JP2012022766A - 媒体を製造するためのシステムおよび方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】媒体を製造する方法は、基板上に記録媒体を形成するステップを含む。記録媒体上の、基板と反対側に保護膜が成膜される。保護膜は第一の表面仕上げ層を有する。保護膜はエッチングされ、材料が取り除かれ、保護膜に、第一の表面仕上げより平滑な第二の表面仕上げ層が設けられる。成膜とエッチングは、in−situドライ真空工程で逐次的に行われてもよい。第二の表面仕上げ層には、エッチング後に、保護膜をさらに平坦化するための機械加工を行わなくてもよい。
【選択図】図1
Description
13 記録媒体
15 基板
17 軟磁性裏打ち層
19 磁気交換遮断層
21 記録層
23 保護膜
25 第一の表面仕上げ層
27 エッチング
29 第二の表面仕上げ層
31 第二の保護膜
Claims (20)
- 記録媒体を製造するための方法であって、
基板上に記録媒体を形成する形成ステップと、
前記記録媒体の、前記基板とは反対側に保護膜を成膜する成膜ステップであって、前記保護膜は第一の表面仕上げ層を有する成膜ステップと、
前記保護膜をエッチングして、前記保護膜に前記第一の表面仕上げ層より平滑な第二の表面仕上げ層を設けるエッチングステップと、
を含む方法。 - 前記保護膜の前記第二の表面仕上げ層には、前記エッチングステップの後に前記保護膜をさらに平坦化するための機械的加工が行われない、
請求項1に記載の方法。 - 前記成膜ステップは、不活性ガスを導入した真空中で行われ、
前記エッチングステップは、イオンビームエッチングを含み、
前記第二の表面仕上げ層は、前記第一の表面仕上げ層より約15%〜35%平滑である、
請求項1に記載の方法。 - 前記成膜ステップは、不活性ガスと、窒素、水素、酸素、キセノン、クリプトン、ネオンおよびCO2の少なくとも1つを含む反応ガスと、を導入した真空中で行われ、
前記第二の表面仕上げ層は、前記第一の表面仕上げ層より約20%〜30%平滑である、
請求項1に記載の方法。 - 前記成膜ステップと前記エッチングステップは、in−situドライ真空工程中に逐次的に行われ、
前記記録媒体は垂直磁気記録媒体であり、
前記保護膜はカーボン保護膜である、
請求項1に記載の方法。 - 前記エッチングステップの後に、前記第二の表面仕上げ層の上に第二の保護膜を成膜するステップをさらに含み、
前記第二の保護膜は、実質的に前記第二の表面仕上げ層を有する第二のカーボン保護膜である、
請求項1に記載の方法。 - 前記第二の保護膜には、前記第二の保護膜をさらに平坦化するための機械的加工が行われない、
請求項6に記載の方法。 - 前記第二の表面仕上げ層は、約0.20〜0.35Åの平均高さ(Ra)を有し、
前記エッチングステップは、約0.1〜40秒間の時間にわたるスパイクピークの除去を含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記第二の表面仕上げ層は、約0.24〜0.30Åの平均高さ(Ra)を有し、
前記エッチングステップは、約3〜30秒間の時間にわたるスパイクピークの除去を含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記エッチングステップにより、エッチングされていないカーボン保護膜を有する記録媒体と比較して、(a)記録ヘッドタッチダウン(TD)パワーが約1〜20mW、および(b)前記エッチングされていない媒体の重ね書き(OW)が約0.5〜3dB、改善される、
請求項1に記載の方法。 - 前記エッチングステップにより、エッチングされていないカーボン保護膜を有する記録媒体と比較して、(a)記録ヘッドタッチダウン(TD)パワーが約6〜15mW、および(b)信号対雑音比(SNR)が約0.1〜2dB、改善される、
請求項1に記載の方法。 - 前記エッチングステップにより、エッチングされていないカーボン保護膜を有する記録媒体と比較して、(a)信号対雑音比(SNR)が約0.5〜1.0dB、(b)低周波数振幅が約1%〜20%、および(c)ビットエラーレート(BER)が約10%〜20%、改善される、
請求項1に記載の方法。 - 被加工物を製造するシステムであって、
前記被加工物を製造するための複数の加工ステーションを有するスパッタリングシステムを含み、
前記加工ステーションの少なくとも1つは、前記被加工物に保護膜を成膜して、前記被加工物に第一の表面仕上げ層を設け、逐次的に前記保護膜にエッチングを行い、前記保護膜に前記第一の表面仕上げ層より平滑な第二の表面仕上げ層を設ける、保護膜加工ステーションである、
システム。 - 前記加工ステーションの前記少なくとも1つは、前記保護膜を成膜するための第一の保護膜加工ステーションと、前記保護膜をイオンビームエッチングするための第二の保護膜加工ステーションと、を含む、
請求項13に記載のシステム。 - 前記被加工物は、磁気媒体、ソリッドステートメモリ、半導体、磁気ランダムアクセスメモリまたはソーラー薄膜であり、
前記保護膜の前記第二の表面仕上げ層には、前記エッチング後に、前記保護膜をさらに平坦化するための機械的加工を行わない、
請求項13に記載のシステム。 - 前記加工ステーションの前記少なくとも1つは、不活性ガスと、窒素、水素、酸素、キセノン、クリプトン、ネオンおよびCO2の少なくとも1つを含む反応ガスと、を使用するin−situドライ真空工程を含み、
前記保護膜はカーボン保護膜である、
請求項13に記載のシステム。 - 前記工程ステーションの前記少なくとも1つは、前記第二の表面仕上げ層の上に第二の保護膜を成膜し、
前記第二の保護膜は、実質的に前記第二の表面仕上げ層を有する第二のカーボン保護層である、
請求項13に記載のシステム。 - 前記第二の表面仕上げ層は、前記第一の表面仕上げ層より約15%〜35%平滑であり、
前記第二の表面仕上げ層は、約0.20〜0.35Åの平均高さ(Ra)を有し、
前記エッチングは、約0.1〜40秒間の時間にわたるスパイクピークの除去を含む、
請求項13に記載のシステム。 - 前記エッチングにより、エッチングされていないカーボン保護膜を有する記録媒体と比較して、(a)記録ヘッドタッチダウン(TD)パワーが約1〜20mW、および(b)エッチングされていない媒体の重ね書き(OW)が約0.5〜3dB、改善される、
請求項13に記載のシステム。 - 前記エッチングにより、エッチングされていないカーボン保護膜を有する記録媒体と比較して、(a)信号対雑音比(SNR)が約0.5〜1.0dB、(b)低周波数振幅が約1%〜20%、および(c)ビットエラーレート(BER)が約10%〜20%、改善される、
請求項13に記載のシステム。
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