JP2012021190A - 非晶質合金薄帯および非晶質合金薄帯を有する磁性部品 - Google Patents
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Abstract
発電機、磁気センサ、アンテナ磁心、電流センサ、磁気シールド等に用いられる割れが発生しにくく加工性と軟磁気特性に優れた非晶質合金薄帯を提供する。
【解決手段】 Fe100−a−bSiaBb(ただし、a、bはそれぞれ原子%で1≦a≦20、4≦b≦20、14≦a+b≦30の条件を満たす数である。)および不可避不純物以外の主要成分にCuを含まない合金組成を有し、銅合金製のロールを用いた単ロール法により製造された未熱処理の非晶質合金薄帯であって、前記薄帯の自由面側の表面から深さ方向のCu濃度は0.1原子%未満となし、ロール接触面側のCu濃度は、最表面を除く、深さ5〜50nmの範囲のCu濃度ピークを0.1原子%以上4原子%以下となした非晶質合金薄帯。
【選択図】 図1
Description
発電機、磁気センサ、アンテナ磁心、電流センサ、磁気シールド等に用いられる加工性と軟磁気特性に優れた非晶質合金薄帯および非晶質合金薄帯を有する磁性部品に関する。
フェライト材料は、飽和磁束密度が低く、温度特性が悪い問題があり、大容量インバータ・電源のコイル部品や配電用トランスなど高いエネルギー密度で使用される用途には、磁気的に飽和しやすく、部品サイズが大きくなってしまうため不向きである。
けい素鋼板は、材料が安価で磁束密度は高いが、非晶質合金に比べると磁心損失が大きいという課題がある。
一方、自由面側のCu濃度は、深さ方向にほぼ一様に0.1原子%未満となっており、母相まで継続していると考えられるが少なくとも深さ50nmまでの位置にCu濃度の高い領域やCu濃度のピークが現れることはない。自由面側のCu濃度は、上記した加工性や鉄損に与える影響はないと考えており、むしろ自由面側にCu濃度の高い領域やCu濃度のピークが現れないようにすることが必要である。逆にこれらが現れる場合は、もはや主要成分にCuを含まない合金組成であるとは言えない。
上記した本発明の合金組成において、Si量aが2≦a≦8、B量bが13≦b≦18である合金は、比較的高飽和磁束密度で、板厚が厚くても軟磁気特性が良好な変圧器などに適する非晶質合金薄帯が得られより好ましい結果が得られる。特に好ましいSi量aの範囲は、2≦a≦5、B量bの範囲は13≦b≦16である。
また、Fe量の10原子%以下をCo、Niから選ばれた少なくとも1種の元素で置換することができる。
単ロ−ル装置で作製した直後の合金薄帯の幅は、通常100mm以上であり、広幅の合金薄帯を多量に製造する際に本発明の効果が顕著に現れる。
本発明の非晶質合金薄帯は積層磁心とすることもでき、合金表面に樹脂などを塗布し接着し積層磁心として使用することもできる。
本発明の非晶質合金薄帯は高周波の用途、センサや低周波の磁性部品の用途に使用可能である。特に、Fe基の非晶質合金薄帯は、磁気飽和が問題となる用途で優れた特性を発揮でき、配電用トランス、発電機、リアクトルや高エネルギ−密度のパワーエレクトロニクス用途の磁心に適する。Co基合金は磁歪が小さく、高透磁率で優れた高周波磁気特性を示すため、電流センサ、スイッチング電源用可飽和コア、パルスパワー応用などの磁心に適する。Ni基合金はセンサ材に適する。
Siを4原子%、Bを15原子%、残部Feおよび不可避不純物からなるFe81Si4B15(原子%)組成の合金溶湯を25m/sで回転する単ロール装置に大気中で噴出し急冷して、幅170mm、厚さ約25μmの非晶質合金薄帯を作製した。単ロール装置のロールはCu−Be合金製の水冷ロールであり、ロールをステンレスワイヤー製のブラシで研磨しながら非晶質合金薄帯を作製した。ロール研磨により発生した研磨粉は、吸引装置で吸引した。定常状態の合金薄帯の温度は、ノズル先端部からロール上45mmの位置で340℃であった。作製した非晶質合金薄帯のロール接触面および自由面側のX線回折を行った結果、非晶質合金薄帯特有のハローパターンを示し、非晶質単相であることが確認された。
図1にGD−OESにより測定したロール接触面側のCu元素の濃度分布を示す。図2に自由面側のCu元素の濃度分布を示す。図1より、ロール接触面側においては、薄帯表面近傍のCu濃度が内部のCu濃度よりも高く、表面から深さ約10nm付近に0.3原子%を超えるCu濃度のピークが存在することが分かる。これに対して、図2をみると自由面側のCu濃度は内部と表面とに変化はなく一様に0.1原子%未満であり、明確なCu濃度のピークは存在しなかった。尚、ロール接触面側の最表面のCu濃度は最大値を示しているが、上述したようにCu濃度ピークから除外する。
その後、以下の磁気特性を測定したところ、800A/mにおける磁束密度B800=1.63T、保磁力Hc=2.0A/m、及び50Hz、1.4Tにおける鉄損P14/50=0.18W/kgが得られ、変圧器用磁心として好適な特性を有していることが確認された。
上記実施例と同じ合金と同じ製造装置を用いているが比較のために、ロール研磨を行わず非晶質合金薄帯を作製した。定常状態の合金薄帯の温度は、ノズル先端部からロール上45mmの位置で390℃であった。作製した非晶質合金薄帯のロール接触面側および自由面側のX線回折を行った結果、非晶質合金薄帯特有のハローパターンを示し、非晶質単相であることが確認された。
この例では、50Hz、1.4Tにおける鉄損P14/50=0.28W/kgであり、上記実施例に比べて鉄損が増加していた。
表2に示す組成の合金溶湯を25m/sで回転する単ロール装置に噴出し急冷して、幅100〜170mm、厚さ約25〜30μmの非晶質合金薄帯を作製した。ここで用いた単ロール装置のロールはCu−Cr−Zr合金製の水冷ロールであり、ロールをステンレスワイヤー製のブラシで研磨しながら非晶質合金薄帯を作製した。ロール研磨により発生した研磨粉は、吸引装置で吸引した。定常状態の合金薄帯の温度は、ノズル先端部からロール上45mmの位置で320℃であった。作製した非晶質合金薄帯のロール接触面および自由面側のX線回折を行った結果、非晶質合金特有のハローパターンを示し、非晶質単相であることが確認された。
そして、この磁心について50Hz、1.4Tにおける鉄損P14/50を測定した。結果を表2に示す。
比較のために表2に示す組成の合金溶湯をCu−Be合金製のロール(水冷なし)を用いてステンレスワイヤー製のブラシによりロール研磨を行いながら、非晶質合金薄帯を作製した。ロール研磨により発生した研磨粉は、吸引装置で吸引した。定常状態の合金薄帯の温度は、ノズル先端部からロール上45mmの位置で420℃であった。作製した非晶質合金薄帯のロール接触面および自由面側のX線回折を行った結果、非晶質合金特有のハローパターンを示し、非晶質単相であることが確認された。
実施例2と同様にCu濃度分布と割れの有無を確認し、オーバーラップ構造の磁心を作製し、同様の条件で熱処理を行い鉄損を測定した。以上によって得られた結果を表2に示す。
以上の結果から、本発明の非晶質合金薄帯は加工性に優れ、この非晶質合金薄帯を用いて磁心を作製した場合、より低損失の磁心を実現できることが確認された。
Claims (7)
- Fe100−a−bSiaBb(ただし、a、bはそれぞれ原子%で1≦a≦20、4≦b≦20、14≦a+b≦30の条件を満たす数である。)および不可避不純物以外の主要成分にCuを含まない合金組成を有し、銅合金製のロールを用いた単ロール法により製造された未熱処理の非晶質合金薄帯であって、前記薄帯のロール接触面側のCu濃度は、最表面を除く、深さ5〜50nmの範囲のCu濃度ピークを0.1原子%以上4原子%以下となしたことを特徴とする非晶質合金薄帯。
- 前記薄帯の自由面側の表面から深さ方向のCu濃度は0.1原子%未満となしたことを特徴とする請求項1に記載の非晶質合金薄帯。
- Si量aが2≦a≦5、B量bが13≦b≦16であることを特徴とする請求項1または2に記載の非晶質合金薄帯。
- SiとBの総量の10原子%以下をC、P、Ga、Geから選ばれた少なくとも1種の元素で置換したことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の非晶質合金薄帯。
- Fe量の2原子%以下をCr、Mn、V、Nb、Mo、Ta、W、Sn、白金族元素から選ばれた少なくとも1種の元素で置換したことを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の非晶質合金薄帯。
- Fe量の10原子%以下をCo、Niから選ばれた少なくとも1種の元素で置換したことを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の非晶質合金薄帯。
- 請求項1〜6の何れか1項に記載の非晶質合金薄帯からなることを特徴とする磁性部品。
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