し、ドレインをノードN1に接続する。NMOSトランジスタMN14は、ゲートにデータ出力許可信号DAEを与える。NMOSトランジスタMN13は、ソースをNMOSトランジスタMN14を介して電源VSSに接続し、ゲートをノードN1に接続し、ドレインをノードN2に接続する。PMOSトランジスタMP13は、ソースを電源VDDに接続し、ゲートをノードN2に接続し、ドレインをノードN1に接続する。PMOSトランジスタMP14は、ソースを電源VDDに接続し、ゲートをノードN1に接続し、ドレインをノードN2に接続する。
このような構成のリードアンプ32は、データ出力許可信号DAEがHレベルの場合にNMOSトランジスタMN14がオンとなって活性化される。NMOSトランジスタMN12、PMOSトランジスタMP13は、CMOSインバータ回路を構成し、NMOSトランジスタMN13、PMOSトランジスタMP14は、CMOSインバータ回路を構成する。これら2つのCMOSインバータ回路は、互いの入出力端子を接続し、ラッチ回路を構成する。ラッチ回路は、データ出力許可信号DAEがHレベルの場合に活性化されてノードN1、N2間の差信号を増幅し、保持する。
PMOSトランジスタMP12は、ドレインをメイン入出力線MIONに接続し、ソースを電源VDDに接続し、ゲートにインバータ回路INV11を介してデータ出力許可信号DAEを与える。PMOSトランジスタMP12は、データ出力許可信号DAEがHレベルの場合にオンとされ、メイン入出力線MIONを電源VDDと短絡するスイッチ素子として機能する。
PMOSトランジスタMP15は、ノードN1とローカル入出力線LION間に接続され、ゲートにデータ出力許可信号DAEを与える。PMOSトランジスタMP16は、ノードN2とローカル入出力線LIOT間に接続され、ゲートにデータ出力許可信号DAEを与える。PMOSトランジスタMP15、MP16は、データ出力許可信号DAEがHレベルの場合にオンとされ、それぞれノードN1とローカル入出力線LION間、ノードN2とローカル入出力線LIOT間を短絡する。
以上のような構成のMIO・LIO接続部30に関し、半導体装置のリードモードを表すデータ出力許可信号DAEがHレベルである場合、メイン入出力線MIOTは、MIOドライバ31によって駆動され出力信号線として機能し、メイン入出力線MIONは、電源VDDと短絡され隣接配線に対するシールド線として機能する。
NMOSトランジスタMN15は、メイン入出力線MIOTとローカル入出力線LIOT間に接続され、ゲートにライト許可信号WSWを与える。NMOSトランジスタMN16は、メイン入出力線MIONとローカル入出力線LION間に接続され、ゲートにライト許可信号WSWを与える。NMOSトランジスタMN15、MN16は、ライトスイッチ回路33を構成し、ライト許可信号WSWがHレベルの場合にオンとされ、それぞれメイン入出力線MIOTとローカル入出力線LIOT、メイン入出力線MIONとローカル入出力線LION間を短絡する。
PMOSトランジスタMP17は、ソースを電源VDDに接続し、ドレインをローカル入出力線LIONに接続し、ゲートにプリチャージ信号PLIOBを与える。PMOSトランジスタMP18は、ソースを電源VDDに接続し、ドレインをローカル入出力線LIOTに接続し、ゲートにプリチャージ信号PLIOBを与える。PMOSトランジスタMP19は、ローカル入出力線LION、LIOT間に接続し、ゲートにプリチャージ信号PLIOBを与える。PMOSトランジスタMP17〜MP19は、プリチャージ信号PLIOBがLレベルの場合にオンとされ、ローカル入出力線LION、LIOTを電源VDDの電位にプリチャージする。
NMOSトランジスタMN17は、ソースを電圧源HVCCに接続し、ドレインをローカル入出力線LIONに接続し、ゲートにプリチャージ信号PLIOT2を与える。NMOSトランジスタMN18は、ソースを電圧源HVCCに接続し、ドレインをローカル入出力線LIOTに接続し、ゲートにプリチャージ信号PLIOT2を与える。NMOSトランジスタMN17、MN18は、プリチャージ信号PLIOT2がHレベルの場合にオンとされ、ローカル入出力線LION、LIOTを電圧源HVCCの電位にプリチャージする。
次に、MIO・バス接続部40の詳細について説明する。図6は、本発明の一実施例に係るMIO・バス接続部の回路図である。MIO・バス接続部40は、インバータ回路INV20〜INV23、NAND回路NAND1〜NAND3、NOR回路NOR1、NMOSトランジスタMN20〜MN22、PMOSトランジスタMP20〜MP25を備える。
NMOSトランジスタMN20、PMOSトランジスタMP20、NAND回路NAND1、NOR回路NOR1、インバータ回路INV20は、リードライトバスドライバ41を構成する。NOR回路NOR1は、一方の入力端にリードスイッチ信号RSWをインバータ回路INV20を介して入力し、他方の入力端をメイン入出力線MIOTに接続し、出力端をNMOSトランジスタMN20のゲートに接続する。NMOSトランジスタMN20は、ソースを電源VSSに接続し、ドレインをリードライトバス線RWBSTに接続する。NAND回路NAND1は、一方の入力端にリードスイッチ信号RSWを入力し、他方の入力端をメイン入出力線MIOTに接続し、出力端をPMOSトランジスタMP20のゲートに接続する。PMOSトランジスタMP20は、ソースを電源VDDに接続し、ドレインをリードライトバス線RWBSTに接続する。
このような構成のリードライトバスドライバ41は、半導体装置のリードモードを表すリードスイッチ信号RSWがHレベルである場合に活性化され、NMOSトランジスタMN20、PMOSトランジスタMP20は、メイン入出力線MIOTの信号をバッファリングしてリードライトバス線RWBSTを駆動する。すなわち、リードデータに対応する信号は、メイン入出力線MIOTの信号としてのみ現れ、これをリードライトバス線RWBSTに出力する。
NMOSトランジスタMN21、MN22、PMOSトランジスタMP21、MP22、NAND回路NAND2、NAND3、インバータ回路INV21〜INV23は、ライトアンプ42を構成する。NAND回路NAND2は、一方の入力端をリードライトバス線RWBSTに接続し、他方の入力端にライト許可信号WAEを入力し、出力端をPMOSトランジスタMP21のゲートに接続すると共にインバータ回路INV23を介してNMOSトランジスタMN22のゲートに接続する。NAND回路NAND3は、一方の入力端をインバータ回路INV21を介してリードライトバス線RWBSTに接続し、他方の入力端にライト許可信号WAEを入力し、出力端をPMOSトランジスタMP22のゲートに接続すると共にインバータ回路INV22を介してNMOSトランジスタMN21のゲートに接続する。PMOSトランジスタMP21は、ソースを電源VDDに接続し、ドレインをメイン入出力線MIOTに接続する。NMOSトランジスタMN21は、ソースを電源VSSに接続し、ドレインをメイン入出力線MIOTに接続する。PMOSトランジスタMP22は、ソースを電源VDDに接続し、ドレインをメイン入出力線MIONに接続する。NMOSトランジスタMN22は、ソースを電源VSSに接続し、ドレインをメイン入出力線MIONに接続する。
このような構成のライトアンプ42は、ライト許可信号WAEがHレベルの場合に活性化されてリードライトバス線RWBSTの信号をバッファリングしてメイン入出力線MIOT、MIONを駆動する。NMOSトランジスタMN21、PMOSトランジスタMP21は、リードライトバス線RWBSTの信号をバッファリングしてメイン入出力線MIOTを駆動する。また、NMOSトランジスタMN22、PMOSトランジスタMP22は、リードライトバス線RWBSTの信号を論理反転してバッファリングしてメイン入出力線MIONを駆動する。
PMOSトランジスタMP23は、ソースを電源VDDに接続し、ドレインをメイン入出力線MIONに接続し、ゲートにプリチャージ信号PMIOBを与える。PMOSトランジスタMP24は、ソースを電源VDDに接続し、ドレインをメイン入出力線MIOTに接続し、ゲートにプリチャージ信号PMIOBを与える。PMOSトランジスタMP25は、メイン入出力線MION、MIOT間に接続し、ゲートにプリチャージ信号PMIOBを与える。PMOSトランジスタMP23〜MP25は、プリチャージ信号PMIOBがLレベルの場合にオンとされ、メイン入出力線MION、MIOTを電源VDDの電位にプリチャージする。
次に、以上のような構成の半導体装置の動作について説明する。図7は、本発明の一実施例に係る半導体装置におけるライトサイクルおよびリードサイクルのタイミングチャートである。ここで電源VDDの電位をHレベル、電源VSSの電位をLレベルとする。なお、プリチャージ信号PLIOT2はLレベルに固定されているものとする。
<ライトサイクル>
初期状態(期間T1の左端)において、信号WSW、WAEがLレベルとされ、ライトスイッチ回路33がオフ状態であって、ライトアンプ回路42が非活性状態とされる。この時、プリチャージ信号PLIOB、PMIOBがLレベルとされ、ローカル入出力線LION、LIOT、メイン入出力線MION、MIOTがHレベルにプリチャージされた状態にある。また、信号DAE、RSWがLレベルであって、MIOドライバ31、リードアンプ32、リードライトバスドライバ41が非活性状態にある。
期間T1において、所望のセルに書き込み可能状態となるようにセル選択信号CSLをLレベルからHレベルに変化させる。同時に信号WSW、WAE、プリチャージ信号PLIOB、PMIOBをLレベルからHレベルに変化させる。これによってローカル入出力線LION、LIOT、メイン入出力線MION、MIOTのプリチャージ状態が終了し、ライトスイッチ回路33がオン状態となり、ライトアンプ回路42が活性化される。
したがって、期間T2において、リードライトバス線RWBSTの信号がバファリングされてメイン入出力線MIOT上の信号として、またリードライトバス線RWBSTの信号が論理反転されバファリングされてメイン入出力線MION上の信号として現れる。さらにオン状態のライトスイッチ回路33によって、メイン入出力線MIOT、MION上の信号がローカル入出力線LIOT、LIONにそれぞれ伝達される。例えば、図7の例では、メイン入出力線MIOT、ローカル入出力線LIOT上の信号がHレベル、メイン入出力線MION、ローカル入出力線LION上の信号がLレベルとされる。なお、ローカル入出力線LIOTの信号のレベルは、電源VDDの電位からNMOSトランジスタMN15における電圧降下分低くなった値とされる。ローカル入出力線LIOT、LION上の信号に基づいて、セル選択信号CSLによって選択されている所望のセルに書き込みが行われる。
期間T3において、セル選択信号CSLをHレベルからLレベルに変化させる。これにより所望のセルの選択動作を終了する。また、信号WSW、WAEをHレベルからLレベルに変化させる。これによって、ライトスイッチ回路33がオフ状態となり、ライトアンプ回路42が非活性化される。さらに、プリチャージ信号PLIOB、PMIOBをHレベルからLレベルに変化させる。これによってローカル入出力線LION、LIOT、メイン入出力線MION、MIOTのプリチャージが開始される。
期間T4において、ライトサイクルの初期状態と同様の状態となる。
<リードサイクル>
初期状態(期間T5の左端)において、信号DAE、RSWがLレベルであって、MIOドライバ31、リードアンプ32、リードライトバスドライバ41が非活性状態にある。この時、プリチャージ信号PLIOB、PMIOBがLレベルとされ、ローカル入出力線LION、LIOT、メイン入出力線MION、MIOTがHレベルにプリチャージされた状態にある。なお、信号WSW、WAEがLレベルとされ、ライトスイッチ回路33がオフ状態であって、ライトアンプ回路42が非活性状態とされる。
期間T5において、所望のセルから読み出し可能状態となるようにセル選択信号CSLをLレベルからHレベルに変化させる。同時にプリチャージ信号PLIOB、PMIOBをLレベルからHレベルに変化させる。これによってローカル入出力線LION、LIOT、メイン入出力線MION、MIOTのプリチャージが終了する。さらに、信号DAEをLレベルからHレベルに変化させる。これによって、MIOドライバ31、リードアンプ32が活性化される。さらに、信号RSWをLレベルからHレベルに変化させる。これによって、リードライトバスドライバ41が活性化される。
したがって、期間T6において、所望のセルから読み出されてセンスアンプで増幅されてローカル入出力線LION、LIOT上の信号とされた読み出し信号が、活性化されたリードアンプ32でさらに増幅されて保持され、MIOドライバ31によって駆動されるメイン入出力線MIOTに出力される。さらに、メイン入出力線MIOT上の信号は、活性化されたリードライトバスドライバ41によってリードライトバス線RWBSTに出力される。図7の例では、メイン入出力線MIOT上の信号がLレベルとなるので、リードライトバス線RWBSTの信号もLレベルに遷移している。一方、メイン入出力線MIONは、Hレベルである信号DAEによってオンとなったPMOSトランジスタMP12によって交流的に接地された状態(図7ではHレベル)に保たれシールド線として機能する。
期間T7において、所望のセルからの読み出し信号がリードライトバス線RWBSTの信号として得られる。その後、セル選択信号CSL、信号DAE、RSW、プリチャージ信号PLIOB、PMIOBをHレベルからLレベルに変化させる。これによって、期間T8において、リードサイクルの初期状態と同様の状態となる。
以上のように本実施例の半導体装置によれば、リードモード時、より具体的にはリードサイクル中の信号DAEがHレベルである期間において、メイン入出力線MIONは、オンとなったPMOSトランジスタMP12によって交流的に接地された状態に保たれる。したがって、メイン入出力線MIOT、MIONが長距離に亘って平行して多数配線されるような場合、メイン入出力線MIONは、隣接するメイン入出力線に対してシールド線として機能する。高集積化の進展に伴い、隣接配線間の距離が狭くなった場合であっても、このようなシールド線の機能によって、隣接配線からのノイズ信号の影響を軽減し、より安定したリード動作がなされる。
以上、一実施例についてDRAMで説明したが、本願の基本的技術思想はこれに限られず、例えば、SRAM(Static RAM)やその他の同期型メモリであっても良い。更に、センスアンプ、ライトアンプ、階層毎に備わる各々のイコライズ回路、階層間スイッチに付随されるサブアンプ等の回路形式、その他の制御信号を生成する回路は、実施例が開示する回路形式限られない。
また、本発明の基本的技術思想は、専用の記憶装置に限られない半導体装置にも適用することができる。例えば、メモリ機能を搭載したCPU(Central Processing Unit)、MCU(Micro Control Unit)、DSP(Digital Signal Processor)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、ASSP(Application Specific Standard Product)等の半導体装置全般に、本発明を適用することができる。このような本発明が適用された半導体装置の製品形態としては、例えば、SOC(システムオンチップ)、MCP(マルチチップパッケージ)やPOP(パッケージオンパッケージ)などが挙げられる。これらの任意の製品形態、パッケージ形態を有する半導体装置に対して本発明を適用することができる。
更に、本発明の基本的技術思想は、メモリセルの情報を増幅する用途に使用される階層バスに限られず、ASIC等のロジックの信号処理、DSP等のデータ信号処理に使用される階層バスであっても良い。つまり、本願クレームは、記憶装置の階層バスに限られないことは言うまでもない。実施例においては、SOC(システムオンチップ)、MCP(マルチチップパッケージ)やPOP(パッケージオンパッケージ)等の半導体装置に適用できる。
また、トランジスタは、電界効果トランジスタ(Field Effect Transistor;FET)であれば良く、MOS(Metal Oxide Semiconductor)以外にもMIS(Metal−Insulator Semiconductor)、TFT(Thin Film Transistor)等の様々なFETに適用できる。トランジスタ等の様々なFETに適用できる。バイポーラ型トランジスタであっても良い。FET以外のトランジスタであっても良い。
また、本発明の請求の範囲の枠内において種々の開示要素の多様な組み合わせないし選択が可能である。すなわち、本発明は、請求の範囲を含む全開示、技術的思想にしたがって当業者であればなし得るであろう各種変形、修正を含むことは勿論である。
30 MIO・LIO接続部
31 MIOドライバ
32 リードアンプ
33 ライトスイッチ回路
40 MIO・バス接続部
41 リードライトバスドライバ
42 ライトアンプ
50 ビット線・LIO接続部
INV10、INV11、INV20〜INV23 インバータ回路
MN10〜MN18、MN20〜MN22 NMOSトランジスタ
MP10〜MP19、MP20〜MP25 PMOSトランジスタ
NAND1〜NAND3 NAND回路
NOR1 NOR回路
SA センスアンプ
SW スイッチ対

Claims (10)

  1. それぞれが双方向にデータを転送可能とする第1乃至第3のデータ線と、
    前記第1のデータ線と前記第2のデータ線との間の接続を制御する第1の接続部と、
    前記第2のデータ線と前記第3のデータ線との間の接続を制御する第2の接続部と、
    前記第3のデータ線と外部との間の接続を制御する第3の接続部と、
    を備え、
    前記第2のデータ線が、一つの信号を相補の信号対で転送する第2のデータ線対からなり、
    前記第3のデータ線が、一つの信号を相補の信号対で転送する第3のデータ線対からなり、
    前記第2の接続部は、前記第1のデータ線から前記第3のデータ線へのデータ転送モード時において、前記第3のデータ線対の一方のみを駆動すると共に前記第3のデータ線対の他方を交流的に接地し、
    前記第3の接続部は、前記データ転送モード時において、前記第2の接続部によって前記第3のデータ線対の一方に転送されたデータ情報を受け外部データ情報として出力することを特徴とする半導体装置。
  2. 第1の接続部は、
    前記第1のデータ線に接続され、前記第1のデータ線上のデータ情報を増幅して保持する第1のアンプと、
    前記第1のデータ線と前記第2のデータ線との間を開閉する第1のスイッチと、
    を備え、
    第2の接続部は、
    前記第2のデータ線に接続され、前記第2のデータ線上のデータ情報に応じて前記第3のデータ線対の一方を駆動する第2のアンプと、
    前記第2のデータ線と前記第3のデータ線との間を開閉する第2のスイッチと、
    を備え、
    第3の接続部は、
    前記第3のデータ線に接続され、外部から入力された外部データ情報に対応して前記第3のデータ線を駆動する第3のアンプと、
    前記第3のデータ線対の一方に接続され、前記第2のアンプから前記第3のデータ線対の一方に転送されたデータ情報を受け外部データ情報として出力する第4のアンプと、
    を備えることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  3. 前記第2の接続部は、前記データ転送モード時において前記第3のデータ線対の他方と所定の電圧源とを短絡可能とするスイッチ素子を備えることを特徴とする請求項1または2記載の半導体装置。
  4. 前記第2のアンプは、
    前記第2のデータ線対における相補の信号対を増幅して保持する増幅部と、
    前記増幅部で保持される信号に基づいて前記第3のデータ線対の一方のみを駆動するドライバ部と、
    を備え、
    前記データ転送モード時において、前記増幅部およびドライバ部は活性化され、前記第2のスイッチが開放されることを特徴とする請求項1または3記載の半導体装置。
  5. 前記ドライバ部は、前記データ転送モード時において通電されるCMOSインバータ回路から構成されることを特徴とする請求項4記載の半導体装置。
  6. 前記増幅部は、前記データ転送モード時においてオンとされるスイッチ対を介してそれぞれ前記第2のデータ線対に接続されることを特徴とする請求項4記載の半導体装置。
  7. 前記増幅部は、前記データ転送モード時において通電されるCMOSインバータ回路対から構成され、該CMOSインバータ回路対は、互いの入出力端子を接続し、該CMOSインバータ回路対のそれぞれの入力端子が前記スイッチ対を介してそれぞれ前記第2のデータ線対に接続されることを特徴とする請求項6記載の半導体装置。
  8. 前記第2の接続部は、前記第2のデータ線対間に接続されてプリチャージ信号に基づいて前記第2のデータ線対を所定の電圧にプリチャージしイコライズする回路を備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体装置。
  9. 前記第3の接続部は、前記第3のデータ線対間に接続されてプリチャージ信号に基づいて前記第3のデータ線対を所定の電圧にプリチャージしイコライズする回路を備えることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
  10. 前記第1のデータ線は、メモリセルを接続して、一つの信号を相補の信号対で双方向に転送する第1のデータ線対からなり、
    前記データ転送モードは、前記メモリセルからのデータを読み出すリードモードであって、
    前記リードモード時において、前記第1のアンプは、前記メモリセルの情報に対応して前記第1のデータ線対を駆動し、前記第1のデータ線対上のデータ情報は、前記第1のスイッチと前記第2のデータ線と前記第2のアンプとを介して前記第3のデータ線対の一方へ転送され、前記第4のアンプは、前記第3のデータ線対の一方上におけるデータ情報を外部に出力することを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
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JP2022014488A (ja) * 2020-07-07 2022-01-20 華邦電子股▲ふん▼有限公司 人工知能操作用のメモリ装置

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