JP2012049165A - プリント配線基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】層間接続用のバイアホールの構造を部品実装用のランドパターンに適用してもバイアホールの実装面の平坦性を確保して部品実装の信頼性及び実装密度を高める。
【解決手段】プリント配線基板は、絶縁基材1の一方の面側の第1導電層2aに部品実装用のランドパターン10が形成され、ランドパターン10には、その内側に外形円と同心の開口領域50が形成され、この開口領域50は、環状の溝(除去部)20とその内側の残存部4を含む。環状の溝20は、第1導電層2a及び絶縁基材1を環状に除去することにより形成されている。開口領域50では、溝20の底部において露出した第2導電層2bと第1導電層2aとが、第1導電層2aの表面、第2導電層2bの露出した表面、及び溝20の内壁面に形成されためっき層3により層間接続される。
【選択図】図1
【解決手段】プリント配線基板は、絶縁基材1の一方の面側の第1導電層2aに部品実装用のランドパターン10が形成され、ランドパターン10には、その内側に外形円と同心の開口領域50が形成され、この開口領域50は、環状の溝(除去部)20とその内側の残存部4を含む。環状の溝20は、第1導電層2a及び絶縁基材1を環状に除去することにより形成されている。開口領域50では、溝20の底部において露出した第2導電層2bと第1導電層2aとが、第1導電層2aの表面、第2導電層2bの露出した表面、及び溝20の内壁面に形成されためっき層3により層間接続される。
【選択図】図1
Description
この発明は、プリント配線基板及びその製造方法に関し、特に層間接続用のバイアホールの構造を部品実装用のランドパターンに適用したプリント配線基板及びその製造方法に関する。
多層構造のプリント配線基板における層間接続技術として、例えば下記特許文献1に開示されたような非貫通のバイアホール(ビアホール)による層間接続技術や、貫通穴(スルーホール)による層間接続技術が知られている。図7(a)に示すように、スルーホールによる層間接続では、絶縁基材91の両面に配線層92を形成した両面銅張積層板93にスルーホール部95を形成し、このスルーホール部95に形成されためっき層94を介して両面の配線層92を電気的に接続する。
一方、図7(b)に示すように、バイアホールによる層間接続では、絶縁基材91の片面の配線層92に開口部を設けてバイアホール部97を形成し、このバイアホール部97を含めて配線層92上に形成されためっき層94を介して両面の配線層92を電気的に接続する。近年では、このバイアホール部97を埋めてフィルドビアを形成し、このフィルドビア上の実装面に半導体チップ等の実装部品を実装することが行われている。特に、下記特許文献1では、バイアホールの開口部を扁平形状或いは楕円形状とすることで、配線ピッチを拡げることなくバイアホールの底部の総面積を増やし、電気的導通信頼性を高めることが行われている。
しかしながら、上述したスルーホール部95上に実装部品を実装しようとする場合、スルーホール部95の穴径Dが例えば300μm程度であったとすると、半田粒子径が30μm〜50μm程度の半田ペースト96をスルーホール部95に搭載しようとしても半田ペースト96が穴から流れ落ちてしまうこととなり、実装部品を実装することができないという問題がある。
また、上述したバイアホール部97上に実装部品を実装しようとする場合は、バイアホール部97の開口部側と反対側の実装面は平坦であるため実装部品102を容易に実装することができるが、開口部側の実装面では実装部品101のエッジ部が開口部内に落ち込んで傾くことも想定されるため、実装部品を平坦に実装することが困難であるという問題がある。特に、開口部側に平坦に実装できたとしても、バイアホール部97は空洞であるため、ヒートサイクル試験等では空洞内の空気層が膨張/収縮を繰り返すことにより実装の信頼性が著しく低下することとなる。
更に、バイアホール部97をめっき層94で埋めたり半田ペーストにより埋めたりしてフィルドビア構造とした上で実装面に実装部品を実装することも考えられるが、埋めた部分の平坦性を確保することが著しく困難であったり、バイアホール部97の穴径が微小なものである場合は半田ペーストが上手く入らずに平坦にならないなどの問題も考えられ、実装密度を高めることは困難である。
本発明は、上述した従来技術による問題点を解消するため、層間接続用のバイアホールの構造を部品実装用のランドパターンに適用してもバイアホールの実装面の平坦性を確保して部品実装の信頼性及び実装密度を高めることができるプリント配線基板及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明の一態様に係るプリント配線基板は、絶縁層、当該絶縁層の一方の面に形成された第1導電層及び当該絶縁層の他方の面に形成された第2導電層を備えたプリント配線基板において、前記第1導電層に形成されたランドパターンと、前記ランドパターン領域内の前記第1導電層及び前記絶縁層の一部を線状に除去することにより形成された除去部と、前記除去部の一部と当該除去部の他の一部との間に残存する残存部と、前記除去部の内部に形成され前記第1導電層と前記第2導電層とを導通させる層間導通手段とを備えたことを特徴とする。
本発明の一態様に係るプリント配線基板によれば、ランドパターン領域内の第1導電層及び絶縁層の一部を除去することにより除去部を形成し、この除去部の一部と除去部の他の一部との間に第1導電層及び絶縁層の一部が残された平坦な残存部を有する構造としたので、部品実装用のランドパターンの全面に穴をあけるバイアホール構造とは異なり、部品実装に用いられる実装面の平坦性を確保することができる。これにより、部品実装の信頼性及び実装密度を高めることができる。
前記除去部は、例えば開口幅が5μm〜40μmとなるように形成されていると、層間導通手段が、除去部の内部に充填されて上面が平坦になる。これにより、実装面の平坦性を更に高めることができる。
また、前記層間導通手段は、例えばめっき層である。これにより、容易に層間導通手段を形成することができると共に、その膜厚は10〜20μm程度であるため、20〜40μm程度の幅を有する除去部に容易に充填することができる。これにより、従来と同じめっき厚で実装面の平坦性を確保することができる。
本発明の一態様に係るプリント配線基板の製造方法は、絶縁層、当該絶縁層の一方の面に形成された第1導電層及び当該絶縁層の他方の面に形成された第2導電層を備えたプリント配線基板の製造方法において、前記第1導電層にランドパターンを形成する第1工程と、前記ランドパターン領域内の前記第1導電層及び前記絶縁層の一部を線状に除去することにより除去部を形成し且つ前記除去部の一部と当該除去部の他の一部との間に残存する残存部を形成する第2工程と、前記除去部の内壁面に導電性物質を付着形成させる第3工程と、前記除去部の底面に露出した前記第2導電層、前記除去部の内壁面及び前記第1導電層に亘って層間導通手段を形成する第4工程とを備えたことを特徴とする。
本発明の一態様に係るプリント配線基板の製造方法によれば、第2工程にて部品実装用のランドパターン領域内の第1導電層及び絶縁層の一部を除去した除去部を形成し、この除去部の一部と除去部の他の一部との間に第1導電層及び絶縁層の一部が残された残存部を形成するようにしているので、部品実装に用いられる実装面の平坦性を確保したプリント配線基板を製造することができる。これにより、部品実装の信頼性及び実装密度を高めたプリント配線基板を容易に製造することができる。
本発明によれば、層間接続用のバイアホールの構造を部品実装用のランドパターンに適用してもバイアホールの実装面の平坦性を確保して部品実装の信頼性及び実装密度を高めることができる。
以下に、添付の図面を参照して、この発明に係るプリント配線基板及びその製造方法の実施の形態を詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係るプリント配線基板の部品実装用のランドパターンの構造を示す平面図である。図2は、図1のA−A’断面図である。図3は、同プリント配線基板のランドパターンにおける溝(除去部)の形成工程を説明するための図である。図1及び図2に示すように、プリント配線基板は、絶縁基材1の両面に銅箔からなる第1及び第2導電層2a,2bが形成された銅張積層板からなり、この銅張積層板の絶縁基材1の一方の面側の第1導電層2aに部品実装用のランドパターン10が形成された構造からなる。
絶縁基材1は、例えばポリイミド系の絶縁樹脂フィルムからなり、その他、エポキシ系やポリエチレン系の絶縁樹脂材料からなるものでも良い。第1及び第2導電層2a,2bは、例えば厚さ18μm程度の圧延銅箔や電解銅箔、めっき銅箔などからなる。ランドパターン10は、部品実装領域に例えば円形に形成され、一部が配線となるライン11に接続された構造からなる。
このランドパターン10には、その内側に外形円と同心の開口領域50が形成されている。この開口領域50は、環状の溝20とその内側の残存部4を含む。環状の溝20は、第1導電層2a及び絶縁基材1を環状に除去することにより形成されている。
本例では、開口領域50の溝20の開口幅W1は例えば20μmとなるように形成され、開口領域50の直径W2は例えば100μm、残存部4の直径W3は例えば60μmとなるようにそれぞれ形成されている。なお、この溝20の開口幅W1は、好ましくは5μm〜40μmとなるように形成されれば良い。
開口領域50の溝20は、図3に示すように、図示しないレーザ装置のレーザ照射部19から照射されるYAGレーザなどのレーザ光Lにより形成される。YAGレーザ光のスポット径(5〜10μm)よりも広い幅(20μm)の溝20を形成する場合には、具体的には、このレーザ光Lを、トレパニングという手法でランドパターン10上にてレーザ光Lの軌跡LTが円を描きながら移動するように複数回にわたって周回照射することで溝20が形成される。
このように形成された溝20においては、第1導電層2a及び絶縁基材1が除去されて、溝20の底部にて第2導電層2bが露出した状態となる。そして、この開口領域50における溝20の内壁面(底面を含む)、及び第1導電層2aの表面にはめっき層3が形成される。このめっき層3により、第1導電層2aと第2導電層2bとが電気的に接続される。
めっき層3は、その厚みT1が例えば10μm程度となるように形成されている。なお、本例では溝20の開口幅W1が20μmであるため、溝20はめっき層3により完全に平坦に塞がれた状態となっている。従って、ランドパターン10が部品実装部としての機能を有すると共にバイアホール構造の層間接続部としての機能も有するように構成されている。
このように、本実施形態に係るプリント配線基板によれば、部品実装用のランドパターン10において、開口領域50内に残存部4が形成され、且つ溝20内にて第1導電層2a及び第2導電層2bが導通される。これと共に、残存部4上のめっき層3が電極としても作用する。
これにより、全面が開口した状態の従来のバイアホール構造と比べて、実装部品が実装される実装面の平坦性を十分に確保することができる。また、第1及び第2導電層2a,2bの接続信頼性に関しては、上記条件の開口領域50における溝20の底部での第2導電層2bとめっき層3との接触面積が、例えば(100/2)2×π−(60/2)2×πとなるので、直径80μmで円形に形成したバイアホールにおける上記接触面積と面積的には同等となり、高い電気的接続信頼性を実現することができる。
そして、従来のバイアホールと異なり溝20の開口側においても十分に平坦性を確保したまま実装部品の実装を行うことができるので、部品実装の信頼性及び実装密度を高めることが可能となる。また、開口領域50を形成する工程は従来と同様のものとすることができるので、コストアップとならずに部品実装の信頼性等を高めることができる。
図4は、本発明の一実施形態に係るプリント配線基板の製造方法による製造処理手順を示すフローチャートである。また、図5は、この製造方法による製造工程を示す工程図である。まず、銅張積層板を準備して絶縁基材1の一方の面側の第1導電層2a上にスクリーン印刷等によりエッチングレジストパターンを形成する(ステップS100)。
次に、図5(a)に示すように、エッチングを行って第1導電層2aの一部を溝20の開口部となるように除去して開口部5を形成し(ステップS102)、図5(b)に示すように、その開口部5を介してレーザ光Lを照射することにより絶縁基材1を除去する(ステップS104)。これにより、第2導電層2bが露出すると共に残存部4(図示せず)が形成される。
このとき、レーザ光Lの特性上、開口部5の開口幅が20μmとすると、底部の露出幅は、その80〜90%の16〜18μmとなるので、開口側から底部側にかけて狭くなるテーパ状に絶縁基材1が除去されることとなる。そして、図5(c)に示すように、開口部5内で露出した絶縁基材1の表面(すなわち、溝20となる部分の内壁面)に、例えばダイレクトプレーティング処理を行ってパラジウム(Pd)やカーボン(C)などの導電性物質6を付着形成する(ステップS108)。この導電性物質6は、上記絶縁基材1の表面に微細な凹凸を有するように形成される。
なお、図示は省略するが、ダイレクトプレーティング処理の後には、第1導電層2a及び第2導電層2bに付着した導電性物質6を除去するために酸などで洗浄が行われる。これにより、導電性物質6との密着力が強い絶縁基材1の表面にのみ導電性物質6が付着形成されることとなる。
最後に、図5(d)に示すように、例えばパネルめっき法により、開口部5及び残存部4を含む銅張積層板の第1導電層2a側の全面に電解銅めっきを施して、第1導電層2aの表面上及び第2導電層2bの露出面上にめっき層3を形成すると共に、溝20の内壁面に層間導通手段である導電体(めっき層3の一部)を形成し(ステップS110)、第1及び第2導電層2a,2bを電気的に接続して、本フローチャートによる一連の処理を終了する。
ここで、図5(d)においては、溝20がめっき層3により完全に塞がれた状態とはなっていないが、開口領域50においては残存部4が形成されているため、実装部品を傾かない平坦に実装することについては何ら問題のない構造とすることができる。勿論、めっき層3の厚みが溝20の幅の1/2よりも厚ければ、溝20内にめっき層3が完全に充填されることになり、この場合には、更に平坦性が向上する。このように、本実施形態に係るプリント配線基板の製造方法によれば、ランドパターン10の全面に穴をあけることなく、また、半田ペーストや他の導電性ペーストで別途穴を充填することなく、部品実装に用いられる実装面の平坦性を確保することができ、部品実装の信頼性及び実装密度を高めることができる。
なお、上述した実施形態においては、残存部4に第1導電層2aが残った構成としたが、ステップS102で、残存部4も含めた開口領域50内の全ての第1導電層2aをエッチング等で除去し、その開口の周縁部の絶縁基材1のみをレーザ光で除去するようにしても、絶縁基材1による残存部4が形成されているので、平坦性は確保することができる。また、上記ステップS102にて第1導電層2aをエッチングにより除去して開口部5を形成し、ステップS104にてレーザ加工により絶縁基材1を除去して溝20を形成することとしたが、ダイレクトレーザ加工により開口部5形成と絶縁基材1除去とを同時に行うようにしても良い。この場合には、第1導電層2aに対するレーザ光の照射パワーよりも絶縁基材1に対する照射パワーを低減させるような段階的なパワー制御を行えば良い。
図6は、本発明の他の実施形態に係るプリント配線基板の部品実装用のランドパターンの構造を示す平面図である。なお、以降において、既に説明した部分と重複する箇所には同一の符号を附して説明を割愛する。上述した実施形態では、ランドパターン10の所定領域内において開口領域50を円形の溝20と円柱状の残存部4とで構成したが、開口領域は次のような構成であっても良い。なお、以下において、開口領域は、ランドパターン10上における溝20の最外側を囲んだ領域であるとし、めっき層3は不図示とする。
すなわち、開口領域は、図6(a)に示すように、螺旋状に形成された溝20とこの溝20に挟まれた状態の残存部とを有するように形成されたり、図6(b)及び(c)に示すように、蛇腹状に形成された溝20とこの溝20に挟まれた状態の残存部とを有するように形成されたりしても良い。
また、開口領域は、図6(d)に示すように、スリット状に複数形成された溝20とこれら溝20に挟まれた状態の残存部とを有するように形成されたり、図6(e)に示すように、波状に複数形成された溝20とこれら溝20に挟まれた状態の残存部とを有するように形成されたりしても良い。これら種々の形状の溝20及び残存部で開口領域を構成するようにしても、上述した実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
1 絶縁基材
2a 第1導電層
2b 第2導電層
3 めっき層
4 残存部
5 開口部
6 導電性物質
10 ランドパターン
11 ライン
20 溝(除去部)
50 開口領域
2a 第1導電層
2b 第2導電層
3 めっき層
4 残存部
5 開口部
6 導電性物質
10 ランドパターン
11 ライン
20 溝(除去部)
50 開口領域
Claims (4)
- 絶縁層、当該絶縁層の一方の面に形成された第1導電層及び当該絶縁層の他方の面に形成された第2導電層を備えたプリント配線基板において、
前記第1導電層に形成されたランドパターンと、
前記ランドパターン領域内の前記第1導電層及び前記絶縁層の一部を線状に除去することにより形成された除去部と、
前記除去部の一部と当該除去部の他の一部との間に残存する残存部と、
前記除去部の内部に形成され前記第1導電層と前記第2導電層とを導通させる層間導通手段とを備えた
ことを特徴とするプリント配線基板。 - 前記除去部は、開口幅が5μm〜40μmとなるように形成され、前記層間導通手段は、前記除去部の内部に充填されている
ことを特徴とする請求項1記載のプリント配線基板。 - 前記層間導通手段は、めっき層である
ことを特徴とする請求項1又は2記載のプリント配線基板。 - 絶縁層、当該絶縁層の一方の面に形成された第1導電層及び当該絶縁層の他方の面に形成された第2導電層を備えたプリント配線基板の製造方法において、
前記第1導電層にランドパターンを形成する第1工程と、
前記ランドパターン領域内の前記第1導電層及び前記絶縁層の一部を線状に除去することにより除去部を形成し且つ前記除去部の一部と当該除去部の他の一部との間に残存する残存部を形成する第2工程と、
前記除去部の内壁面に導電性物質を付着形成させる第3工程と、
前記除去部の底面に露出した前記第2導電層、前記除去部の内壁面及び前記第1導電層に亘って層間導通手段を形成する第4工程とを備えた
ことを特徴とするプリント配線基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010186945A JP2012049165A (ja) | 2010-08-24 | 2010-08-24 | プリント配線基板及びその製造方法 |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family Applications (1)
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JP2010186945A Pending JP2012049165A (ja) | 2010-08-24 | 2010-08-24 | プリント配線基板及びその製造方法 |
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JP (1) | JP2012049165A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022097481A1 (ja) * | 2020-11-05 | 2022-05-12 | Dic株式会社 | セミアディティブ工法用積層体及びそれを用いたプリント配線板 |
-
2010
- 2010-08-24 JP JP2010186945A patent/JP2012049165A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022097481A1 (ja) * | 2020-11-05 | 2022-05-12 | Dic株式会社 | セミアディティブ工法用積層体及びそれを用いたプリント配線板 |
JPWO2022097481A1 (ja) * | 2020-11-05 | 2022-05-12 |
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