JP2012016737A - フラックス組成物及びやに入りはんだ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】はんだ付け時の加熱に伴って、溶融フラックス21内に多数の極微小気泡3を発生させる集中的ガス放出防止剤を含有している。
【選択図】図4
Description
なお、溶融フラックス10Mに粘性を持たせて、図11に示すような破裂Cに伴う飛散を防止させることも考えられるところであるが、飛散を十分に防止できず、しかも、フラックスの流れが悪くなり、はんだ作業性が低下するという問題が生ずる。
また、上記集中的ガス放出防止剤が酸変性ロジンである。あるいは、上記集中的ガス放出防止剤が有機酸類である。
そして、上記集中的ガス放出防止剤が酸変性ロジンであって、フラックス総重量に対して20〜80重量%を含有していることが望ましい。
また、上記酸変性ロジンの酸価を、 200〜 300に設定するのが好ましい。
そして、上述のフラックス組成物を管状のはんだ合金の中空孔内に充填させてやに入りはんだを構成する。
本発明は、例えば、やに入りはんだ1として、図1に示すように、フラックス組成物20を管状(筒状)のはんだ合金22の中空孔24内に充填して構成する。
そして、フラックス組成物20としては、図10から図11にて既に述べた集中的ガス放出―――破裂C―――を防止する集中的ガス放出防止剤を含有している。
前者の酸変性ロジンとしては、フラックス総重量に対して、20〜80重量%を含有させるのが好ましい。より好ましくは、50〜80重量%である。また、酸変性ロジンの酸価としては、 200以上とし、特に、 200〜 300に設定する。
つまり、図2〜図5に於て、はんだ付け時の加熱によって溶融した溶融フラックス21内に、多数の極微小気泡3を発生させて、多数の極微小ガス抜きZを行う。
ベース樹脂としては、通常の(公知の)フラックスに含まれるものが使用可能である。例えば、ガムロジン、ウッドロジン、トール油ロジン、これら変性ロジン及びロジンエステルなどのロジン系樹脂、テルペン樹脂及びテルペンフェノール樹脂などのテルペン系樹脂、エポキシエステル樹脂、ポリビニルブチラール、エチルセルロースなどの熱可塑性樹脂及び軟化点60℃以上のペンタエリスリトールエステル、フラックス総量に対して8%以下の添加量であればポリアミド樹脂、高密度酸化型ポリエチレン、エチレン酢酸ビニル重合体などの高分子樹脂が使用できる。
その他、従来のフラックスに用いられている、アミン、酸化防止剤、アルコール、脂肪酸エステル等も必要に応じて添加できる。
実施例及び従来例の各フラックス組成物の成分は表1の通りであり、市販品(A社製,B社製)の成分は不明である。
また、極微小気泡の有無の確認試験は、やに入りはんだ1(図1参照)を 350℃のはんだ鏝に対して、5cm分をゆっくり送って溶融させ、目視で発泡の有無を確認した。
実施例2:水添ロジン 19.0%、酸変性ロジン 79.0%、活性剤 シクロヘキシルアミンHBr 1.0%、脂肪酸エステル 1.0% の比率でフラックスを作成、従来の方法でやに入りはんだを作製した。
実施例3:水添ロジン 11.5%、酸変性ロジン 77.5%、エチレン−酢酸ビニル重合樹脂 5.0%、活性剤 シクロヘキシルアミンHBr 1.0%、脂肪酸エステル 5.0% の比率でフラックスを作成、従来の方法でやに入りはんだを作製した。
実施例4:水添ロジン 18.5%、ロジンエステル 51.7%、酸変性ロジン 24.3%、エチレン−酢酸ビニル重合樹脂 4.5%、(活性剤としての)シクロヘキシルアミンHBr 1.0% の比率でフラックスを作成、従来の方法でやに入りはんだを作製した。
従来例1は飛散抑制を行っていないやに入りはんだである。
従来例2:水添ロジン 65.5%、ロジンエステル 13.5%、エチレン−酢酸ビニル重合樹脂 20.0%、活性剤 シクロヘキシルアミンHBr 1.0% の比率でフラックスを作成、従来の方法でやに入りはんだを作製した。
従来例2は高粘度の高分子材料を多量に添加する事で飛散を抑制しているやに入りはんだである。
市販品(B社):上記飛散防止剤を含有しないやに入りはんだである。
飛散試験、極微小気泡の有無の確認試験の結果は、次の表2、及び、図7(A)(B)、図8(A)(B)、図9(A)(B)の通りであった。
そして、飛散個数に関して、実施例1〜4は、従来例1,2及び市販品に比較して、極めて少ないことが明らかで、極微小発泡による飛散抑制効果が明らかとなった。
20 フラックス組成物
21 溶融フラックス
22 はんだ合金
23 溶融はんだ合金
24 中空孔
Z 極微小ガス抜き
Claims (6)
- はんだ付け時の加熱によって溶融フラックス(21)内に、多数の極微小気泡(3)を発生させて複数の微小ガス抜き(Z)を行う集中的ガス放出防止剤を含有していることを特徴とするフラックス組成物。
- 上記集中的ガス放出防止剤が酸変性ロジンである請求項1記載のフラックス組成物。
- 上記集中的ガス放出防止剤が有機酸類である請求項1記載のフラックス組成物。
- 上記集中的ガス放出防止剤が酸変性ロジンであって、フラックス総重量に対して20〜80重量%を含有している請求項1記載のフラックス組成物。
- 上記酸変性ロジンの酸価を、 200〜 300に設定した請求項2又は4記載のフラックス組成物。
- 請求項1,2,3,4又は5に記載のフラックス組成物(20)を管状のはんだ合金(22)の中空孔(24)内に充填したことを特徴とするやに入りはんだ。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013169557A (ja) * | 2012-02-20 | 2013-09-02 | Tamura Seisakusho Co Ltd | はんだ組成物およびその製造方法、並びにプリント配線基板 |
JP5790862B1 (ja) * | 2014-12-25 | 2015-10-07 | 千住金属工業株式会社 | やに入りはんだ用フラックス、フラックスコートはんだ用フラックス、やに入りはんだ及びフラックスコートはんだ |
KR20180134326A (ko) | 2017-06-07 | 2018-12-18 | 센주긴조쿠고교 가부시키가이샤 | 수지 함유 땜납용 플럭스, 플럭스 코트 땜납용 플럭스, 수지 함유 땜납, 및 플럭스 코트 땜납 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005059028A (ja) * | 2003-08-08 | 2005-03-10 | Toshiba Corp | 熱硬化性フラックス及びはんだペースト |
WO2007086433A1 (ja) * | 2006-01-26 | 2007-08-02 | Toeikasei Co., Ltd. | 水分散型フラックス組成物、電子部品付き電子回路基板、およびそれらの製造方法 |
JP2008100279A (ja) * | 2006-09-22 | 2008-05-01 | Ishikawa Kinzoku Kk | はんだ付け用フラックスおよびソルダペーストとヤニ入りはんだ |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005059028A (ja) * | 2003-08-08 | 2005-03-10 | Toshiba Corp | 熱硬化性フラックス及びはんだペースト |
WO2007086433A1 (ja) * | 2006-01-26 | 2007-08-02 | Toeikasei Co., Ltd. | 水分散型フラックス組成物、電子部品付き電子回路基板、およびそれらの製造方法 |
JP2008100279A (ja) * | 2006-09-22 | 2008-05-01 | Ishikawa Kinzoku Kk | はんだ付け用フラックスおよびソルダペーストとヤニ入りはんだ |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013169557A (ja) * | 2012-02-20 | 2013-09-02 | Tamura Seisakusho Co Ltd | はんだ組成物およびその製造方法、並びにプリント配線基板 |
JP5790862B1 (ja) * | 2014-12-25 | 2015-10-07 | 千住金属工業株式会社 | やに入りはんだ用フラックス、フラックスコートはんだ用フラックス、やに入りはんだ及びフラックスコートはんだ |
KR101618019B1 (ko) | 2014-12-25 | 2016-05-03 | 센주긴조쿠고교 가부시키가이샤 | 수지 플럭스 코어드 땜납용 플럭스, 플럭스 코트 땜납용 플럭스, 수지 플럭스 코어드 땜납 및 플럭스 코트 땜납 |
EP3037207A1 (en) | 2014-12-25 | 2016-06-29 | Senju Metal Industry Co., Ltd. | Flux for resin flux cored solder, flux for flux coated solder, resin flux cored solder and flux coated solder |
US10265808B2 (en) | 2014-12-25 | 2019-04-23 | Senju Metal Industry Co., Ltd. | Flux for resin flux cored solder, flux for flux coated solder, resin flux cored solder and flux coated solder |
KR20180134326A (ko) | 2017-06-07 | 2018-12-18 | 센주긴조쿠고교 가부시키가이샤 | 수지 함유 땜납용 플럭스, 플럭스 코트 땜납용 플럭스, 수지 함유 땜납, 및 플럭스 코트 땜납 |
US10688603B2 (en) | 2017-06-07 | 2020-06-23 | Senju Metal Industry Co., Ltd. | Flux for resin flux cored solder, flux for flux coated solder, resin flux cored solder, and flux coated solder |
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