JP2012015272A - 処理装置及び搬送装置 - Google Patents

Abstract

【課題】流体圧源の消費電力を低減させつつ、適切に駆動部にかかる負荷を低減させることができる処理装置等の技術を提供すること。
【解決手段】プラズマＣＶＤ装置１００は、処理室１０と、処理室１０内で被処理基板１を保持する保持機構４０と、保持機構４０を昇降させる昇降機構５０とを備える。昇降機構５０は、保持機構４０を支持し、保持機構４０を昇降させる昇降台５１と、昇降台５１を昇降させる駆動部６０と、シリンダ７０と、シリンダ７０に圧力油を供給するアキュムレータ８２を含む油圧回路８０とを有する。シリンダ７０は、アキュムレータ８２から圧力油が供給されることで、昇降台５１等の重力や、処理室１０の内外の圧力差等に起因して、昇降台５１からボールネジ軸６２に作用する力に対抗する反力を発生する。これにより、油圧ポンプ８１の消費電力を低減させつつ、適切に駆動部６０にかかる負荷を低減させることができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、昇降機構を備えた処理装置、搬送装置に関する。

従来から、処理室内でシリコン基板や、ガラス基板等の被処理基板に目的とする処理を施す処理装置や、被処理基板を搬送する搬送装置が広く知られている。

この種の処理装置、搬送装置では、処理対象物の受け渡し等のために、一般的に昇降機構が設けられている。

例えば、下記特許文献１に記載の搬送装置１では、搬送装置１の駆動軸１ａ〜1ｃを収容するハウジング６１がベローズ３６を介して真空層２０の下部に取り付けられている。そして、このハウジング６１がボールネジ５２の回転することで搬送装置１が昇降するように構成されている。

ところで、特許文献１に記載の搬送装置１では、ボールネジ５２に対して、搬送装置１の重力等に起因とした力が加わっており、この力に抗して搬送装置１を昇降させる場合、ボールネジやモータ５１に対して負担がかかってしまうといった問題がある。

このような問題に関連する技術として、例えば、下記特許文献２には、ピストンシリンダ５と圧縮空気回路９とを有するカウンタバランス機構ＣＢを備えた真空処理装置が記載されている。

この特許文献２に記載の真空処理装置では、成膜室１０が大気圧下にある場合には、圧縮空気回路９を介して圧縮空気源９０からピストンシリンダ５のヘッドカバー側ポートに圧縮空気が供給される。この場合、物品ホルダ３、支持部材４１、ベローズ支持板等の部材重力ＷＦを相殺する反力がピストンシリンダ５から生じるため、物品ホルダ３の昇降時にモータ７にかかる負荷が軽減される。

一方、成膜室１０が減圧雰囲気下にある場合には、圧縮空気回路９を介して圧縮空気源９０からピストンシリンダ５のロッドカバー側ポートに圧縮空気が供給される。この場合、成膜室１０の内外の差圧によりベローズ支持板６に発生する力ｆから物品ホルダ３、支持部材４１、ベローズ支持板６等の部材重力ＷＦを差し引いた力Ｆ（Ｆ＝ｆ−ＷＦ）を相殺する反力がピストンシリンダ５から生じる。これにより、成膜室１０が減圧雰囲気下にある場合にも、物品ホルダ３の昇降時にモータ７にかかる負荷が軽減される。

特開２００６−０１３３７１号公報（段落［００５８］〜［００６０］図４） 特開２００５−２７７３００号公報（段落［００４７］〜［００５３］、図１、図２）

ところで、上記特許文献２の真空処理装置では、圧縮空気源９０から圧縮空気回路９を介してピストンシリンダ５のヘッドカバー側ポート、あるいはロッドカバー側ポートに圧縮空気が供給されるとき、圧縮空気源９０は駆動され続けている。従って、特許文献１に記載の真空処理装置は、圧縮空気源９０の消費電力が大きく、エネルギー効率が悪い。

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、流体圧源の消費電力を低減させつつ、適切に駆動部にかかる負荷を低減させることができる昇降機構を有する処理装置等の技術を提供することにある。

本発明の一形態に係る処理装置は、処理室と、保持機構と、昇降部と、駆動部と、アキュムレータと、反力発生部とを具備する。
前記保持機構は、前記処理室内で処理対象物を保持する。
前記昇降部は、前記保持機構を支持し、前記保持機構を昇降させる昇降部と、
前記駆動部は、前記昇降部を昇降させる駆動力を発生する駆動源と、前記昇降部の昇降方向へ延び、前記駆動源の駆動力を前記昇降部に伝達する駆動力伝達部材とを有する。
前記アキュムレータは、流体圧源から供給される作動流体を蓄圧する。
前記反力発生部は、前記アキュムレータから前記作動流体が供給されることで、前記昇降方向に沿って前記昇降部から前記駆動伝達部材に作用する力に対抗する反力を発生し、前記発生された反力を前記昇降部に伝える。

本発明の一形態に係る搬送装置は、搬送室と、搬送機構と、昇降部と、駆動部と、アキュムレータと、反力発生部とを具備する。
前記搬送機構は、前記搬送室内で処理対象物を搬送する。
前記昇降部は、前記搬送機構を支持し、前記搬送機構を昇降させる。
前記駆動部は、前記昇降部を昇降させる駆動力を発生する駆動源と、前記昇降部の昇降方向へ延び、前記駆動源の駆動力を前記昇降部に伝達する駆動力伝達部材とを有する。
前記アキュムレータは、流体圧源から供給される作動流体を蓄圧する。
前記反力発生部は、前記アキュムレータから前記作動流体が供給されることで、前記昇降方向に沿って前記昇降部から前記駆動伝達部材に作用する力に対抗する反力を発生し、前記発生された反力を前記昇降部に伝える。

本発明の一実施形態に係るプラズマＣＶＤ装置を示す図である。 プラズマＣＶＤ装置の内部構成を示すブロック図である。 プラズマＣＶＤ装置の動作を説明するための図であり、処理室が減圧状態である場合及び処理室が大気圧状態である場合の油圧回路の状態を示す図である。 １つの電磁切り替え弁により第１の供給状態と、第２の供給状態との切り替える場合の一例を示す図である。 他の実施の形態に係るプラズマＣＶＤ装置を示す図である。 処理室が減圧状態である場合及び処理室が大気圧状態である場合の油圧回路の状態を示す図である。 本発明の一実施形態に係る搬送装置を示す図である。

本発明の一形態に係る処理装置は、処理室と、保持機構と、昇降部と、駆動部と、アキュムレータと、反力発生部とを具備する。
前記保持機構は、前記処理室内で処理対象物を保持する。
前記昇降部は、前記保持機構を支持し、前記保持機構を昇降させる。
前記駆動部は、前記昇降部を昇降させる駆動力を発生する駆動源と、前記昇降部の昇降方向へ延び、前記駆動源の駆動力を前記昇降部に伝達する駆動力伝達部材とを有する。
前記アキュムレータは、流体圧源から供給される作動流体を蓄圧する。
前記反力発生部は、前記アキュムレータから前記作動流体が供給されることで、前記昇降方向に沿って前記昇降部から前記駆動伝達部材に作用する力に対抗する反力を発生し、前記発生された反力を前記昇降部に伝える。

処理装置としては、スパッタリング装置、蒸着装置等のＰＶＤ（Physical Vapor Deposition）装置や、プラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）装置、熱ＣＶＤ装置等のＣＶＤ装置、レジスト塗布装置等が挙げられる。

この処理装置では、流体圧源からアキュムレータに作動流体が供給されてアキュムレータに作動流体が一端、蓄圧され、その蓄圧された作動流体が反力発生部に供給される。反力発生部では、アキュムレータから供給される作動流体により、昇降部から駆動伝達部材に作用する力に対抗する反力が発生する。そして、その発生した反力が昇降部に伝えられる。すなわち、駆動部の駆動伝達部材には、昇降部の重力等（昇降部上に搭載物が搭載される場合には、昇降部及び搭載物の重力等）に起因した力が作用することになるが、その力に対抗する反力が反力発生部から発生し、その反力が昇降部に伝えられる。これにより、駆動伝達部材にかかる負荷が軽減されるので、駆動源が駆動され、昇降部が昇降される際には、駆動源にかかる負荷も軽減されており、スムーズに昇降部を昇降させることができる。
また、この処理装置では、アキュムレータから作動流体が反力発生部に供給されることで、反力を発生させることができるので、昇降部の昇降時に流体圧源を駆動させ続ける必要もない。これにより、流体圧源の消費電力を低減させることができる。
このように、本発明の一形態に係る処理装置では、流体圧源の消費電力を低減させつつ、適切に駆動部にかかる負荷を低減させることができる。

上記処理装置は、センサと、制御部とをさらに有していてもよい。
前記センサは、前記アキュムレータの圧力を検出する。
前記制御部は、前記検出された前記アキュムレータの圧力の検出値に応じて、前記流体圧源の駆動を制御することで、前記アキュムレータに蓄圧される前記作動流体の圧力を制御する。

これにより、例えば、作動流体のリークにより、アキュムレータの圧力が低下した場合に、アキュムレータの圧力を適切に増加させることができる。これにより、駆動部の負荷軽減のための反力を反力発生部に適切に発生させることができる。

上記処理装置において、前記制御部は、前記アキュムレータの圧力の検出値が第１の値以下となった場合に、前記流体圧源を駆動させるように、かつ、前記アキュムレータの圧力の検出値が第１の値よりも大きい第２の値以上となった場合に、前記流体圧源の駆動を停止させるように、前記流体圧源の駆動を制御してもよい。

この場合、アキュムレータの圧力が低下して、アキュムレータの圧力の検出値が第１の値以下となったときに流体圧源が駆動され、これによりアキュムレータの圧力が上昇してアキュムレータの圧力の検出値が第２の値以上となった場合に流体圧源の駆動が停止される。このように、本発明の一形態に係る処理装置では、流体圧源が駆動されるタイミングが限られているので、流体圧源の消費電力を適切に低減させることができる。

上記処理装置において、前記昇降部は、第１の圧力と、前記第１の圧力よりも高い第２の圧力との間で圧力が変化する減圧室に対してベローズを介して接続されていてもよい。
この場合、前記反力発生部は、前記減圧室が前記第１の圧力のときに前記昇降部から前記駆動伝達部材に作用する第１の力に対抗する第１の反力を発生し、前記減圧室が前記第２の圧力のときに前記昇降部から前記駆動伝達部材に作用する第２の力に対抗する第２の反力を発生する。
この場合、前記処理装置は、前記減圧室の内圧に応じて、前記反力発生部により前記第１の反力が発生される第１の状態と、前記反力発生部により前記第２の反力が発生される第２の状態とを切り替える切り替え部をさらに具備していてもよい。

処理装置の昇降部が、第１の圧力と、第１の圧力よりも高い第２の圧力との間で圧力が変化する減圧室にベローズを介して接続されている場合、減圧室が第１の圧力のときと、第２の圧力のときとでは、昇降部から駆動伝達部材に作用する力の大きさが変化する。
本発明の一形態に係る処理装置では、反力発生部により、減圧室が第１の圧力のときに駆動伝達部材に作用する第１の力に対抗する第１の反力が発生され、かつ、減圧室が第２の圧力のときに駆動伝達部材に作用する第２の力に対抗する第２の力が発生される。そして、切り替え部により、反力発生部から第１の反力が発生される第１の状態と、第２の反力が発生される第２の状態とが、減圧室の内圧に応じて切り替えられる。
このように、本発明の一形態では、減圧室の圧力の変化に応じて昇降部から駆動伝達部材に作用する力が変化したとしても、駆動伝達部材に作用する力に応じた適切な反力を反力発生部から発生させることができる。

上記処理装置において、前記切り替え部は、電磁切り替え弁と、センサと、制御部とを有していてもよい。
前記電磁切り替え弁は、前記アキュムレータと前記反力発生部との間に介在される。
前記センサは、前記減圧室の内圧を検出する。
前記制御部は、前記検出された前記減圧室の内圧の検出値に応じて、前記電磁切り替え弁の駆動を制御することで前記第１の状態と、前記第２の状態とを切り替える。

上記処理装置において、前記反力発生部は、シリンダチューブと、ピストンと、ロッドとを有するシリンダであってもよい。
前記ピストンは、前記シリンダチューブ内部を第１の部屋及び第２の部屋とに区分し、前記第１の部屋に前記アキュムレータから前記作動流体が供給されて前記第１の反力を発生し、かつ、前記第２の部屋にアキュムレータから前記作動流体が供給されて前記第２の反力を発生する。
前記ロッドは、前記ピストンに発生した前記第１の反力または前記第２の反力を前記昇降部に伝える。
この場合、前記切り替え部は、前記減圧室の内圧に応じて、前記アキュムレータから前記第１の部屋に前記作動流体を供給する第１の供給状態と、前記アキュムレータから前記第２の部屋に前記作動流体を供給する第２の供給状態とを切り替えることで前記第１の状態と、前記第２の状態とを切り替えてもよい。

上記したように、減圧室が第１の圧力のときと、第２の圧力のときとでは、昇降部から駆動伝達部材に作用する力が変化する。この場合、減圧室が第１の圧力のときと、第２の圧力のときとでは、昇降部から駆動伝達部材に作用する力の向きが反転する場合がある。
本発明の一形態では、切り替え部により第１の供給状態と、第２の供給状態とが切り替えられ、第１の供給状態では、シリンダチューブの第１の部屋にアキュムレータから作動流体が供給され、第２の供給状態では、シリンダチューブの第２の部屋にアキュムレータから作動流体が供給される。そして、第１の部屋にアキュムレータから作動流体供給されることでピストンに第１の反力が発生し、かつ、第２の部屋にアキュムレータから作動流体が供給されることで第２の反力が発生する。この場合、反力発生部に発生する第１の反力と、第２の反力とでは、力の向きが反転する。
このように、本発明の一形態では、第１の反力と第２の反力とで力の向きを反転させることができるので、昇降部から駆動伝達部材に作用する力の向きが反転する場合に、駆動伝達部材に作用する力の向きに応じた適切な向きに反力を発生させることができる。

本発明の一形態に係る搬送装置は、搬送室と、搬送機構と、昇降部と、駆動部と、アキュムレータと、反力発生部とを具備する。
前記搬送機構は、前記搬送室内で処理対象物を搬送する。
前記昇降部は、前記搬送機構を支持し、前記搬送機構を昇降させる。
前記駆動部は、前記昇降部を昇降させる駆動力を発生する駆動源と、前記昇降部の昇降方向へ延び、前記駆動源の駆動力を前記昇降部に伝達する駆動力伝達部材とを有する。
前記アキュムレータは、流体圧源から供給される作動流体を蓄圧する。
前記反力発生部は、前記アキュムレータから前記作動流体が供給されることで、前記昇降方向に沿って前記昇降部から前記駆動伝達部材に作用する力に対抗する反力を発生し、前記発生された反力を前記昇降部に伝える。

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。
＜第１実施形態＞
［プラズマＣＶＤ装置の全体構成及び各部の構成］
図１は、本発明の第１実施形態に係るプラズマＣＶＤ装置を示す図である。
プラズマＣＶＤ装置１００は、処理室１０（減圧室）と、処理室１０の下方に連結されたフレーム１１とを備える。また、プラズマＣＶＤ装置１００は、処理室１０内を真空排気する真空排気部２０と、処理室１０内にシランガスや、水素ガス等のガスを供給するガス供給部（図示せず）と、処理室１０内にプラズマを発生させるためのプラズマ発生部３０とを備える。

また、プラズマＣＶＤ装置１００は、処理室１０内でシリコン基板や、ガラス基板等の被処理基板１（処理対象物）を保持する保持機構４０と、保持機構４０を昇降させる昇降機構５０とを備える。

処理室１０の側周壁部にはゲートバルブ１２が設けられており、処理室１０は、このゲートバルブ１２を介して、被処理基板１が搬送される搬送室等と繋がっている。また、処理室１０には、処理室１０の圧力を検出する処理室圧力センサ１４が設けられる。

真空排気部２０は、処理室１０内を真空排気する真空ポンプ２２と、真空ポンプ２２による排気量を調整するコンダクタンスバルブ２１とを含む。
プラズマ発生部３０は、プラズマ発生用高周波電源３２と、高周波放電電極３１と、インピーダンス整合のためのマッチングボックス３３とを含む。

保持機構４０は、ホルダ４１と、ホルダ４１上に配置され、被処理基板１を加熱するヒータ４２と、上端部がホルダ４１の下部に連結され、ホルダ４１を下方から支持する支持軸４３とを含む。

昇降機構５０は、保持機構４０を支持し、保持機構４０を昇降させる昇降台５１（昇降部）と、昇降台５１を昇降させる駆動部６０とを含む。また、昇降機構５０は、フレーム１１の下壁部に連結されたシリンダ７０（反力発生部）と、シリンダ７０に圧力油を供給する油圧回路８０とを含む。

昇降台５１は、ベローズ１３を介して処理室１０の下方に連結される。ベローズ１３は、その上端部が処理室１０の下壁部に連結されており、下端部が昇降台５１の上部に連結されている。ベローズ１３は、昇降台５１の昇降動作に応じて伸縮し、処理室１０内の気密性を保持する。

昇降台５１の略中央には、支持軸４３を軸支するシール軸受５２が設けられており、昇降台５１の中央の下部には、支持軸４３の下端部に連結され、支持軸４３を回転させる保持機構回転用モータ５３が設けられている。昇降台５１の下方には、保持機構回転用モータ５３を覆うようにカバー部材５４が設けられている。
昇降台５１の一方の側端部には、フレーム１１の内壁部に上下方向に沿って設けられた案内レール５６に案内される案内輪５５が設けられている。昇降台５１の他方の側端部には、ボールネジナット６３が設けられている。

昇降台５１を駆動する駆動部６０は、昇降台５１を昇降させる駆動力を発生するボールネジ駆動用モータ６１（駆動源）（以下、モータ６１）を含む。モータ６１は、フレーム１１の下壁部に設けられている。また、駆動部６０は、昇降台５１の昇降方向（上下方向）へ沿って延在し、モータ６１によって回転されるボールネジ軸６２（駆動伝達部材）と、昇降台５１の側端部に設けられ、ボールネジ軸６２に螺合するボールネジナット６３とを含む。

ボールネジ軸６２の上端部は、フレーム１１の内周壁に固定された軸受６４によって回転可能に軸支されている。
ボールネジ軸６２は、モータ６１の駆動により回転されることで、ボールネジナット６３を介してモータ６１の駆動力を昇降台５１に伝達し、昇降台５１を昇降させる。

シリンダ７０は、シリンダチューブ７１と、シリンダチューブ７１内部をロッド側室７１ａと、ヘッド側室７１ｂとに区分するピストン７２と、ロッド側室７１ａに配置されたロッド７３とを有する。

シリンダチューブ７１は、ロッド側室７１ａに連通するロッド側ポート７４と、ヘッド側室７１ｂに連通するヘッド側ポート７５とを有する。ロッド７３は、下端部がピストン７２に連結されており、上端部がカバー部材５４の下部に連結されている。

油圧回路８０は、油圧ポンプ８１（流体圧源）と、油圧ポンプ８１から圧力油が供給されて、内部に圧力油を蓄圧し、蓄圧された圧力油をシリンダ７０に供給するアキュムレータ８２とを含む。また、油圧回路８０は、アキュムレータ８２とシリンダチューブ７１のロッド側ポート７４との間に介在された第１の電磁切り替え弁８３と、アキュムレータ８２とシリンダチューブ７１のヘッド側ポート７５との間に介在された第２の電磁切り替え弁８４とを含む。

油圧ポンプ８１と、アキュムレータ８２との間には、アキュムレータ８２に蓄圧された油が油圧ポンプ８１側に逆流することを防止するために第１のチェック弁８７が設けられている。また、油圧回路８０には、アキュムレータ８２の圧力、あるいは、アキュムレータ８２からシリンダ７０に供給される圧力油の圧力が過度に高くならないように、リリーフバルブ８６が設けられている。

また、油圧回路８０には、リザーバタンク８９が設けられており、リザーバタンク８９と、油圧ポンプ８１との間には、油圧ポンプ８１側からリザーバタンク８９側に油が逆流することを防止するために第２のチェック弁８８が設けられている。

アキュムレータ８２としては、例えば、ブラダ型、バネ型、ピストン７２型、ダイヤフラム型のアキュムレータ８２が挙げられる。アキュムレータ８２としては、いずれの形態であっても構わないが、本実施形態では、内部にブラダ（ゴム袋）（図示せず）を有するブラダ型のアキュムレータ８２であるとして説明する。

アキュムレータ８２のブラダには、窒素などの気体が封入されている。アキュムレータ８２は、油圧ポンプ８１から圧力油が供給されてブラダが圧縮されることで、内部に圧力油を蓄圧することができる。
油圧回路８０のアキュムレータ８２の近くには（例えば、アキュムレータ８２と電磁切り替え弁との間）、アキュムレータ８２の圧力を検出するために、油圧回路８０の回路圧を測定するアキュムレータ圧力センサ８５が設けられる。

第１の電磁切り替え弁８３は、一対のソレノイド８３ａ、８３ｂを有する３ポート２位置切り替え型の電磁切り替え弁８３である。第２の電磁切り替え弁８４も一対のソレノイド８４ａ、８４ｂを有する３ポート２位置切り替え型の電磁切り替え弁８４である。
第１の電磁切り替え弁８３及び第２の電磁切り替え弁８４は、制御部５（図２参照）の制御により、処理室１０の内圧に応じて位置が切り替えられ、ロッド側室７１ａにアキュムレータ８２から圧力油が供給される第１の供給状態と、ヘッド側室７１ｂにアキュムレータ８２から圧力油が供給される第２の供給状態とを切り替える（図３参照）。

図２は、プラズマＣＶＤ装置１００の内部構成を示すブロック図である。
図２に示すように、プラズマＣＶＤ装置１００は、プラズマＣＶＤ装置１００の各部を統括的に制御するマイクロコントローラ等の制御部５を備える。制御部５は、油圧ポンプ８１、処理室圧力センサ１４、アキュムレータ圧力センサ８５、プラズマ発生用高周波電源３２、メモリ６、ソレノイド８３ａ、８３ｂ、８４ａ、８４ｂ、ボールネジ駆動用モータ６１、保持機構回転用モータ５３、真空ポンプ２２等と電気的に接続されている。
メモリ６には、あらかじめ制御部５が各部を制御するために必要なプログラム等が記憶されている。

［昇降台からボールネジ軸に作用する力］
ここで、昇降台５１や、昇降台５１に支持される保持機構４０の重力等に起因して、昇降台５１の昇降方向（上下方向）に沿って昇降台５１からボールネジ軸６２に作用する力について説明する。
昇降台５１からボールネジ軸６２に作用する力は、処理室１０が減圧状態である場合と、処理室１０が大気圧状態である場合とで異なっているので、分けて説明する。

まず、処理室１０が減圧状態である場合について説明する。
なお、このプラズマＣＶＤ装置１００では、プラズマＣＶＤ装置１００の設置調整や、メンテナンス作業などにより、処理室１０の内圧が大気圧とされている場合を除き、原則的には処理室１０の内部は減圧されている。そして、プラズマＣＶＤ装置１００は、処理室１０が減圧された状態で生産稼動される。

処理室１０が減圧されている状態では、ボールネジ軸６２には、向きの異なる２つの力が作用する。すなわち、ボールネジ軸６２には、昇降台５１や、昇降台５１に支持される保持機構４０、昇降台５１の下部に固定されたモータ６１、モータ６１を覆うカバー部材５４等の重力ｆが、下向きに作用する。また、ボールネジ軸６２には、ベローズ１３の断面積Ｓに、処理室１０の内外の圧力差を乗じた値の力ｆ’が上向きに作用する。そして、この２つの力の差分（ｆ−ｆ’）がボールネジ軸６２に作用する力Ｆ（Ｆ＝ｆ−ｆ’）となる。

ここで、ボールネジ軸６２に作用する力Ｆは、ｆ’＞ｆの場合と、ｆ＞ｆ’の場合とで向きが異なり、ｆ’＞ｆのとき、力Ｆは、上向きであり、ｆ＞ｆ’のとき、力Ｆは、下向きである。すなわち、力Ｆは、処理室１０の内外の圧力差による力ｆ’が、昇降台５１等の重力ｆよりも大きい場合（ｆ’＞ｆ）、上向きとなり、昇降台５１等の重力ｆが処理室１０の内外の圧力差ｆ’よりも大きい場合（ｆ＞ｆ’）、下向きとなる。

なお、本実施形態では、処理室１０の内外の圧力差による力ｆ’が、昇降台５１等の重力ｆよりも大きく（ｆ’＞ｆ）、減圧時に昇降台５１からボールネジ軸６２に上向きに力Ｆが作用する場合について説明する。

次に、処理室１０が大気圧状態である場合に、昇降台５１からボールネジ軸６２に作用する力Ｆ’について説明する。
例えば、プラズマＣＶＤ装置１００の設置調整時や、メンテナンス作業時には、処理室１０の内部は大気圧に解放されている。この場合、ボールネジ軸６２に作用する力Ｆ’は、昇降台５１や、昇降台５１に支持される保持機構４０、昇降台５１の下部に固定されたモータ６１、モータ６１を覆うカバー部材５４等の重力ｆと等しい（Ｆ’=ｆ）。

なお、以降の説明では、処理室１０が減圧状態である場合にボールネジ軸６２に作用する力Ｆを第１の力Ｆ、処理室１０が大気圧状態である場合にボールネジ軸６２に作用する力Ｆ’を第２の力Ｆ’と呼ぶ。

上記シリンダ７０は、アキュムレータ８２から圧力油が供給されることで、上述の力Ｆ、Ｆ’、すなわち、昇降台５１等の重力や、処理室１０の内外の圧力差等に起因して、昇降台５１からボールネジ軸６２に作用する力Ｆ、Ｆ’に対抗する反力を発生する。

具体的には、シリンダ７０は、処理室１０が減圧された状態では、ロッド側室７１ａにアキュムレータ８２から圧力油が供給されることで（第１の供給状態）、第１の力Ｆ（Ｆ＝ｆ−ｆ’）に対抗する第１の反力ＲＦを発生する（第１の状態）（図３（Ａ）参照）。

一方、処理室１０が大気圧状態である場合には、ヘッド側室７１ｂにアキュムレータ８２から圧力油が供給されることで（第２の供給状態）、第２の力Ｆ’（Ｆ’=ｆ）に対抗する第２の反力ＲＦ’を発生する（第２の状態）（図３（Ｂ）参照）。
なお、本実施形態では、第１の反力ＲＦは下向きに、第２の反力ＲＦ’は上向きに発生する。

［動作説明］
次に、プラズマＣＶＤ装置１００の動作について説明する。
図３は、プラズマＣＶＤ装置１００の動作を説明するための図であり、処理室１０が減圧状態である場合及び処理室１０が大気圧状態である場合の油圧回路８０の状態を示す図である。図３（Ａ）には、処理室１０が減圧状態である場合の油圧回路８０の状態（第１の電磁切り替え弁８３及び第２の電磁切り替え弁８４の位置）が示されており、図３（Ｂ）には、処理室１０が大気圧状態である場合の油圧回路８０の状態（第１の電磁切り替え弁８３及び第２の電磁切り替え弁８４の位置）が示されている。

（処理室１０が大気圧状態から減圧状態に変化する場合）
まず、処理室１０が大気圧状態から減圧状態に変化する場合のプラズマＣＶＤ装置１００の動作について説明する。処理室１０が大気圧状態から減圧状態に変化する場合とは、例えば、メンテナンス等により処理室１０が大気圧に開放され、その後、プラズマＣＶＤ装置１００を生産稼動状態とするために、処理室１０を減圧状態にする場合等である。

処理室１０が大気圧状態である場合、ソレノイド８３ｂ、８４ａがＯＮ、ソレノイド８３ａ、８４ｂがＯＦＦとされており、第１の電磁切り替え弁８３及び第２の電磁切り替え弁８４は、図３（Ｂ）に示す位置に配置されている。

メンテナンス調整等が終了後、制御部５の制御により真空ポンプ２２が駆動され、処理室１０内の圧力が低下する。
処理室１０内の圧力は、処理室圧力センサ１４により検出され、検出された検出値が制御部５に入力される。制御部５は、検出された値が所定の圧力（大気圧よりも低く、生産稼動時の圧力と同程度の圧力）に対応する値以下の値であるかを判定する。制御部５は、検出された値が上記値以下の値である場合、ソレノイド８３ｂ、８４ａをＯＦＦとし、逆にソレノイド８３ａ、８４ｂをＯＮとする。

これにより、第１の電磁切り替え弁８３及び第２の電磁切り替え弁８４の位置が切り替えられ、油圧回路８０は、図３（Ａ）に示す状態となる。

処理室１０内が減圧された状態では、図３（Ａ）に示すように、第１の電磁切り替え弁８３によりアキュムレータ８２と、ロッド側室７１ａとの間の油路が開通し、アキュムレータ８２からロッド側室７１ａに圧力油が供給される。一方で、アキュムレータ８２とヘッド側室７１ｂとの間の油路は、第２の電磁切り替え弁８４により遮蔽されており、ヘッド側室７１ｂには、アキュムレータ８２から圧力油は、供給されない。なお、このとき、第２の電磁切り替え弁８４により、ヘッド側室７１ｂとリザーバタンク８９との間の油路が開通されており、これにより、ヘッド側室７１ｂの内部の油は、フリーの状態とされる。

ロッド側室７１ａにアキュムレータ８２から圧力油が供給されることで、ロッド側室７１ａの内部の圧力と、ヘッド側室７１ｂの内部の圧力に差が生じ、これにより、ピストン７２には、下方へ向けて第１の反力ＲＦが発生する。すなわち、ロッド側室７１ａにアキュムレータ８２から圧力油が供給されることで、処理室１０が減圧されたときにボールネジ軸６２に上向きに作用する第１の力Ｆ（Ｆ＝ｆ−ｆ’）に対抗する第１の反力ＲＦが下向きにピストン７２に発生する。なお、第１の力Ｆは、上記したように、昇降台５１、保持機構４０等の重力ｆと、処理室１０の内外の圧力差による力ｆ’との差分（Ｆ＝ｆ−ｆ’）である。

ピストン７２により発生された第１の反力ＲＦは、ロッド７３、カバー部材５４を介して昇降台５１に伝えられる。これにより、昇降台５１の昇降方向に沿って、昇降台５１からボールネジ軸６２に作用する第１の力Ｆは、第１の反力ＲＦによってほとんど相殺される。なお、十分な第１の反力を発生させるためには、ヘッド側室７１ａ内の圧力が大気圧より高い圧力となるように圧力油を供給することが望ましい。

処理室１０が減圧された状態において、被処理基板１の受け渡し等のために、昇降台５１、昇降台５１に支持された保持機構４０が昇降される。この場合、制御部５の制御により、モータ６１が駆動され、ボールネジ軸６２が回転することで、昇降台５１や、昇降台５１に支持された保持機構４０が昇降される。

昇降台５１等の昇降時には、上記したように、昇降台５１からボールネジ軸６２に作用する第１の力Ｆは、第１の反力ＲＦによってほとんど相殺されているので、モータ６１は、小さな力でスムーズに昇降台５１を昇降させることができる。また、ボールネジ軸６２や、モータ６１にかかる負荷が軽減されるので、駆動部６０の長寿命化を図ることができる。

また、本実施形態に係るプラズマＣＶＤ装置１００では、昇降台５１や、昇降台５１に支持された保持機構４０の昇降時には、アキュムレータ８２とピストン７２との間でエネルギーが交換される。

すなわち、駆動部６０の駆動により昇降台５１、保持機構４０等が下方へ移動する場合、それに伴い、ピストン７２が下方へ移動することになるが、このとき、アキュムレータ８２内に蓄圧された圧力油がロッド側室７１ａに送り出されて、アキュムレータ８２内のブラダが膨らむ。この場合、アキュムレータ８２側からピストン７２側にエネルギーが移動する。

一方、駆動部６０の駆動による昇降台５１、保持機構４０等の上方へ移動に応じて、ピストン７２が上方へ移動する場合、ロッド側室７１ａ側の圧力油がアキュムレータ８２内に戻されて、アキュムレータ８２内のブラダが縮む。この場合、ピストン７２側からアキュムレータ８２側にエネルギーが移動する。

このように、本実施形態に係るプラズマＣＶＤ装置１００では、アキュムレータ８２と、ピストン７２との間でエネルギーが交換されるので、エネルギー効率よく第１の反力ＲＦを発生させることができる。

また、ピストン７２に第１の反力ＲＦを発生させるために昇降台５１、保持機構４０等の昇降時に油圧ポンプ８１を駆動させ続ける必要もないので、消費電力を低減させることができる。

ところで、上記したように、駆動部６０による昇降台５１、保持機構４０の昇降に応じて、ピストン７２が上下方向へ移動するとき、アキュムレータ８２内のブラダが膨張、あるいは収縮する。このように、アキュムレータ８２内のブラダが膨張、あるいは収縮することによって、ピストン７２の位置に応じて、アキュムレータ８２からロッド側室７１ａに供給される圧力油の圧力が変化してしまう。これにより、ピストン７２の位置に応じて、ピストン７２に発生する第１の反力ＲＦが変化してしまう。

例えば、ピストン７２がシリンダチューブ７１の上方寄りに位置している場合と、ピストン７２がシリンダチューブ７１の下方寄りに位置している場合とを比較すると、ピストン７２が上方寄りに位置している場合の方が、ピストン７２が下方寄りに位置している場合よりも、アキュムレータ８２内のブラダが縮んだ状態である。従って、ピストン７２がシリンダチューブ７１の上方寄りに位置している場合の方が、ピストン７２が下方寄りに位置している場合よりも、アキュムレータ８２からシリンダ７０に供給される圧力油の圧力が大きく、また、ピストン７２に発生する第１の反力ＲＦも大きい。

このように、ピストン７２の位置に応じて、ピストン７２に発生する第１の反力ＲＦが変化してしまうといった問題がある。しかしながら、このような問題は、アキュムレータ８２の容量と、シリンダ７０の内部断面積との比率を調整することにより、解消することができる。すなわち、アキュムレータ８２の容量をシリンダ７０の内部断面積に比して大きく（シリンダ７０の内部断面積をアキュムレータ８２の容量に比して小さく）すればよい。これにより、ピストン７２の移動によるブラダの大きさの変化量が小さくなるので、ピストン７２の位置によらず、ピストン７２に発生する第１の反力ＲＦを一定にすることができる。

ここで、プラズマＣＶＤ装置１００を生産稼動状態（減圧状態）で、長期間使用した場合、アキュムレータ８２と、ロッド側室７１ａとの間で生じる圧力油のリークにより、アキュムレータ８２内のブラダの圧力が低くなってしまう場合がある。この場合、ピストン７２に発生する第１の反力ＲＦが小さくなってしまうといった問題がある。

そこで、本実施形態では、アキュムレータ８２の圧力が低下した場合に、アキュムレータ８２の圧力を上昇させる処理が実行される。

このときの動作を簡単に説明する。
アキュムレータ圧力センサ８５は、アキュムレータ８２の圧力を検出し、制御部５に出力する。制御部５は、検出された値が第１の値以下の値であるかを判定する。第１の値は、ピストン７２に適切な第１の反力ＲＦを発生させるために設定された値であって、アキュムレータ８２の圧力の下限に対応する値である。

制御部５は、アキュムレータ８２の圧力が第１の値となった場合に、油圧ポンプ８１を駆動させる。油圧ポンプ８１が駆動されると、第１のチェック弁８７を介して、圧力油がアキュムレータ８２の内部へ供給され、圧力油がアキュムレータ８２内部に蓄圧される。このとき、アキュムレータ８２内のブラダが縮み、ブラダの圧力が上昇する。

制御部５は、油圧ポンプ８１を駆動させると、アキュムレータ圧力センサ８５からの検出値が第２の値以上であるか否かを判定する。第２の値は、ピストン７２に適切な第１の反力ＲＦを発生させるために設定された値であって、アキュムレータ８２の圧力の上限に対応する値である。

制御部５は、アキュムレータ圧力センサ８５からの検出値が第２の値以上となった場合、油圧ポンプ８１の駆動を停止させる。

このような処理により、圧力油のリークにより、アキュムレータ８２の圧力が低下してしまった場合に、ブラダの圧力を適切に増加させることができる。これにより、適切な大きさの第１の反力ＲＦをピストン７２に発生させることができる。

（処理室１０が減圧状態から大気圧状態に変化する場合）
次に、処理室１０が減圧状態から大気圧状態に変化する場合について説明する。
処理室１０が減圧状態から大気圧状態に変化する場合とは、例えば、プラズマＣＶＤ装置１００が生産稼動状態であり、処理室１０が減圧状態である場合に、メンテナンス等により処理室１０が大気圧に開放される場合等である。

制御部５は、処理室圧力センサ１４により検出された値が、所定の圧力（大気圧程度で、生産稼動時の圧力よりも大きい圧力）に対応する値以上の値であるか否かを判定する。制御部５は、検出された値が上記値以上の値である場合、ソレノイド８３ａ、８４ｂをＯＦＦとし、逆にソレノイド８３ｂ、８４ａをＯＮとする。

これにより、第１の電磁切り替え弁８３及び第２の電磁切り替え弁８４の位置が切り替えられ、油圧回路８０は、図３（Ｂ）に示す状態となる。

処理室１０が大気圧状態の場合、図３（Ｂ）に示すように、第２の電磁切り替え弁８４によりアキュムレータ８２と、ヘッド側室７１ｂとの間の油路が開通し、アキュムレータ８２からヘッド側室７１ｂに圧力油が供給される。一方で、アキュムレータ８２とロッド側室７１ａとの間の油路は、第１の電磁切り替え弁８３により遮蔽される。なお、このとき、第１の電磁切り替え弁８３により、ロッド側室７１ａと、リザーバタンク８９との間の油路が開通され、これにより、ロッド側室７１ａ内の油は、フリーの状態とされる。

ヘッド側室７１ｂにアキュムレータ８２から圧力油が供給されることで、ピストン７２には、上方へ向けて第２の反力ＲＦ’が発生する。すなわち、ヘッド側室７１ｂにアキュムレータ８２から圧力油が供給されることで、処理室１０が大気圧状態であるときにボールネジ軸６２に下向きに作用する第２の力Ｆ’（Ｆ’=ｆ）に対抗する第２の反力ＲＦ’が上向きにピストン７２に発生する。ここで、上記したように、第２の力Ｆ’は、昇降台５１や、昇降台５１に支持される保持機構４０等の重力ｆに起因して、昇降台５１からボールネジ軸６２に下向に作用する力である（Ｆ’=ｆ）。なお、十分な第２の反力を発生させるためには、ヘッド側室７１ｂ内の圧力が大気圧より高い圧力となるように圧力油を供給することが望ましい。

これにより、昇降台５１の昇降方向に沿って、昇降台５１からボールネジ軸６２に作用する第２の力Ｆ’は、第２の反力ＲＦ’によってほとんど相殺される。

処理室１０が大気圧状態である場合において、メンテナンス等のために、昇降台５１、昇降台５１に支持された保持機構４０等が昇降される。

昇降台５１等の昇降時には、昇降台５１からボールネジ軸６２に作用する第２の力Ｆ’（昇降台５１等の重力ｆ）は、第２の反力ＲＦ’によってほとんど相殺されているので、モータ６１は、小さな力でスムーズに昇降台５１を昇降させることができる。

また、昇降台５１や、昇降台５１に支持された保持機構４０の昇降時には、アキュムレータ８２とピストン７２（ヘッド側室７１ｂ）との間でエネルギーが交換されるので、エネルギー効率よく第２の反力ＲＦ’を発生させることができる。また、ピストン７２に第２の反力ＲＦ’を発生させるために昇降台５１、保持機構４０等の昇降時に油圧ポンプ８１を駆動させ続ける必要もないので、消費電力を低減させることができる。

なお、処理室１０が大気圧状態である場合においても、アキュムレータ８２の圧力が低下した場合に、アキュムレータ８２の圧力を上昇させる処理を制御部５に実行させてもよい。

［第１実施形態変形例］
上述の実施形態では、２つの電磁切り替え弁８３、８４により、アキュムレータ８２からロッド側室７１ａに圧力油が供給される状態（第１の供給状態）と、アキュムレータ８２からヘッド側室７１ｂに圧力油が供給される状態（第２の供給状態）とを切り替える場合について説明した。しかしこれに限られず、１つの電磁切り替え弁により、第１の供給状態と、第２の供給状態とを切り替えてもよい。

図４は、１つの電磁切り替え弁により第１の供給状態と、第２の供給状態との切り替える場合の一例を示す図である。なお、図４（Ａ）には、処理室１０が減圧状態である場合の油圧回路の状態（電磁切り替え弁の位置）が示されており、図４（Ｂ）には、処理室１０が大気圧状態である場合の油圧回路の状態（電磁切り替え弁の位置）が示されている。
図４に示す油圧回路９０の電磁切り替え弁９１は、２つのソレノイド９１ａ、９１ｂを有する３ポート３位置切り替え型の電磁切り替え弁９１である。

上述の実施形態では、シリンダ７０のロッド側室７１ａとヘッド側室７１ｂとの位置関係について、ロッド側室７１ａが上側、ヘッド側室７１ｂがした側に配置される場合について説明した。しかしながら、ロッド側室７１ａが下側に、ヘッド側室７１ｂが上側に配置されてもよい。すなわち、図１に示す形態に比べて、シリンダ７０は、上下方向が逆に配置されてもよい。この場合、ロッド７３の一端部は、例えば、昇降台５１の上部に連結される。

この場合、ヘッド側室７１ｂにアキュムレータ８２から圧力油が供給されて、シリンダ７０から第１の力Ｆ（Ｆ＝ｆ−ｆ’）に対抗する第１の反力ＲＦが発生される。また、この場合、ロッド側室７１ａにアキュムレータ８２から圧力油が供給されて、シリンダ７０から第２の力Ｆ’（Ｆ’＝ｆ）に対抗する第２の反力ＲＦ’が発生される。

＜第２実施形態＞
次に、本発明の第２実施形態について説明する。第２実施形態の説明において、上述の第１実施形態と同様の構成及び機能を有する部材等については、説明を省略又は簡略化する。

上述の第１実施形態では、処理室１０の内外の圧力差による力ｆ’が、昇降台５１等の重力ｆよりも大きく（ｆ’＞ｆ）、処理室１０の減圧時に昇降台５１からボールネジ軸６２に対して上向きに第１の力Ｆが作用する場合について説明した。

一方、第２実施形態では、処理室１０の内外の圧力差による力ｆ’が昇降台５１等の重力ｆよりも小さく（ｆ’＜ｆ）、処理室１０の減圧時に昇降台５１からボールネジ軸６２に対して下向に第１の力Ｆが作用する場合が想定されており、これにより、油圧回路の構成が異なっている。

図５は、第２実施形態に係るプラズマＣＶＤ装置を示す図である。
図５に示すように、第２実施形態に係るプラズマＣＶＤ装置２００の油圧回路１１０では、ロッド側室７１ａと、アキュムレータ８２との間に電磁切り替え弁１１１が介在されている。
この電磁切り替え弁１１１は、２つのソレノイド１１１ａ、１１１ｂを有する３ポート２位置切り替え型の電磁切り替え弁１１１である。

第２実施形態では、処理室１０の内外の圧力差による力ｆ’が昇降台５１等の重力ｆよりも小さく（ｆ’＜ｆ）、処理室１０の減圧時に昇降台５１からボールネジ軸６２に対して下向きに第１の力Ｆ（Ｆ＝ｆ−ｆ’）が作用する。

一方、処理室１０が大気状態の場合、昇降台５１、昇降台５１に支持される保持機構４０等の重力ｆが、昇降台５１からボールネジ軸６２に下向きに作用する（第２の力Ｆ’（Ｆ’＝ｆ））。
なお、第１の力Ｆと、第２の力Ｆ’とは、向きは同じであるが、大きさは、第２の力Ｆ’の方が第１の力Ｆよりも大きい。

図６は、処理室１０が減圧状態である場合及び処理室１０が大気圧状態である場合の油圧回路１１０の状態を示す図である。図６（Ａ）には、処理室１０が減圧状態である場合の油圧回路１１０の状態（電磁切り替え弁１１１の位置）が示されており、図６（Ｂ）には、処理室１０が大気圧状態である場合の油圧回路１１０の状態（電磁切り替え弁１１１の位置）が示されている。

処理室１０が減圧された状態では、ソレノイド１１１ｂがＯＮ、ソレノイド１１１ａがＯＦＦとされており、電磁切り替え弁１１１は、図６（Ａ）に示す位置に配置されている。
このとき、アキュムレータ８２から、シリンダチューブ７１のロッド側室７１ａ及びヘッド側室７１ｂの両方の部屋に圧力油が供給される。

このとき、ロッド側室７１ａに圧力油が供給されることで、ピストン７２の上面側には、アキュムレータ８２からの圧力油の圧力Ｐと、シリンダチューブ７１の内部断面積Ｓ１及びロッド７３の断面積Ｓ２の差分（Ｓ１−Ｓ２）との積による力ｆ１（ｆ１＝Ｐ×（Ｓ１−Ｓ２））が加わる。

一方、ヘッド側室７１ｂに圧力油が供給されることで、ピストン７２の下面側には、アキュムレータ８２からの油圧油の圧力Ｐと、シリンダチューブ７１の内部断面積Ｓ１との積による力ｆ２が加わる（ｆ２＝Ｐ×Ｓ１）。

これにより、ピストン７２には、上向きに力ＲＦ（ＲＦ＝ｆ２−ｆ１）が発生する。この上向きに発生する力ＲＦが、減圧時に昇降台５１からボールネジ軸６２に下向に作用する第１の力Ｆ（Ｆ＝ｆ−ｆ’）に対抗する第１の反力ＲＦとなる。

プラズマＣＶＤ装置１００のメンテナンス等で、処理室１０が大気圧に開放されると、制御部５の制御によりソレノイド１１１ｂがＯＦＦ、ソレノイド１１１ａがＯＮとされ、電磁切り替え弁１１１は、図６（Ｂ）に示す位置に移動する。

電磁切り替え弁１１１が移動されると、電磁切り替え弁１１１により、ロッド側室７１ａと、アキュムレータ８２との間の油路が遮断される。これにより、ヘッド側室７１ｂにのみアキュムレータ８２から圧力油が供給される。なお、電磁切り替え弁１１１の移動により、ロッド側室７１ａと、リザーバタンク８９との間の油路が開通し、これにより、ロッド側室７１ａの内部の油は、フリーの状態となる。

ヘッド側室７１ｂにアキュムレータ８２から圧力油が供給されることで、ピストン７２には、上方へ向けて第２の反力ＲＦ’が発生する。すなわち、ヘッド側室７１ｂにアキュムレータ８２から圧力油が供給されることで、処理室１０が大気圧状態であるときにボールネジ軸６２に下向きに作用する第２の力Ｆ’（Ｆ’=ｆ）に対抗する第２の反力ＲＦ’が上向きにピストン７２に発生する。

なお、処理室１０内が大気圧状態のときにピストン７２から発生する第２の反力ＲＦ’と、処理室１０内が減圧状態のときにピストン７２に発生する第１の反力ＲＦとは、向きが同じであるが、第２の反力ＲＦ’の方が第１の反力ＲＦよりも大きい。

この第２実施形態においても、上述の第１実施形態と同様の効果を奏する。
すなわち、昇降台５１等の昇降時には、昇降台５１からボールネジ軸６２に作用する力Ｆ、Ｆ’は、反力ＲＦ、ＲＦ’によってほとんど相殺されているので、モータ６１は、小さな力でスムーズに昇降台５１を昇降させることができる。また、ボールネジ軸６２や、モータ６１にかかる負荷が軽減されるので、駆動部６０の長寿命化を図ることができる。

さらに、第２実施形態においても、アキュムレータ８２から圧力油がシリンダ７０に供給されることで、反力ＲＦ、ＲＦ’を発生させることができるので、昇降台５１等の昇降時に油圧ポンプ８１を駆動させ続ける必要がない。これにより、油圧ポンプ８１の消費電力を低減させることができる。

＜各種変形例＞
上述の各実施形態の説明では、処理装置の一例として、プラズマＣＶＤ装置を例に挙げて説明した。しかし、処理装置は、プラズマＣＶＤ装置に限られない。処理装置の他の例としては、例えば、スパッタリング装置、蒸着装置等のＰＶＤ（Physical Vapor Deposition）装置や、熱ＣＶＤ装置等のＣＶＤ装置などが挙げられる。
処理装置は、処理室１０が減圧状態と、大気圧状態とに切り替えられる形態に限られない。例えば、処理装置は、大気圧状態で、被処理基板１に処理を施すレジスト塗布装置等であってもよい。この場合、減圧状態と、大気圧状態とで、油圧回路を切り替える電磁切り替え弁等は、設けられていなくてもよい。

図７は、搬送装置の一例を示す図である。
搬送装置３００は、搬送室３１０と、搬送室３１０の下方に連結されたフレーム３１１とを備える。搬送室３１０には、コンダクタンスバルブ２１を介して真空ポンプ２２が連結されている。搬送室３１０には、複数のゲートバルブ１２が設けられており、このゲートバルブ１２を介して、処理室１０等と繋がっている。

また、搬送装置３１０は、被処理基板を保持するハンド３２１と、複数のリンク３２２とを有する伸縮可能なアームと、アームに連結されてアームを伸縮させる２つの駆動軸３２３と、２つ駆動軸３２３を独立して回転させる２つのモータ３２４とを有する搬送機構３２０を備える。２つモータ３２４は、ハウジング３２５（昇降部）内部に収容されている。ハウジング３２５は、ベローズ３１３を介して搬送室３１０の下壁部に連結されている。

また、搬送装置３００は、上下方向に延びるボールネジ軸６２と、ハウジング３２５の外周部に設けられたボールネジナット６３と、ボールネジ軸６２を回転させるボールネジ駆動用モータ６１とを有する駆動部６０を備える。

また、搬送装置３００は、アキュムレータ８２を含む油圧回路８０と、アキュムレータ８２から圧力油が供給されて上記反力を発生するシリンダ７０とを有する。

図７では、油圧回路８０の一例として、図１に示した油圧回路８０を例に挙げたが、図４に示した油圧回路９０あるいは、図５に示した油圧回路１１０が用いられてもよい。

このような、搬送装置においても、上述の各実施形態で説明した場合と同様の作用効果を奏する。

上述の説明では、駆動部６０の一例として、ボールネジ軸６２、ボールネジナット６３及びボールネジ駆動用モータ６１を含む形態を挙げて説明した。しかし、駆動部６０は、これに限られない。例えば、駆動部６０として、ラックアンドピニオン、ベルトアンドプーリ等が用いられてもよい。

また、上述の説明では、流体回路の一例として、油圧回路８０、９０、１１０を上げて説明したが、流体回路は、圧縮空気回路であっても構わない。すなわち、作動流体として油の代わりに空気が用いられてもよい。

１…被処理基板
５…制御部
１０…処理室
１３…ベローズ
１４…処理室圧力センサ
４０…保持機構
５０…昇降機構
５１…昇降台
６０…駆動部
６１…モータ
６２…ボールネジ軸
６３…ボールネジナット
７０…シリンダ
７１…シリンダチューブ
７１ａ…ロッド側室
７１ｂ…ヘッド側室
７２…ピストン
７３…ロッド
８０、９０、１１０…油圧回路
８１…油圧ポンプ
８２…アキュムレータ
８３、８４、９１、１１１…電磁切り替え弁
８５…アキュムレータ圧力センサ
１００、２００…プラズマＣＶＤ装置
３００…搬送装置

Claims (8)

1. 圧力が変化する処理室と、
   前記処理室内で処理対象物を保持する保持機構と、
   前記保持機構を支持し、前記保持機構を昇降させる昇降部と、
   前記昇降部を昇降させる駆動力を発生する駆動源と、前記昇降部の昇降方向へ延び、前記駆動源の駆動力を前記昇降部に伝達する駆動力伝達部材とを有する駆動部と、
   流体圧源から供給される作動流体を蓄圧するアキュムレータと、
   前記アキュムレータから前記作動流体が供給されることで、前記昇降方向に沿って前記昇降部から前記駆動伝達部材に作用する力に対抗する反力を発生し、前記発生された反力を前記昇降部に伝える反力発生部と
   を具備する処理装置。
2. 請求項１に記載の処理装置であって、
   前記アキュムレータの圧力を検出するセンサと、
   前記検出された前記アキュムレータの圧力の検出値に応じて、前記流体圧源の駆動を制御することで、前記アキュムレータに蓄圧される前記作動流体の圧力を制御する制御部とをさらに有する
   処理装置。
3. 請求項２に記載の処理装置であって、
   前記制御部は、前記アキュムレータの圧力の検出値が第１の値以下となった場合に、前記流体圧源を駆動させるように、かつ、前記アキュムレータの圧力の検出値が第１の値よりも大きい第２の値以上となった場合に、前記流体圧源の駆動を停止させるように、前記流体圧源の駆動を制御する
   処理装置。
4. 請求項１に記載の処理装置あって、
   前記昇降部は、第１の圧力と、前記第１の圧力よりも高い第２の圧力との間で圧力が変化する減圧室に対してベローズを介して接続されており、
   前記反力発生部は、前記減圧室が前記第１の圧力のときに前記昇降部から前記駆動伝達部材に作用する第１の力に対抗する第１の反力を発生させ、前記減圧室が前記第２の圧力のときに前記昇降部から前記駆動伝達部材に作用する第２の力に対抗する第２の反力を発生させる
   処理装置。
5. 請求項４に記載の処理装置であって、
   前記減圧室の内圧に応じて、前記反力発生部により前記第１の反力が発生される第１の状態と、前記反力発生部により前記第２の反力が発生される第２の状態とを切り替える切り替え部をさらに具備する
   処理装置。
6. 請求項５に記載の処理装置であって、
   前記切り替え部は、
   前記アキュムレータと前記反力発生部との間に介在された電磁切り替え弁と、
   前記減圧室の内圧を検出するセンサと、
   前記検出された前記減圧室の内圧の検出値に応じて、前記電磁切り替え弁の駆動を制御することで前記第１の状態と、前記第２の状態とを切り替える制御部とを有する
   処理装置。
7. 請求項５に記載の処理装置であって、
   前記反力発生部は、
   シリンダチューブと、
   前記シリンダチューブ内部を第１の部屋及び第２の部屋とに区分し、前記第１の部屋に前記アキュムレータから前記作動流体が供給されて前記第１の反力を発生し、かつ、前記第２の部屋にアキュムレータから前記作動流体が供給されて前記第２の反力を発生するピストンと、
   前記ピストンに発生した前記第１の反力または前記第２の反力を前記昇降部に伝えるロッドとを有するシリンダであり、
   前記切り替え部は、前記減圧室の内圧に応じて、前記アキュムレータから前記第１の部屋に前記作動流体を供給する第１の供給状態と、前記アキュムレータから前記第２の部屋に前記作動流体を供給する第２の供給状態とを切り替えることで前記第１の状態と、前記第２の状態とを切り替える
   処理装置。
8. 搬送室と、
   前記搬送室内で処理対象物を搬送する搬送機構と、
   前記搬送機構を支持し、前記搬送機構を昇降させる昇降部と、
   前記昇降部を昇降させる駆動力を発生する駆動源と、前記昇降部の昇降方向へ延び、前記駆動源の駆動力を前記昇降部に伝達する駆動力伝達部材とを有する駆動部と、
   流体圧源から供給される作動流体を蓄圧するアキュムレータと、
   前記アキュムレータから前記作動流体が供給されることで、前記昇降方向に沿って前記昇降部から前記駆動伝達部材に作用する力に対抗する反力を発生し、前記発生された反力を前記昇降部に伝える反力発生部と
   を具備する搬送装置。

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